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国家自然科学基金(91023006)

作品数：1 被引量：4H指数：1
相关作者：时康田中群周剑章胡艳田昭武更多>>
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇荧光
  • 1篇荧光检测
  • 1篇自由基
  • 1篇自由基生成
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米管
  • 1篇纳米管阵列
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光诱导
  • 1篇OH
  • 1篇TIO2纳米
  • 1篇TIO2纳米...
  • 1篇TIO2纳米...

机构

  • 1篇厦门大学

作者

  • 1篇詹东平
  • 1篇方秋艳
  • 1篇田昭武
  • 1篇胡艳
  • 1篇周剑章
  • 1篇田中群
  • 1篇时康

传媒

  • 1篇物理化学学报

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
光诱导约束刻蚀体系中羟基自由基生成的影响因素被引量：4
2013年
采用荧光分析,暂态光电流响应分析,电化学交流阻抗谱(EIS)和Mott-Schottky响应分析考察了外加电位,光照时间,溶液pH等几个关键因素对光诱导约束刻蚀体系中TiO2纳米管阵列表面游离OH生成的影响.结果表明:当外加电位为1.0 V时,光电协同产生游离OH效率最高;OH的光催化生成与消耗能很快达到稳态,形成稳定的约束刻蚀剂层,有利于保持刻蚀过程中的精度;当pH为10时,TiO2纳米管光催化产生游离OH效率最高.研究结果对于调控和优化光诱导约束刻蚀平坦化铜的溶液体系,提高铜的刻蚀速度或平坦化精度有重要的指导意义.
胡艳方秋艳周剑章詹东平时康田中群田昭武
关键词：荧光检测TIO2纳米管阵列
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