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上海市浦江人才计划项目(09PJ1406200)

作品数:7 被引量:45H指数:4
相关作者:李以贵杨春生刘景全陈少军杉山进更多>>
相关机构:上海交通大学日本立命馆大学更多>>
发文基金:上海市浦江人才计划项目国际科技合作与交流专项项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 2篇液滴
  • 2篇声表面波
  • 2篇高深宽比
  • 1篇掩模
  • 1篇掩模板
  • 1篇掩膜
  • 1篇永磁
  • 1篇永磁铁
  • 1篇振动
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇射线
  • 1篇疏水
  • 1篇疏水性
  • 1篇数字微流体
  • 1篇准分子
  • 1篇准分子激光
  • 1篇微机电系统
  • 1篇微粒
  • 1篇微细

机构

  • 7篇上海交通大学
  • 2篇日本立命馆大...

作者

  • 7篇李以贵
  • 3篇刘景全
  • 3篇杨春生
  • 3篇陈少军
  • 2篇张俊峰
  • 2篇杉山进
  • 1篇高阳
  • 1篇唐刚
  • 1篇马华安
  • 1篇张冠

传媒

  • 2篇微纳电子技术
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇半导体技术
  • 1篇光学学报
  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇传感器与微系...

年份

  • 1篇2011
  • 4篇2010
  • 2篇2009
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿被引量:5
2010年
提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状。实验显示,最终的结构形状并非完全与掩模板上吸收体的形状一致。如果不对X光光刻掩模板的吸收体形状进行补偿,即会使被加工的微结构侧面变形,从而影响微针的性能。分析了微针阵列侧面变形的原因,认为这种变形是由于显影时间与曝光量之间的非线性关系导致结构形状与曝光量分布不完全一致造成的。利用PCT方法制作的PMMA微针其长度为100~750μm,直径为30~150μm,针尖的直径最小可达100nm。通过对LIGA掩模板上的吸收体图形进行适当的补偿,使吸收体图形从中空的双直角三角形变为中空的半椭圆图形,增强了带沟道的微注射针阵列的强度。
陈少军李以贵杉山进
关键词:X射线光刻聚甲基丙烯酸甲酯掩模吸收体
一种基于声表面波驱动液滴的二维数字微流体检测技术被引量:2
2010年
在128°YX型LiNbO3衬底上制造了铝叉指电极对,实现了利用声表面波(SAW)对液滴进行驱动.对驱动原理、衬底材料选择进行了详细阐述,说明了选择L iNbO3作为衬底的合理性.在详细分析驱动力和阻滞力的基础上,构造了液滴运动理论模型,同时对理论模型进行了实验验证.实验结果表明,实验中液滴在移动距离较小时与理论模型吻合.提出一种用显著减小阻滞力的选择性沉积疏水导轨和实现步进移动的调制电源来实现二维数字微流体检测技术.
高阳李以贵张俊峰刘景全杨春生
关键词:声表面波疏水性
用同步辐射光刻直接在有机玻璃板上制备高深宽比亚微米光栅被引量:6
2010年
为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的同步辐射光源进行同步辐射光光刻,在有机玻璃(PMMA)板上直接得到亚微米光栅。用此纳米加工技术获得的光栅线宽为250 nm,周期为500 nm,深宽比为8的PMMA亚微米结构光栅。还优化了曝光近接间隔、曝光剂量和显影时间等同步辐射光刻参数。
李以贵杉山进
关键词:光栅高深宽比
一种宽频的磁式压电振动能量采集器被引量:20
2011年
基于环境能量采集的压电振动能量采集器为无线传感器和微机电系统的长期供能提供了一种有效解决方案。目前研制的压电式振动能量采集器存在工作频率高,且频带窄的问题。给出了一种通过磁力的引入使其在低频下工作的、宽频的压电振动能量采集器,并搭建了测试系统对器件进行分析测试。在压电悬臂梁上放置永磁铁取代传统的质量块,同时在悬臂梁的上下方也放置不同极性的永磁铁。对压电悬臂梁(长40 mm、宽8mm、厚0.8 mm),在0.5 gn加速度作用下进行试验测试,峰峰电压10 V以上的有效频带为80~100 Hz,与传统无磁铁振动式压电能量采集器相比,有效地拓展了5 Hz的工作频带。
马华安刘景全唐刚杨春生李以贵
关键词:振动宽频永磁铁
基于声表面波的微型液滴雾化器技术被引量:2
2009年
采用微细加工技术在127.8°YX型LiNbO3压电基底上制造出周期为400μm的铜叉指结构的微型雾化器。该雾化器利用声表面波(SAW)对液滴表面产生的表面张力波作用实现对液滴的雾化。对叉指结构(IDT)周期长度的确定和器件的制作工艺进行了详细说明。利用对液滴驱动速度的测定得出了该雾化器的实际中心频率,并指出实际中心频率与理论值存在差异的原因。得出雾化微粒直径与叉指结构周期之间的关系,并计算得出在施加驱动频率为10.1MHz、功率为24W的电信号时,其雾化颗粒直径为2.61μm,雾化速度达到了1μL/s。
张冠李以贵张俊峰杨春生刘景全
关键词:微细加工技术雾化器声表面波叉指换能器微粒
基于高深宽比Si干法刻蚀参数优化被引量:11
2009年
为满足体硅MEMS制造工艺进一步发展的需要,对电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺参数进行了深入分析,着重分析了平板功率对Si干法刻蚀的影响。通过对Si干法刻蚀的主要工艺参数进行正交试验,得出了一组较为理想的刻蚀工艺参数:刻蚀气体SF6和保护气体C4F8的流量均为13cm3·min-1,在一个周期内通入刻蚀气体SF6的时间为4s,通入钝化气体C4F8的时间为3s;线圈功率为400W,平板功率为110W。利用这组优化的工艺参数进行Si的干法刻蚀,所得到的微结构的深宽比将大于20∶1,同时侧壁垂直度能够很好地控制在90°±1°。
陈少军李以贵
关键词:微机电系统正交试验
基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜
2010年
LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的成本。分析讨论了基于电子束制作掩膜版和基于准分子激光制作掩膜版两种方法,得出了准分子激光制作的掩膜在成本和时间上都有优势的结论。将通过准分子激光技术制作的掩膜置于X射线下,在PMMA基板上可以加工很好的三维微结构。通过依次直接激光烧蚀金薄膜可以加工具有一系列微球状结构的吸收体图形,再将此图形转写到PMMA基板上,可以得到的最低像素为25μm。
陈少军李以贵
关键词:准分子激光
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