牡丹江市科学技术计划项目(Z2012g0004)
- 作品数：2 被引量：0H指数：0
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- Cu层溅射时间对两种ZnO复合透明导电薄膜光电性能的影响
- 2013年
- 本文采用射频反应磁控溅射法溅射ZnO靶,直流磁控溅射法溅射Cu靶,在玻璃衬底上制备了不同复合结构的Cu、ZnO透明导电薄膜,研究了Cu层溅射时间对薄膜结构形貌和光电性能的影响。结果表明Cu夹层对膜系的导电性起主要作用,电阻率先随沉积Cu层溅射时间的增加而显著降低,后变化趋于平缓。样品可见光范围内透射率随Cu层溅射时间增加而降低。并且比较相同条件下制备的两种薄膜后得出,ZnO/Cu薄膜电阻率相对较低,ZnO/Cu/ZnO薄膜透射率相对略高。
- 陈薇薇张冰刘志学赵立萍
- 关键词：磁控溅射光电性能
- Cu层位置对ZnO透明导电薄膜光电特性的影响
- 2013年
- 采用磁控溅射技术在玻璃基底上制备出了ZnO/Cu/ZnO、ZnO/Cu、ZnO单层三种透明导电薄膜,利用几种表征手段分析了Cu层位置对ZnO薄膜的结构形貌、光电性能的影响。结果表明,Cu层的加入会降低薄膜的透射率和提高导电性,其中ZnO/Cu/ZnO结构的透射率略高,ZnO/Cu结构的电阻率最低。
- 陈薇薇岳冬辉杜忠奎李道胜田雷
- 关键词：磁控溅射ZNO薄膜
