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国家自然科学基金(50472095)

作品数:7 被引量:22H指数:3
相关作者:黑立富宋建华李彬陈广超兰昊更多>>
相关机构:北京科技大学井冈山大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金教育部留学回国人员科研启动基金北京市科技新星计划更多>>
相关领域:理学自动化与计算机技术冶金工程更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 6篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇冶金工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇多层结构
  • 2篇纳米
  • 2篇金刚石膜
  • 2篇GAS_PH...
  • 2篇HIGH_P...
  • 1篇形貌
  • 1篇生长速率
  • 1篇内应力
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微观结构
  • 1篇离子束
  • 1篇纳米复合结构
  • 1篇晶面
  • 1篇聚焦离子束
  • 1篇刻面
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇功率

机构

  • 7篇北京科技大学
  • 1篇井冈山大学

作者

  • 7篇陈广超
  • 7篇宋建华
  • 7篇黑立富
  • 6篇戴风伟
  • 6篇李成明
  • 6篇兰昊
  • 6篇佟玉梅
  • 6篇李彬
  • 5篇唐伟忠
  • 4篇吕反修
  • 2篇薛前进
  • 1篇李成名
  • 1篇周祖源
  • 1篇李彬
  • 1篇黄玲

传媒

  • 5篇人工晶体学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2008
  • 5篇2007
  • 3篇2006
7 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
微/纳米多层金刚石自支撑膜的制备及生长特性的研究被引量:5
2007年
在30kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在钼衬底上分别制备了普通微米自支撑膜及多层金刚石自支撑膜并对其进行研究。结果显示,同普通微米膜相比,多层膜体是由微米晶金刚石层和纳米晶金刚石层组成,表面光滑,微米层与纳米层间具有相互嵌套式的界面;多层膜中各层膜体的内应力沿生长方向有明显变化,出现一个从压应力到拉应力变化的过程;在沉积过程中,随着层数变化,膜体的生长速率也发生相应的变化。
兰昊陈广超戴风伟李彬唐伟忠李成明宋建华J.Askari黑立富佟玉梅
关键词:多层结构内应力生长速率
直流等离子体喷射CVD技术制备自支撑金刚石膜的新结构和新形貌(英文)被引量:8
2007年
采用30kW高功率直流等离子体喷射CVD技术制备了自支撑金刚石膜的新型结构,通过使甲烷与氢气的浓度比随沉积时间变化的方法,制备了两层、三层和四层结构。扫描电镜结果显示所制备的层结构是由柱状晶和非常细晶粒组成的,而拉曼谱结果表明这层细晶粒具有纳米金刚石的激光散射特征。在甲烷与氢气的浓度比超过15%的沉积条件下,我们发现一种新形貌,这种形貌是由具有非常好的刻面的晶粒构成的。
陈广超兰昊李彬戴风伟薛前进J.C.Askari宋建华黑立富李成名吕反修
关键词:金刚石膜层结构刻面
大功率DC Arc Plasma Jet CVD制备微/纳米复合金刚石自支撑膜的研究
在30kW级DC Arc Plasma Jet CVD装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体, 在钼衬底上制备出了复合金刚石自支撑膜,并对其表面和侧面分别进行了扫描电镜 (SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(R...
兰昊陈广超戴风伟李彬唐伟忠李成明宋建华J.Askari黑立富佟玉梅吕反修
文献传递
Diagnosis of gas phase near the substrate surface in diamond film deposition by high-power DC arc plasma jet CVD被引量:1
2007年
Optical emission spectroscopy (OES) was used to study the gas phase composition near the substrate surface during diamond deposition by high-power DC arc plasma jet chemical vapor deposition (CVD). C2 radical was determined as the main carbon radical in this plasma atmosphere. The deposition parameters, such as substrate temperature, anode-substrate distance, methane concentration, and gas flow rate, were inspected to find out the influence on the gas phase. A strong dependence of the concentrations and distribution of radicals on substrate temperature was confirmed by the design of experiments (DOE). An explanation for this dependence could be that radicals near the substrate surface may have additional ionization or dissociation and also have recombination, or are consumed on the substrate surface where chemical reactions occur.
Zuyuan ZhouGuangchao ChenBin LiWeizhong TangFanxiu Lv
微纳米复合金刚石自支撑膜的制备及微观结构的研究被引量:2
2008年
在30 kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在多晶钼衬底上制备了微纳米复合多层金刚石自支撑膜。采用拉曼光谱对其进行成份分析、SEM观察膜体表面形貌,采用聚焦离子束(FIB)技术对其进行原位刻蚀,用高分辨电镜观察对其进行微观表征。结果显示,同普通微米膜相比,多层膜体是由微米晶金刚石层和纳米晶金刚石层组成,表面光滑,微米层与纳米层间具有相互嵌套式的界面,微/纳米复合多层金刚石自支撑膜中包含有纳米级金刚石晶粒、微米级金刚石晶粒和无定形碳。
薛前进黄玲陈广超李彬唐伟忠李成明宋建华黑立富佟玉梅
关键词:化学气相沉积多层结构微观结构
OES study of the gas phase during diamond films deposition in high power DC arc plasma jet CVD system被引量:2
2006年
This paper used optical emission spectroscopy (OES) to study the gas phase in high power DC arc plasma jet chemical vapour deposition (CVD) during diamond films growth processes. The results show that all the deposition parameters (methane concentration, substrate temperature, gas flow rate and ratio of H2/Ar) could strongly influence the gas phase. C2 is found to be the most sensitive radical to deposition parameters among the radicals in gas phase. Spatially resolved OES implies that a relative high concentration of atomic H exists near the substrate surface, which is beneficial for diamond film growth. The relatively high concentrations of C2 and CH are correlated with high deposition rate of diamond. In our high deposition rate system, C2 is presumed to be the main growth radical, and CH is also believed to contribute the diamond deposition.
周祖源陈广超唐伟忠吕反修
关键词:OES
直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜被引量:4
2006年
运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感。利用光发射谱对C2基元发射强度的监测,实时调控沉积各参数,在大功率直流电弧等离子喷射CVD中实现了(111)晶面占优的金刚石膜的可控生长,I(111)/I(220)XRD衍射峰强度的比值达48。
周祖源陈广超戴风伟兰昊宋建华李彬佟玉梅李成明黑立富唐伟忠
关键词:金刚石膜
采用DC Arc Plasma JetCVD方法沉积微/纳米复合自支撑金刚石膜被引量:3
2006年
在30kW级直流电弧等离子体喷射化学气相沉积(DC Arc P lasm a Jet CVD)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过调节甲烷浓度以及控制其他沉积参数,在Mo衬底上沉积出微/纳米复合自支撑金刚石膜。实验表明,当微米金刚石膜层沉积结束后,在随后的沉积中,随着甲烷浓度的增加,金刚石膜表面的晶粒大小是逐渐减小的。当甲烷浓度达到20%以上时,金刚石膜生长面晶粒呈现菜花状的小晶团,膜体侧面已经没有了粗大的柱状晶,而是呈现出光滑的断口,对该层进行拉曼谱分析显示,位于1145 cm-1附近有一定强度的散射峰出现。这说明所沉积的晶粒全部变为纳米级尺寸。
戴风伟陈广超兰昊J.Askari宋建华李成明佟玉梅李彬黑立富吕反修
关键词:拉曼光谱
DC Arc Plasma Jet CVD法沉积纳米金刚石自支撑膜的研究
在30kW级DC Arc Plasma Jet CVD(直流电弧等离子体喷射化学气相沉积)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,在Mo的衬底上沉积出纳米金刚石自支撑膜。实验表明,随着甲烷浓度的增加,金刚石膜表面的晶粒大...
戴风伟陈广超兰昊J.Askari宋建华李成明佟玉梅李彬黑立富唐伟忠吕反修
文献传递
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