您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(60176024)

作品数:4 被引量:38H指数:3
相关作者:方容川廖源余庆选王冠中徐波更多>>
相关机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金安徽省自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇HFCVD
  • 1篇氮化镓
  • 1篇氮化镓薄膜
  • 1篇应力
  • 1篇应力和
  • 1篇硼掺杂
  • 1篇气相沉积
  • 1篇热丝
  • 1篇孪晶
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶粒
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光谱
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光

机构

  • 3篇中国科学技术...

作者

  • 3篇余庆选
  • 3篇廖源
  • 3篇方容川
  • 2篇王冠中
  • 1篇常超
  • 1篇田宇全
  • 1篇吴气虹
  • 1篇牛晓滨
  • 1篇徐波
  • 1篇刘卫平

传媒

  • 2篇无机材料学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇Chines...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2005
  • 2篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
硼掺杂对金刚石薄膜生长特性的影响被引量:4
2005年
采用HFCVD方法制备了掺硼金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和X射线衍射光谱对样品的表面形貌及结构进行了分析.结果表明,随着硼含量的增加,薄膜中晶粒的取向由(100)变为(111),然后趋向于无序化.硼的掺入同样影响到孪晶晶粒的形态及生长因子α,使得α变小.通过对样品的Raman光谱分析,得出在适当的硼掺杂浓度下,孪晶的出现使金刚石薄膜中的应力得到松弛,从而中心声子线Raman位移红移较小.
刘卫平余庆选田宇全廖源王冠中方容川
关键词:孪晶HFCVD硼掺杂金刚石薄膜
Diffusion of an Extra Ga Atom in GaAs(001)(2×4) Rich-As Surface
2008年
The potential energy surface for the migration of an extra Ga atom on the GaAs(001) β2(2×4) surfuce was mapped out by performing calculations at the level of analytical bond-order potential. Based on this calculations, we found some lower-energy sites for the adsorption of an extra Ga atom in the surface, which were in agreement with the experimental data. Moreover, many possible pathways for an extra Ga atom diffusing in this surface were revealed. According to the relative energies of the possible pathways, the individual Ga adatoms preferably keep their diffusion in two pathways parallel to the As dimers. This result can be understood using the strain caused by the diffusing Ga atom in the pathways. In addition, the simulated kinetic processes of the extra Ga atom diffusing in different pathways at finite temperatures support the prediction from our calculated potential energy surface.
Kun LiBi-cai Pan
关键词:SURFACE
应力和掺杂对Mg:GaN薄膜光致发光光谱影响的研究被引量:17
2004年
对化学气相沉积 (MOCVD)法在宝石衬底上生长的Mg掺杂GaN薄膜的表面及其GaN缓冲层的光致发光 (PL)光谱进行了测量 ,用Raman光谱和x射线衍射 (XRD)对GaN薄膜中的应力进行确定 ,通过PL光谱中的中性束缚激子跃迁能量的变化确定薄膜中应力的影响 ,从而研究Mg掺杂对p型GaN的DAP跃迁影响规律 .
徐波余庆选吴气虹廖源王冠中方容川
关键词:应力氮化镓薄膜光致发光拉曼光谱
热丝CVD生长SiCN薄膜的研究被引量:17
2004年
在HFCVD系统中采用SiH4/CH4/H2/N2混合气体成功的制备了SiCN薄膜.SEM照片显示制备的SiCN薄膜由棒状结构构成,而在HRTEM下发现这些棒状结构是由生长在无定型SiCN基体当中的纳米晶粒组成的.进一步的SAED和XRD分析说明SiCN纳米晶粒具有类似于α-Si3N4的结构.XPS和FTIR分析表明薄膜中含有Si、C、N和O几种元素以及C=N、Si-N和C-N等共价键,但是并没有观察到C-Si的存在.由实验得出结论,SiCN晶体的生长包括两个步骤:α-Si3N4团簇的生长和C取代其中Si的过程.
牛晓滨廖源常超余庆选方容川
关键词:HFCVD化学气相沉积纳米晶粒薄膜生长
共1页<1>
聚类工具0