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中国博士后科学基金(20070410774)
作品数:
5
被引量:15
H指数:2
相关作者:
蔡苇
邓小玲
符春林
潘复生
高家诚
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相关机构:
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符春林
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邓小玲
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潘复生
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5篇
2008
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金属有机化学气相沉积制备铁电薄膜材料研究进展
被引量:3
2008年
铁电薄膜是一类重要的功能材料,是近年来高新技术研究的前沿和热点之一。金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备铁电薄膜的一种重要方法。综述了金属有机化学气相沉积法制备铁电薄膜的历史、原理、工艺参数、特点和采用此方法制备出的某些材料的铁电性能。
符春林
潘复生
蔡苇
邓小玲
关键词:
金属有机化学气相沉积
铁电
电畴尺寸研究进展
2008年
铁电体是一类重要的功能材料,电畴是其物理基础。综述了电畴尺寸的影响因素、晶粒临界尺寸(包括单畴临界尺寸和铁电临界尺寸)、厚度临界尺寸等方面的研究进展,提出了研究中需要解决的问题。
符春林
潘复生
蔡苇
邓小玲
关键词:
无机非金属材料
电畴
尺寸
铁电
锆钛酸钡掺杂改性研究进展
被引量:10
2008年
综述了锆钛酸钡(BaZrxTi1–xO3,简称BZT)材料的掺杂种类以及掺杂对晶粒尺寸、相变温度、介电非线性和介电弛豫的影响等方面的最新研究进展,提出了研究中在掺杂与结构等方面需要解决的一些问题。
蔡苇
高家诚
符春林
邓小玲
关键词:
电子技术
掺杂
扫描力显微镜(SFM)法表征电畴的研究进展
2008年
铁电体是一类重要的功能材料,电畴是其物理基础。综述了利用原子力显微镜(AFM)、压电力显微镜(PFM)、扫描非线性介电显微镜(SNDM)表征铁电材料中电畴的研究进展,指出了这几种方法的优、缺点,提出了研究中需要解决的问题。
符春林
潘复生
蔡苇
邓小玲
关键词:
电畴
CMOS器件用金属栅材料的研究进展
被引量:2
2008年
传统多晶硅栅已不能适应CMOS器件尺寸进一步减小的要求,因此需要金属栅极材料来取代多晶硅。本文综述了多晶硅栅极存在的问题;金属栅极材料性能的要求;新型金属栅材料的研究进展及热点。最后提出了金属栅极材料研究中需要进一步解决的问题。
蔡苇
符春林
邓小玲
程文德
关键词:
金属栅
多晶硅
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