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国家科技基础条件平台建设计划(2005DKAl08002005DKAl0806)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：刘芬赵良仲邱丽美阚莹宋小平更多>>
相关机构：中国科学院中国计量科学研究院更多>>
发文基金：质检公益性行业科研专项项目国家科技基础条件平台建设计划更多>>
相关领域：一般工业技术机械工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇氧化层
  • 1篇栅氧化
  • 1篇栅氧化层
  • 1篇计量学
  • 1篇光电子能谱
  • 1篇硅片
  • 1篇硅片表面
  • 1篇厚度测量
  • 1篇SIO2
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...

机构

  • 1篇中国计量科学...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇王海
  • 1篇宋小平
  • 1篇阚莹
  • 1篇邱丽美
  • 1篇赵良仲
  • 1篇刘芬

传媒

  • 1篇计量学报

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
硅片表面超薄氧化硅层厚度测量关键比对CCQM—K32
2013年
利用X射线光电子能谱技术，建立了硅片表面超薄氧化硅层厚度（小于10nm）准确测量方法。中国计量科学研究院参加了国际关键比对CCQM—K32，根据公布的国际关键比对结果，中国计量科学研究院的测量结果与参比的各国国家计量研究院的测量结果达到了等效一致，测量结果的不确定度为4．6％～7．0％。
王海刘芬阚莹宋小平赵良仲邱丽美
关键词：计量学厚度测量栅氧化层SIO2X射线光电子能谱
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共1页<1>
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