国家教育部博士点基金(20040008018)
- 作品数：9 被引量：20H指数：3
- 相关作者：吕反修王耀华唐伟忠郭会斌贺琦更多>>
- 相关机构：北京科技大学北京有色金属研究总院沈阳科晶设备制造有限公司更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程一般工业技术更多>>
- 大面积金刚石自支撑膜机械抛光的优化工艺研究被引量：2
- 2007年
- 研究了一种用于抛光等离子体溅射CVD法制备的金刚石自支撑膜的高效安全的抛光工艺。试验探索了转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸、磨盘表面形状对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响。研究表明:带槽盘对金刚石自支撑膜的粗研磨效果明显,速率较高,平面盘对提高金刚石自支撑膜的表面粗糙度有利;不同颗粒的金刚石粉对应着各自合适的能充分利用其磨削能力的转速,在这个转速下,金刚石自支撑膜的磨抛速率在12μm/h左右。本文通过对新的工艺参数的探索,为金刚石自支撑膜后续加工提供有力的技术支持。
- 郭世斌曲杨吕反修唐伟忠佟玉梅宋建华
- 关键词：机械抛光
- DC Arc Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜的质量对物理性能的影响
- 本研究对 Raman 谱进行高斯(Gauss)和洛仑兹(Lorenz)分峰拟合,将金刚石自支撑膜 Raman 谱分成纯金刚石峰和非金刚石峰,对比两种方法的精度,结果显示高斯拟合的精度高些．运用经验公式计算出金刚石自支撑膜...
- 郭世斌王耀华陈飞吕反修唐伟忠佟玉梅
- 关键词：热学性能力学性能光学性能
- 文献传递
- 反应磁控溅射法制备HfO_2金刚石红外增透膜被引量：4
- 2008年
- 采用纯铪(Hf)金属靶,在氧+氩反应气氛中进行了HfO2薄膜直流反应磁控溅射沉积。首先在单晶硅片上沉积薄膜,研究工艺参数改变对薄膜的影响,然后选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜,达到增透减反射效果。利用X射线光电子能谱(XPS)研究了O2/Ar比例对薄膜组成的影响。利用X射线衍射仪(GIXRD)和椭偏仪(Ellipsometer)研究了不同衬底温度对氧化铪薄膜组织结构和光学性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪(FTIR)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能,发现双面镀制HfO2薄膜能够有效提高金刚石在8～12μm的红外透过性能,在8μm处最大增透可达21.6%,使金刚石红外透过率达到88%;在3～5μm范围,双面镀制了HfO2薄膜的金刚石平均透过率达66.8%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54%高出12.8%。
- 郭会斌王凤英贺琦魏俊俊王耀华吕反修
- 关键词：HFO2薄膜红外透过率增透
- 直流电弧等离子体CVD金刚石膜中氢杂质研究
- 2010年
- 运用傅里叶红外光谱(FT-IR)和核反应分析(NRA)对直流电弧等离子体制备的金刚石膜中的氢杂质进行了研究,并通过添加少量空气到反应气体的实验分析了氢杂质的变化。研究结果发现:红外光谱只能检测金刚石膜中的成键氢,其含量随着氮渗入量的增加而增加,并得出2820cm-1处的吸收是由氮结合的CH基团振动引起的,2832cm-1处的吸收可能是由金刚石膜特征结构缺陷结合的CH基团振动引起的,而不是氧相关的基团。核反应分析可以检测金刚石膜中的总氢含量,近表面小于50nm层氢含量变化快,大于50nm之后氢含量趋于稳定,此值认为是金刚石膜中的总氢含量。
- 郭世斌姜春生吕反修唐伟忠李成明
- 关键词：CVD金刚石膜核反应分析
- 自支撑金刚石膜冲蚀磨损研究被引量：1
- 2007年
- 在研制的高压气动冲蚀磨损实验系统中对自支撑金刚石膜(抛光和未抛光)的冲蚀磨损进行了研究。比较了冲蚀磨料(SiO2,Al2O3,SiC和玻璃珠)、冲蚀角度、冲蚀速度,以及冲蚀时间对冲蚀磨损率的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了冲蚀磨损后金刚石膜表面形貌,对其进行了Raman光谱分析,并测定了抛光金刚石薄膜红外透过率的变化。结果表明,随冲蚀磨料硬度、冲蚀角度以及冲蚀速度的增加,自支撑金刚石膜的冲蚀磨损率增加。由于抛光和未抛光的金刚石薄膜表面形貌的差异,使得它们的冲蚀磨损率随冲蚀时间的变化过程不同。Raman光谱检测结果显示,由于冲蚀作用,金刚石膜表面部分碳的键合类型发生改变。冲蚀磨损使得抛光金刚石薄膜红外透过率降低,采用180目SiC磨料,在134 m/s的速度下冲蚀4 h,红外透过率降低约20%。
- 贺琦张凤雷魏俊俊郭会斌吕反修
- 关键词：冲蚀磨损红外透过率
- 晶体结构对金刚石膜断裂强度的影响
- 本文应用XRD和SEM分析手段,对金刚石膜的晶体结构以及断面和生长面晶粒形貌特征进行了研究分析,探讨了晶体结构对金刚石膜的断裂强度的影响。研究结果表明,晶体取向的多样化对金刚石膜断裂强度有利;粗糙表面的晶粒间易产生V形口...
- 郭世斌王耀华牛得草吕反修唐伟忠佟玉梅
- 关键词：晶体结构金刚石膜
- 文献传递
- HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究被引量：3
- 2008年
- 采用纯铪(Hf)金属靶,在氧和氩反应气氛中进行了HfO2薄膜反应磁控溅射沉积,研究了电源功率、O2/Ar比例和工作气压对薄膜组成及薄膜沉积过程的影响。对制备的HfO2薄膜进行了退火处理,利用X射线衍射仪(GIXRD)、红外波谱仪(FT-IR)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)表征了退火前后HfO2薄膜的显微结构、组织组成及红外透过性能。采用胶带测试测定了HfO2薄膜的附着性能。本研究得到了优化的沉积工艺参数。
- 贺琦王宏斌张树玉吕反修杨海苏小平
- 关键词：HFO2薄膜红外透过率
- 大面积高质量金刚石自支撑膜热导率的影响因素研究被引量：2
- 2006年
- 通过Raman、XRD、SEM分析方法分别对大面积高质量金刚石自支撑膜的质量、晶体结构、晶粒尺寸进行研究,分析它们对金刚石自支撑膜热导率的影响。研究结果表明,金刚石自支撑膜的质量对热导率的影响较大,质量越好,热导率越接近于天然金刚石的热导率;并且金刚石自支撑膜中晶体[220]取向度越高,热导率越高。形核面晶粒尺寸越大,晶粒间的晶界就减少,有利于提高金刚石自支撑膜的热导率。
- 郭世斌吕反修王耀华牛得草唐伟忠佟玉梅
- 关键词：热导率晶体结构晶粒尺寸
- 反应磁控溅射法制备Y_2O_3金刚石红外减反膜被引量：3
- 2008年
- 采用纯钇（Y）金属靶,在氧＋氩反应气氛中进行了Y2O3薄膜直流反应磁控溅射沉积。研究了工艺参数改变对薄膜的影响,选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜,达到增透减反射效果。利用X射线光电子能谱（XPS）和扫描电子显微镜（SEM）研究了薄膜的组成和结构。利用X射线衍射仪（GIXRD）和椭偏仪（Ellipsometer）研究了不同衬底温度和热处理温度对氧化钇薄膜组织结构和光学性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪（FTIR）检测了镀膜前后金刚石红外透过性能。研究发现Y2O3薄膜能够有效提高金刚石在8-12μm的红外透过性能,在8μm处最大增透可达21.8%,使金刚石红外透过率由66.4%提高到88.2%;在3-5μm范围,双面镀制了Y2O3薄膜的金刚石平均透过率达64.9%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率54%高出10.9%。
- 郭会斌魏俊俊王耀华贺琦吕反修唐伟忠
- 关键词：红外透过率
- 光学级金刚石自支撑膜及其镀制Y_2O_3增透膜后的高温抗氧化性被引量：4
- 2009年
- 为了提高金刚石膜的红外透过率和高温抗氧化性能,采用纯钇(Y)金属靶,使用直流反应磁控溅射法在光学级金刚石自支撑膜表面制备了Y2O3薄膜。对比研究了光学级金刚石自支撑膜和Y2O3/Diamond/Y2O3复合窗口的高温抗氧化性能,及氧化前后样品表面形貌和红外透过率的变化情况。热分析、扫描电子显微镜和傅立叶变换红外光谱仪的研究结果表明Y2O3薄膜对光学级金刚石膜有非常好的抗氧化防护性能,在高达950℃的温度暴露30s后对光学级金刚石膜表面没有造成明显损伤,且仍能保持良好的增透效果(透过率超过80%)。
- 郭会斌吕反修李成明黑立富王耀华
- 关键词：抗氧化性能
