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江苏省科技计划项目(SBK200910177)

作品数:1 被引量:5H指数:1
相关作者:刘斌沈鸿烈李斌斌鲁林峰林龙更多>>
相关机构:南京航空航天大学更多>>
发文基金:江苏省科技计划项目中央级公益性科研院所基本科研业务费专项更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子谱
  • 1篇氧化亚铜
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇N掺杂
  • 1篇P型
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...
  • 1篇掺杂
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射法

机构

  • 1篇南京航空航天...

作者

  • 1篇林龙
  • 1篇鲁林峰
  • 1篇李斌斌
  • 1篇沈鸿烈
  • 1篇刘斌

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2011
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
射频反应磁控溅射法制备N掺杂p型氧化亚铜薄膜被引量:5
2011年
通过射频反应磁控溅射方法在玻璃衬底上制备N掺杂的Cu2O薄膜,采用X射线衍射、分光光度计、X射线光电子能谱和霍尔效应等检测,研究了氮气掺杂对Cu2O薄膜性能的影响。结果表明:随着N原子的掺入,薄膜的结晶质量下降,光学带隙从2.28 eV升至2.47 eV左右,同时薄膜的电学性能趋于稳定。当N2/O2流量比率为0.6时,薄膜电阻率为1.5Ω.cm,空穴浓度为2.16×1019cm-3,霍尔迁移率为0.5 cm2.V-1.s-1。
林龙李斌斌鲁林峰沈鸿烈刘斌
关键词:氧化亚铜磁控溅射X射线光电子谱
共1页<1>
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