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双极集成电路
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
一种基于
双
极
集成电路
的复合钝化层的制作方法
本发明公开了一种基于
双
极
集成电路
的复合钝化层的制作方法,包括步骤:于衬底上制作介质层,并曝光显影所述介质层;制作第一氮化硅层,使用曝光所述介质层的掩膜板,显影所述第一氮化硅层;于所述第一氮化硅层上布线并形
成
金属层,所述金...
刘向宇
缪文华
一种基于
双
极
集成电路
工艺平台的晶闸管
集
成
技术
本发明公开了一种基于
双
极
集成电路
工艺平台的晶闸管
集
成
技术,涉及微电子领域,属于半导体
集成电路
技术。本发明利用现有
双
极
工艺平台中的埋层、埋硼、隔离、基区、发射区等几个工艺步骤,在结构上形
成
晶闸管的PNPN四个区域,再将电
极
...
徐晓慧
冯涛
一种
双
极
集成电路
的隔离结构及隔离结构的形
成
方法
本发明公开了一种
双
极
集成电路
的隔离结构,其包括
成
型在
集成电路
隔离区的深槽和填充在所述深槽内的环氧树脂隔离材料。所述环氧树脂隔离材料可以为光敏环氧树脂隔离材料或非光敏环氧树脂隔离材料。本发明还公开了该
双
极
集成电路
的隔离结构...
黄平
文献传递
一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片
本发明公开了一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片,其结构包括隔层、第一铜片、塑料体、凹陷槽、固定孔、固定底板、LOGO标志、第二铜片、线路表面保护层、焊盘、芯片源电
极
、芯片栅电
极
、芯片表面保护层、线路层、金属线、
集
成
电...
周元忠
冯方舟
仲昊
文献传递
一种
双
极
集成电路
的隔离结构及隔离结构的形
成
方法
本发明公开了一种
双
极
集成电路
的隔离结构,其包括
成
型在
集成电路
隔离区的深槽和填充在所述深槽内的环氧树脂隔离材料。所述环氧树脂隔离材料可以为光敏环氧树脂隔离材料或非光敏环氧树脂隔离材料。本发明还公开了该
双
极
集成电路
的隔离结构...
黄平
文献传递
一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片
本发明公开了一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片,其结构包括隔层、第一铜片、塑料体、凹陷槽、固定孔、固定底板、LOGO标志、第二铜片、线路表面保护层、焊盘、芯片源电
极
、芯片栅电
极
、芯片表面保护层、线路层、金属线、
集
成
电...
周元忠
冯方舟
仲昊
文献传递
一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片
本实用新型公开了一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片,其结构包括基准口、上封装板、导向孔、隔离板、下封装板、VCC引脚、GND引脚、RST接入引脚、XTAL接入引脚、XTAL接入引脚、PSEN接入引脚、输出引脚、备用输...
李培林
文献传递
一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片及其生产工艺
本发明公开一种基于沟槽介质隔离的
双
极
集成电路
芯片及其生产工艺,属于
集成电路
设计/制造领域,所述生产工艺依次包括N+埋层形
成
、下隔离区形
成
、外延层形
成
、磷桥区形
成
、上隔离区形
成
和沟槽形
成
等步骤,采用上述生产工艺制得的基于沟...
鄢细根
杨振
张晓新
朱国夫
余庆
廖洪志
赵铝虎
潘国刚
黄少南
文献传递
一种改善
双
极
集成电路
放大系数的工艺技术
2016年
为解决带有氮化硅薄膜工艺的BJT与JFET兼容的
双
极
型
集成电路
横向PNP管和纵向PNP管放大系数衰减的技术难点,对此类
电路
的工艺现状进行分析并对工艺途径进行优化改善,在淀积氮化硅工艺前增加预刻孔工艺,释放氮化硅介质薄膜应力,使其与
双
极
电路
的特性相匹配,有效预防PNP管放大系数的衰减,提高了PNP管放大系数的稳定性。
简崇玺
姜楠
周福虎
高博
关键词:
双极电路
PNP管
应力
互补
双
极
集成电路
(CBIC)工艺平台的开发及仿真设计
随着科技的不断发展进步,很多电子系统中对
集
成
运算放大器速度、带宽以及更小能耗都提出了更高的性能要求而互补
双
极
模拟
电路
工艺满足这些要求的新高速宽带
集
成
运算放大器最佳选择。互补
双
极
工艺能在同一芯片上获得具有
极
小寄生电容的高频...
张欣慰
关键词:
集成电路
互补双极工艺
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尹洪剑
作品数:39
被引量:22
H指数:2
供职机构:重庆电子工程职业学院
研究主题:发射极 集电区 光电检测电路 港口 光电探测器
王祖军
作品数:135
被引量:267
H指数:11
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肖志刚
作品数:182
被引量:297
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叶润涛
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曾莉
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