上海市科委纳米专项基金(0652nm023)
- 作品数：3 被引量：1H指数：1
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- 退火处理对YMnO3薄膜的结构和荧光性能的影响
- 2008年
- 室温下,采用脉冲激光沉积方法在Si(100)衬底上制备了YMnO3薄膜,并对其进行了不同温度的退火处理。采用X射线衍射和荧光光谱分析方法对薄膜的结构和荧光特性进行了研究。结果表明:通过退火处理,可以得到正交相和六方相共存的多晶态YMnO3薄膜,并且随着退火温度的升高,两相的比例发生变化,由正交相为主转变为六方相为主。YMnO3薄膜样品的荧光发射峰集中在波长430～620nm范围内,可能是由Mn3+离子从5T2到5E之间的能级跃迁所引起的。其荧光强度随着退火温度的升高逐渐增强,但峰位基本保持不变,说明薄膜结构的改变对Mn3+离子的能级跃迁几率有明显的影响,对能级位置的影响不大;而且荧光光谱还显示在同一薄膜中各个荧光峰的相对强度随着退火温度的变化不大。
- 李娜林方婷马学鸣石旺舟
- 关键词：荧光性能脉冲激光沉积
- 热退火对ZnO-SiO_2复合薄膜的微结构及荧光特性的影响被引量：1
- 2007年
- 采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si衬底上制备了ZnO-SiO2复合薄膜。分别用SEM、XRD观察了样品在沉积态(300℃)及700℃和900℃下热退火后的形貌和结构。发现经700℃热处理后,样品中有第三相β-Zn2SiO4形成,经900℃热处理后的样品中硅锌矿型Zn2SiO4取代了β-Zn2SiO4成为第三相。研究了热退火处理前后样品的荧光特性变化,结果表明经700℃热处理后,荧光光谱与沉积态相比,紫外区域的发光强度有较大提高,可见光区域的宽带强度变弱;经900℃热处理后,紫外区域荧光强度与700℃处理相比略有减小,可见光发光带消失。
- 卢相甫程文娟马学鸣石旺舟
- 关键词：热退火光致发光
- 热处理对Ni_(0.7)Zn_(0.3)O薄膜结构及缺陷荧光特性的影响
- 2007年
- 采用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了Ni0.7Zn0.3O薄膜,通过热处理改变薄膜的缺陷状态,并利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪表征薄膜的晶体结构、表面形貌和缺陷发光特性。结果表明:沉积态薄膜为立方结构的Ni0.7Zn0.3O单相,且沿着(200)面高度取向生长。经过热处理后,薄膜形成ZnO和Ni0.7Zn0.3O两相共存的镶嵌结构。样品具有非常丰富的室温荧光光谱,其发光峰主要来自Ni0.7Zn0.3O的缺陷能级跃迁,多缺陷能级导致了多发光峰的荧光光谱。热处理引起薄膜中缺陷的种类和浓度发生变化,严重影响其发光特性。
- 林方婷李娜马学鸣石旺舟
- 关键词：脉冲激光沉积
