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中央高校基本科研业务费专项资金(2010-1a-010)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：王传彬黄攀彭健更多>>
相关机构：武汉理工大学更多>>
发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金国际科技合作与交流专项项目湖北省自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇气压
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射气压
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇武汉理工大学

作者

  • 1篇彭健
  • 1篇黄攀
  • 1篇王传彬

传媒

  • 1篇中国材料科技...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
气压对射频磁控溅射Bi4Ti3O12薄膜的影响
2011年
在不同溅射气压下，采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了钛酸铋（Bi4Ti3O12）薄膜。在较低的气压（0.45-0.8Pa）下，得到了单相的Bi4Ti3O12薄膜；在较高气压（1.0-1.8Pa）下，薄膜中出现Bi2Ti2O7焦绿石相；随着气压的增加，薄膜的沉积速率和晶粒尺寸先增大后减小，表面粗糙度也逐渐增加；在适宜的气压（0.6Pa）下，得到的Bi4Ti3O12薄膜物相单一、表面平整致密、结晶良好。
黄攀彭健王传彬
关键词：射频磁控溅射溅射气压
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