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江苏高校优势学科建设工程资助项目(1033000002)
作品数:
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相关作者:
马明
高传玉
李保家
李浩华
周明
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江苏高校优势学科建设工程资助项目
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H_2气氛退火处理温度对磁控溅射ZnO薄膜光电性能的影响
2013年
在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,其在360~960nm波长范围内的平均透光率为76.35%,方块电阻为6.3kΩ/□。
马明
高传玉
周明
李保家
李浩华
关键词:
ZNO薄膜
退火温度
透光率
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