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用GXRD和XPS分析离子注入层的表面结构: 2003年; 采用由金属蒸气真空弧 (MEVVA)离子源引出的强束流脉冲钨离子对H13钢进行了离子注入表面改性研究。借助掠面X射线衍射 (GXRD)和X射线光电子能谱 (XPS)考察了注入表面层的相结构以及钨、铁、碳的化学状态。研究发现 ,表面的含碳化钨层比含铁、钨氧化层要厚 ,离子注入层中钨元素以替位钨和三氧化钨形式存在 ,铁元素以金属铁和三氧化二铁形式出现。; 杨建华; 关键词：XPS X射线光电子能谱 H13钢抗氧化机理耐磨机理

Mo+C双注入纯铁纳米相结构的形成和改性机理研究被引量：1: 2001年; Mo +C双注入H1 3钢可明显地改善钢表面的抗腐蚀特性 ,然而改性机理却很少报道。我们对Mo +C双注入纯铁微观结构变化进行了分析 ,用透射电子显微镜首次发现三元FeMo2C相 ,这种相在较低的束流密度和注入量下首先形成 ,随着束流密度和注入量的增加 ,碳化钼和碳化铁相形成。这些FeMo2C和MoC相均匀地弥散在注入层中 ,其尺寸在 1 0～ 30nm。当束流密度增加到 0 .5A·m-2 ,这些纳米相的密度和尺寸增加 ,形成了均匀的弥散强化结构。并且发现MoC相均匀分布在晶界间。这种结构形成了抗磨损的优化表面层和抗腐蚀的钝化层 ,明显改善了材料表面抗磨损、抗疲劳和抗腐蚀特性。; 张通和吴瑜光; 关键词：离子注入改性机理

脉冲钨离子注入4Cr5MoV1Si钢改善其耐磨性的研究: 2001年; 采用由金属蒸汽真空弧 (MEVVA)离子源引出的强束流脉冲金属钨离子对4Cr5MoV1Si(H1 3)钢进行了离子注入表面改性研究。用针盘式磨损机测得样品的耐磨性提高两倍左右。使用卢瑟福背散射谱 (RBS)测量了钨在样品中的浓度深度分布 ;采用X射线衍射考察了注入样品的表面微结构 ;按照非线性碰撞理论 ,讨论了样品的耐磨性、表面成分、结构与注入参数 (主要是注入能量和注入束流密度 )的关系。; 杨建华张通和; 关键词：离子注入钨耐磨性 4CR5MOV1SI钢

离子束医用生物聚合物材料改性研究被引量：7: 2002年; 采用MEVVA源引出的金属离子对聚酯（PET）薄膜进行了离子注入，根据医用生物材料的需要，研究了提高高分子生物材料耐磨性、抗腐蚀性的途径及改善生物相容性的方法，并讨论了改性机制.; 吴瑜光张通和; 关键词：抗腐蚀抗磨损生物相容性医用生物材料

3Cr2W8V钢的钽、碳离子束材料改性被引量：2: 2002年; 采用由金属蒸汽真空弧离子源引出的强束流钽、碳离子对 3Cr2W8V钢进行离子注入表面改性研究。钽注入剂量为 3× 10 1 7cm- 2 ,引出电压为 42kV ,平均束流密度为 40 μA·cm- 2 。摩擦磨损试验结果表明 ,钽、碳离子双注入 3Cr2W8V钢能使其耐磨性提高 2 5倍 ,并可大幅度降低其摩擦系数。利用卢瑟福背散射谱 (RBS)测量了离子注入表面的成分 ,借助X射线衍射 (XRD)仪考察了表层的相结构。; 杨建华张通和; 关键词：3CR2W8V钢钽改性热挤压

钨和碳双注入H13钢抗磨损和抗腐蚀特性: 2001年; 首次研究了钨和碳双注入对抗磨损和抗腐蚀特性的影响 ,研究了抗磨损和抗腐蚀相生成的条件 ,以及这些相对抗磨损和抗腐蚀特性的作用 ,并对其改性机理进行了讨论。实验结果表明 ,钨和碳双注入H13钢可在注入层中形成超饱和的钨和碳原子浓度。因此在注入层中形成钨的碳化物WC和W2 C相、合金相Fe2 W和Fe2 W6C等 ,这些弥散相不但可以使注入层强化 ,而且也可增强表面磨损和抗腐蚀特性 ;钨和碳双注入具有钨和碳单注入的特性 ,所以能进一步地提高H13钢的抗腐蚀性 ,随着W和C注入剂量的增加 ,抗磨损和抗腐蚀特性进一步提高 ;抗磨损特性可改善 2倍。双注入样品抗腐蚀特性也有明显地提高 ,如样品W5C8的腐蚀电流峰值密度Jp 经 5 5个周期腐蚀后 ,其值是H13钢Jp 的 1/ 2 6 .7～ 1/ 33 .3,而钨样品C5W5经过 88个周期腐蚀后 ,其值是H13钢的 1/ 16～ 1/ 2; 张通和吴瑜光王晓妍; 关键词：电化学测量 H13钢离子注入

Photoluminescence from neodymium silicide thin films formed by MEVVA ion source: 2001年; Neodymium silicides were synthesized by Nd ion implant6d into Si substrates with the aid of a metal vapor vacuum arc (MEVVA) ion source. The blender of Nd5Si4 and NdSi2 was formed in a neodymium-implanted silicon thin film during the as-implanted state, but there was only single neodymium silicide compound in the postannealed state, and the phase changed from NdSi2 to Nd5Si4 with increasing annealing temperature. The blue-violet luminescence excited by ultra-violet was observed at the room temperature (RT), and the intensity of photoluminescence (PL) increased with increasing the neodymium ion fluence. Moreover, the photoluminescence was closely dependent on the temperature of rapid thermal annealing (RTA). A mechanism of photoluminescence was discussed.; XIAO Zhi-Song

强束流脉冲金属离子束表面改性技术及其应用被引量：9: 2003年; 介绍了强束流脉冲金属离子束技术的基本原理和主要优点,并用由金属蒸汽真空弧离子源(MEWA)引出的强束流脉冲Ti、Mo、W、Ta、C离子对Cr12、H21、H13钢进行了离子注入材料改性试验。注入剂量为3×1017～5×1017cm-2,引出电压为25～48kV,平均束流为25～50μA/cm2。用卢瑟福背散射谱(RBS)测量了注入样品表面的成分,借助X射线行射仪(XRD))和X射线光电子能谱仪(XPS)考察了注入样品的耐磨机理。; 杨建华; 关键词：离子注入表面改性金属表面

EVVA源离子束合成镧硅化物被引量：2: 2000年; 用MEVVA离子源将La离子注入到单晶硅中形成掺杂层 ,用XRD ,SEM分析了掺杂层的物相和表面形貌 .分析结果表明 ,在强流离子注入后 ,掺杂层中有硅化物形成 ,且形成相的种类与注量、束流密度及后续热处理条件密切相关 .对La硅化物的形成过程进行了讨论 .; 肖志松徐飞程国安易仲珍张通和; 关键词：离子注入硅

Y升温注入Al形成Y-Al合金研究被引量：3: 2001年; 利用金属蒸汽真空弧 (MEVVA)源所产生的强束流离子注入铝研究了相变、增强扩散和钇铝合金的形成条件 .X射线衍射分析表明注入层有Al3 Y和Al2 O3 出现 .从背散射分析可以发现 ,Y原子有着明显的增强扩散和外扩散效应 ,Y离子的深度分布已达 62 0nm ,远大于LSS理论的预计值 .注入层钇铝原子比可达到 17%～ 2 4 %.连续铝合金层已经形成 .; 张通和吴瑜光钱卫东; 关键词：铝

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