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国家自然科学基金(60276008)

作品数:7 被引量:22H指数:4
相关作者:孙聂枫孙同年谢德良徐永强刘二海更多>>
相关机构:中国电子科技集团第十三研究所河北半导体研究所天津大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国防科技重点实验室基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 6篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 4篇单晶
  • 3篇磷化铟
  • 3篇INP
  • 2篇单晶材料
  • 2篇位错
  • 2篇位错密度
  • 2篇
  • 2篇INP单晶
  • 1篇单晶生长
  • 1篇载流子
  • 1篇载流子输运
  • 1篇直径
  • 1篇熔体
  • 1篇输运
  • 1篇四波混频
  • 1篇孪晶
  • 1篇非掺杂
  • 1篇半绝缘
  • 1篇
  • 1篇INDIUM

机构

  • 3篇中国电子科技...
  • 2篇河北半导体研...
  • 2篇天津大学
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇河北工业大学
  • 1篇天津农学院
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 5篇孙聂枫
  • 4篇孙同年
  • 2篇杨光耀
  • 2篇周晓龙
  • 2篇刘二海
  • 2篇徐永强
  • 2篇谢德良
  • 1篇张伟玉
  • 1篇董彦辉
  • 1篇杨瑞霞
  • 1篇陈秉克
  • 1篇周晓龙
  • 1篇李光平
  • 1篇齐志华
  • 1篇郭维廉
  • 1篇李昌青
  • 1篇毛陆虹
  • 1篇周晓龙
  • 1篇安娜
  • 1篇周智慧

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇Journa...
  • 1篇中国电子科学...

年份

  • 3篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
InP单晶材料现状与展望被引量:13
2005年
介绍了制备InP单晶材料的主要方法,包括传统液封直拉技术(LEC)、改进的LEC技术、气压控制直拉技术(VCZ0PC-LEC)0垂直梯度凝固技术(VGF)0垂直布里奇曼技术(VB)等。对这些方法进行了分析和对比,指出各种方法的优势和发展方向。还讨论了大直径InP单晶生长技术的发展和关键因素。
孙聂枫周晓龙陈秉克孙同年
关键词:单晶材料
Φ100mm掺硫InP单晶生长研究被引量:6
2004年
InP以其众多的优越特性使之在许多高技术领域有广泛应用。掺硫n型InP材料用于激光器、LED、光放大器、光纤通信等光电领域。为了降低成本和适应新型器件制造的要求,本文进行了直径100mm掺硫InP单晶生长和性质研究。首先解决了大容量直接合成技术,其次解决了大直径单晶生长的关键技术,保证了一定的成晶率。采用降低温度梯度等措施,降低位错密度,提高晶体完整性。制备出100mm掺硫InP整锭<100>InP单晶和单晶片。经过测试其平均EPD小于5×104cm-2,载流子浓度大于3×1018cm-3。本文还对影响材料成晶的放肩角进行了研究,一般生长大直径单晶采用大于70°或平放肩技术都可以有效地避免孪晶的产生。
徐永强李贤臣孙聂枫杨光耀周晓龙谢德良刘二海孙同年
关键词:磷化铟单晶生长位错密度
非掺杂InP中深陷阱与载流子的产生和输运的影响
2007年
利用四波混频(FWM)技术对未掺杂双面抛光的InP晶片进行了测试分析.室温下在1064nm用时间分辨皮秒四波混频技术测试了材料的载流子的产生、复合、衰减动力学以及曝光特性等过程.阐明了InP中深陷阱在载流子的产生与输运中的作用,并给予了解释.未掺杂InP样品的衍射效率作为能量函数可用两个光栅周期来表达.未掺杂InP样品中的深施主缺陷也由空间电荷载流子的输运过程来证实.
周晓龙
关键词:磷化铟四波混频载流子输运
InP Bulk Crystals Grown from Various Stoichiometric Melt
2006年
InP crystal was grown from stoichiometric or non-stoichiometric melt, including P-rich and In-rich condition by the P-injection synthesis LEC method. Owing to the non-stoichiometric condition, there are many pores in the tail of the P-rich ingot. Samples were characterized by high speed photoluminescence mapping and E.P.D. mapping. The perfection (dislocation, stoichiometry and uniformity) of these samples were studied and compared. The PL peak intensity standard deviation of the 4-inch InP wafer is higher. The EPDs around the pores are higher than the other regions. Besides the stress releasing, the pores and the high concentration of dislocations around them are the leading factors causing the inhomogeneity of the wafer. By adjusting the thermal field and ensuring the chemical stoichiometry, InP crystals of larger diameters and better performance can be developed.
Wu Xiang Mao Luhong Sun Niefeng Zhao Zhengping Zhou Xiaolong Sun Tongnian
关键词:INDIUMPHOSPHIDEPHOTOLUMINESCENCE
不同熔体配比InP材料中的缺陷研究被引量:3
2007年
采用原位磷注入合成法在高压单晶炉内分别合成了富铟、近化学配比、富磷的InP熔体,利用液封直拉法(LEC)分别从不同化学计量比条件下的InP熔体中生长InP单晶材料。对材料分别进行了室温Hall,变温Hall的测试。结果表明富磷熔体条件下具有较高浓度的VInH4复合体,富铟熔体条件VInH4的浓度最低。
齐志华李昌青孙聂枫
关键词:磷化铟
富磷熔体中生长的φ100 mm掺硫InP单晶研究被引量:5
2004年
采用原位磷注入合成法在高压单晶炉内合成富磷的磷化铟 (In P)熔体 ,并利用液封直拉法 (LEC)生长出了 1 0 0 mm In P掺硫单晶材料。对富磷单晶分别用快速扫描光荧光谱技术、腐蚀金相法和扫描电镜进行了研究。结果表明在富磷量足够大的情况下 ,晶片上会出现孔洞 ,并对孔洞周围位错的形成原因及分布进行了分析。 1 0 0 mm In P单晶的平均位错密度也没有明显的增加 ,为今后生长更大尺寸的完整 In
周晓龙安娜孙聂枫徐永强杨光耀谢德良刘二海李光平周智慧董彦辉孙同年
关键词:位错密度
半绝缘InP长单晶的生长被引量:4
2007年
通过对高压液封直拉法InP单晶生长过程的几个关键因素的分析,设计了合适的热场系统,有效地降低了孪晶产生的几率.在自己设计制造的高压单晶炉内首先将铟和磷进行合成,然后采用坩埚随动技术等重复生长了直径为50mm,长190mm和直径80~100mm,长150mm的半绝缘InP单晶.
孙聂枫毛陆虹郭维廉周晓龙杨瑞霞张伟玉张伟玉
关键词:INP孪晶直径
共1页<1>
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