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辽宁省教育厅科学基金(2008316)

作品数:4 被引量:10H指数:2
相关作者:廖国进闫绍峰戴晓春陈明朱振华更多>>
相关机构:辽宁工业大学长春理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金辽宁省教育厅科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学建筑科学更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇建筑科学
  • 1篇理学

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇光学
  • 2篇电子能
  • 2篇电子能谱
  • 2篇氧化铝薄膜
  • 2篇溅射制备
  • 2篇光电子能谱
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性质
  • 2篇XPS
  • 2篇X射线
  • 2篇X射线光电子...
  • 2篇AL2O3薄...
  • 1篇氧分压
  • 1篇通风
  • 1篇透射
  • 1篇透射光
  • 1篇透射光谱
  • 1篇光谱
  • 1篇光学常数

机构

  • 5篇辽宁工业大学
  • 1篇长春理工大学
  • 1篇中国石油天然...

作者

  • 5篇廖国进
  • 2篇闫绍峰
  • 1篇陈明
  • 1篇朱振华
  • 1篇戴晓春

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇沈阳农业大学...
  • 1篇沈阳师范大学...

年份

  • 1篇2011
  • 3篇2010
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
氧分压对Al_2O_3:Ce薄膜的发光性能及表面形貌的影响
2010年
应用中频反应磁控溅射设备制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜。在溅射时靶电压随氧气分压比的增加而减小,而当氧分压比增大时靶电压沿另一条路径变化,即呈现迟滞回线现象。通过控制氧分压比改变Al2O3:Ce3+薄膜的发光性质。经光致发光检测,薄膜的光致发光谱是在374nm附近的非对称波峰,它来自于Ce3+离子的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁。Ce3+含量和薄膜的化学成分是通过X射线散射能谱(EDS)测量的。当氧分压比增加时薄膜的发光强度增加,在氧分压比为15%是发光强度最大,其后随氧分压比增大发光强度有减小趋势。薄膜的厚度随氧分压比的增加而呈减小的趋势。X射线衍射(XRD)检测表明所制备透明薄膜为非晶态。扫描电镜检测(SEM)显示,随着氧分压的增加非晶薄膜表面趋于致密平滑。发射纯蓝光的Al2O3:Ce3+非晶薄膜在平板显示等领域有着广泛的潜在应用前景。
廖国进骆红闫绍峰朱振华
关键词:光致发光AL2O3
病房通风CFD模拟及其方案优化被引量:1
2010年
分析了双人间病房的通风情况。病房里的床帘和隔墙将病房分成若干个相对独立空间,这样的设计既可以令病人感到舒适,又便于医生治疗,但这样并不利于病房的通风。这个通风系统包括放置在门厅天花板上的,可以将空气送入房间的吸气口以及放在浴室的排气扇。假设空气是等温的稳态流动,数值模拟就是求解房间里空气的质量、动量及其在房间内平均年龄(停留时间)的方程组。通过分析病房里空气的平均年龄分布和速度场,可以了解病房里的通风情况。对原始建筑设计模型进行模拟计算,发现病房的通风方面存在着严重的不足。并针对存在的问题,在便于医疗基础上,对病房的通风设计方案进行了改进。最后给出了既可以令病人觉得舒适,成本又低的病房通风设计最佳方案。
骆红廖国进
关键词:病房通风CFD
基于透射光谱确定溅射Al2O3薄膜的光学常数被引量:4
2011年
基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外—可见—近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在200—1100nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率(1.556—1.76,测试波长为550nm)、低吸收和直接能量带隙(3.91—4.20eV)等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数——膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.
廖国进骆红闫绍峰戴晓春陈明
关键词:光学常数AL2O3薄膜
溅射制备的Al_2O_3薄膜的光学性质被引量:5
2010年
采用中频反应磁控溅射技术,在石英基片上制备了氧化铝薄膜。研究了氧化铝薄膜的XRD谱和Al 2p核心能级的XPS谱随不同制备氧分压比的演变规律。结果表明:随着制备氧分压比的增加,薄膜中的铝元素从金属态逐渐升高到正3价,同时薄膜由晶态逐渐转变成非晶态。当氧分压比为11%时,可以得到符合化学计量比的、非晶态的、表面非常光滑的氧化铝薄膜,该薄膜具有较高的折射率和较低的消光系数。AFM表面相貌图片显示:随氧分压比增加薄膜表面形貌呈现逐渐光滑的趋势。薄膜在300~1100nm波段有很高的透射率。以上性质表明用中频反应磁控溅射技术制备的氧化铝薄膜在光学领域有着广泛的应用前景。
骆红廖国进
关键词:氧化铝薄膜光学特性
溅射制备的Al2O3薄膜的光学性质
采用中频反应磁控溅射技术,在石英基片上制备了氧化铝薄膜。研究了氧化铝薄膜的XRD谱和A12p核心能级的XPS谱随不同制备氧分压比的演变规律。随着制备氧分压比的增加,薄膜中的铝元素从金属态逐渐升高到正三价,同时薄膜由晶态逐...
廖国进骆红闫绍峰陈明戴晓春
关键词:氧化铝薄膜
文献传递
共1页<1>
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