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图案化
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
图案化
工艺
本发明提供一种
图案化
工艺,其包括以下步骤。在衬底上形成材料层。使用压印模仁对所述材料层进行压印工艺,以形成具有多个
图案
部分的
图案化
材料层。在相邻的所述
图案
部分之间形成硬掩模层。使用所述硬掩模层作为蚀刻掩模来进行蚀刻工艺,...
张登耀
汤志贤
图案化
方法
本公开提供一种
图案化
方法,涉及半导体技术领域,用于改善多重
图案化
工艺中的奇偶效应问题。该
图案化
方法包括:提供基底;在基底上形成第一掩膜层;
图案化
第一掩膜层以形成多个第一芯轴结构,相邻的两个第一芯轴结构之间具有第一沟槽,每...
卓越
图案化
糊剂
公开了一种用于对金属纳米线进行
图案化
的
图案化
糊剂,所述
图案化
糊剂包括包含硫氰酸胍的络合剂。一种选择性地对具有金属纳米线的衬底进行
图案化
的方法包括:提供具有承载金属纳米线的表面的衬底;以及将所述
图案化
糊剂选择性地施加到所述...
P·F·齐达姆
S·R·德柏雷
图案化
方法
本公开实施例提供一种
图案化
方法,涉及半导体技术领域,用于解决
图案化
精准度差的技术问题,该
图案化
方法包括提供具有第一区域和第二区域的目标层,其中,位于第一区域的目标层上具有多个第一芯轴结构,位于第二区域的目标层上具有多个第...
盛薄辉
王雪菲
光刻
图案化
方法
一种
图案化
方法,包括:在基板上形成第一光刻胶层;使用具有掩模
图案
的线和空间的掩模版和曝光设备以高于或等于阈值能量的第一曝光能量对第一光刻胶层进行第一分区曝光;以及将掩模版偏移低于掩模
图案
的线宽的量,并且使用掩模版以高于或...
宋政哲
朴民俊
李完珪
朴钟完
图案化
纤维基底
提供了具有多根单独纤维、第一区域和第二区域的
图案化
纤维基底。该
图案化
纤维基底具有第一区域的具有第一直径的多根单独纤维,以及第二区域的具有第二直径的多根单独纤维,其中第一直径小于第二直径。第一区域的单独纤维和第二区域的单独...
K·A·阿罗拉
T·I·马兰
N·R·惠特列
J·T·克纳普梅耶
M·D·朗
图案化
导电制品
本发明提供了
图案化
导电制品200,该
图案化
导电制品包括基底210,该基底包括一体式层210‑1并且包括至少部分地嵌入该一体式层中的传导迹线220的微
图案
。每条传导迹线沿着该传导迹线的纵向(y方向)延伸并且包括具有顶部主表...
雷蒙德·P·约翰斯顿
凯文·W·戈特里克
约翰·J·沙利文
肯尼思·A·P·梅尔
约瑟夫·C·卡尔斯
张海燕
格雷戈里·L·亚伯拉罕
马修·S·斯泰
图案化
胶膜和光伏组件
本发明提供了一种
图案化
胶膜和光伏组件。该
图案化
胶膜包括底层胶膜和设置于底层胶膜表面的
图案化
涂层,底层胶膜在100℃下的最小力矩值M为0.2~2.5dN·m,
图案化
涂层的断裂伸长率≥20%。本申请的
图案化
胶膜中的
图案化
涂层...
邓伟
杨楚峰
吴倩
图案化
底层结构的方法
本发明公开一种
图案化
底层结构的方法,包括以下步骤。对底层结构执行第一
图案化
制作工艺,以形成包括第一开口的第一
图案化
底层结构。形成
图案化
光致抗蚀剂层,其中
图案化
光致抗蚀剂层填入第一开口中。对第一
图案化
底层结构执行第二
图案化
...
陈韵安
黄筱珊
林晓江
一种用于
图案化
的系统
本发明实施例公开一种用于
图案化
的系统。在一具体实施方式中,该系统包括该系统包括激光光源,用于提供激光光束;空间光调制器,用于将其入射光束形成为携带
图案
信息的激光光束;分束元件,用于将其入射光束形成多束分光光束,以及成像组...
董贤子
周子逸
郑美玲
金峰
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宋延林
作品数:781
被引量:597
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魏洋
作品数:321
被引量:6
H指数:1
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作品数:96
被引量:2
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供职机构:清华大学
研究主题:碳纳米管 图案化 电极 太阳能电池 发光二极管
杨柏
作品数:685
被引量:1,165
H指数:18
供职机构:吉林大学
研究主题:荧光 胶体晶体 纳米晶 碳 自组装
朱振东
作品数:96
被引量:1
H指数:1
供职机构:清华大学
研究主题:基底 纳米 发光二极管 电极 图案化
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