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浙江省教育厅科研计划(20070324)

作品数:2 被引量:4H指数:2
相关作者:朱从容吕冰海邓乾发袁巨龙文东辉更多>>
相关机构:湖南大学浙江工业大学浙江海洋学院更多>>
发文基金:浙江省教育厅科研计划浙江省重中之重学科开放基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程

主题

  • 2篇金薄膜
  • 2篇合金
  • 2篇合金薄膜
  • 1篇田口方法
  • 1篇抛光
  • 1篇晶态
  • 1篇工艺优化研究
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶态

机构

  • 2篇湖南大学
  • 2篇浙江海洋学院
  • 2篇浙江工业大学

作者

  • 2篇吕冰海
  • 2篇朱从容
  • 1篇文东辉
  • 1篇袁巨龙
  • 1篇邓乾发

传媒

  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
基于田口方法的合金薄膜铜衬底超精密抛光工艺优化研究被引量:2
2008年
为了获得性能优良的电化学沉积合金薄膜,需要精度非常高的合金薄膜铜衬底。以铜衬底表面粗糙度Ra和Rt为评价目标,探讨了基于田口方法的铜衬底抛光工艺参数优化设计方法。在给定工件材料和磨料(种类和粒度)的条件下,加工载荷、磨料浓度和加工速度是影响铜衬底抛光表面质量的主要工艺参数。运用田口方法进行了实验设计,并通过对实验结果的分析,得出了最佳的抛光工艺参数组合,采用该实验条件进行加工获得了非常光滑的铜衬底表面(Ra6 nm,Rt60 nm),表明田口方法能够有效的应用于铜衬底抛光工艺参数的优化设计和分析。
朱从容袁巨龙吕冰海文东辉
关键词:田口方法抛光
非晶态合金薄膜铜衬底超精密抛光的实验研究被引量:2
2011年
本文采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫对铜衬底进行超精密抛光工艺研究,对铜衬底的表面粗糙度、材料去除率以及铜衬底表面组织结构变化过程进行了研究,并讨论了铜衬底在超精密抛光时,不同抛光条件对其表面粗糙度和材料去除率的影响,以及抛光压力对铜衬底的表面形成过程的影响。结果表明,采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫可以消除划痕,抛光后的铜衬底表面粗糙度可达Ra6 nm。
朱从容吕冰海邓乾发任尹飞
关键词:合金薄膜
共1页<1>
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