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ITO薄膜的透射谱解谱被引量：2: 2009年; 用直流磁控溅射法在普通载波片上制备了厚度130nm左右的ITO薄膜,分别在100、200、300和400℃下退火1h。测量了退火前后几个样品的XRD和透射率,利用椭偏解谱方法对几个样品的透射谱进行建模及解谱,结果表明,未退火样品为非晶结构,退火后为多晶结构;退火温度在300℃以下的样品,随着退火温度的升高其n和k值都有明显的降低,退火温度为400℃的样品n和k值却有所增大。利用吸收系数得到了几个样品的直接带隙,其变化范围在3.7eV^3.9eV之间。; 郭守月曹春斌孙兆奇; 关键词：透射谱 ITO薄膜

退火温度对ITO薄膜微结构和光电特性的影响被引量：20: 2011年; 用直流磁控溅射法制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。制备出的薄膜在大气环境下退火,退火温度分别为100℃、200℃、300℃和400℃,保温时间为1 h。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外-可见光分光光度计和四探针测试仪等测试手段分别对薄膜的微结构、化学组分和光电特性进行了测试分析。分析结果表明:Sn元素已经溶入In2O3晶格中形成了固溶体。退火温度的升高,有助于提高ITO薄膜中Sn原子氧化程度,从而提高了薄膜在可见光范围内的透射率。退火温度为200℃时ITO薄膜的性能指数最高,为4.56×10-3Ω-1。; 江锡顺万东升宋学萍孙兆奇; 关键词：ITO薄膜光电特性

TiO2薄膜的相变与光学性能被引量：3: 2008年; 采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上沉积TiO_2薄膜。通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱、紫外可见光谱和荧光发射光谱对薄膜的结构、相组成和表面形貌进行了表征。研究了退火温度对薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响。结果表明:沉积的TiO_2薄膜为无定形结构,经400℃以上退火后的薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火后的薄膜开始出现金红石相,1 000℃以上退火的薄膜完全转变为金红石相。随着退火温度的升高,晶粒尺寸逐渐增大,仅在950～1000℃时出现减小,1000℃退火的薄膜组成为TiO_x。随着退火温度的升高,薄膜的透射率下降,折射率和消光系数有所增加。; 孟凡明周明飞宋学萍; 关键词：二氧化钛薄膜射频磁控溅射锐钛矿金红石

TiO_2基压敏陶瓷的研究进展: 2009年; TiO2基压敏陶瓷的非线性伏安特性和介电性能优良,具有吸收高频噪声和过电压保护的功能。综述了此陶瓷的制备工艺、烧结制度、施主、受主掺杂和烧结助剂等对TiO2基压敏陶瓷电性能的影响之研究现状,并阐述了TiO2基压敏陶瓷未来的研究方向。; 孟凡明鲁飞; 关键词：烧结助剂电性能

创新性近代物理实验教学——AZO薄膜的制备及其表征: 2009年; 介绍了创新性近代物理实验sol-gel法制备AZO薄膜的实验原理和不同Al掺杂量ZnO薄膜的制备过程,用X射线衍射仪和紫外-可见分光光度计测试了AZO薄膜的微结构和光学性质。测试结果表明:随着Al掺杂量的增加,AZO薄膜的结晶度提高,吸收边发生蓝移,光学带宽Eg从3.279减小3.216eV。实验教学结果显示:将科研项目开设为创新性学生实验,教学效果良好,激发了学生对实验的学习兴趣,培养了学生的创新意识和综合能力。; 吕建国孙兆奇朱剑博宋学萍; 关键词：创新性实验教学近代物理实验 AZO薄膜

未知二粒子纠缠态的辅助克隆: 2009年; 提出一个以三粒子GHZ态为量子信道的未知二粒子纠缠态及其正交态的概率克隆方案.此方案中,发送方Alice和接收方Bob对未知态的信息一无所知.首先Alice对他的粒子实施贝尔测量,在得知Alice的测量结果后,通过引入辅助粒子并执行控制非门操作后,Bob可成功地接收未知态.随后在态的制备方Victor的帮助下,Alice以一定的概率获得未知二粒子纠缠态及其正交态的复制.该方案同样适合量子信道是非最大纠缠态的情况.此外,量子纠缠资源和经典信息损耗在该方案中均得到了节省.; 侯奎史守华; 关键词：GHZ态量子克隆

Ag-MgO复合团簇薄膜微结构及其光学特性: 2008年; 用射频-磁控共溅射技术制备出Ag体积分数分别为5%,10%,15%和20%的Ag-MgO复合团簇薄膜。用X-射线衍射仪、原子力显微镜和紫外-可见分光光度计研究了复合团簇薄膜的微结构、表面形貌和光学性质。结果表明:随着Ag体积分数从5%增大到20%,薄膜中Ag的平均晶粒尺寸由8.2nm增大到10.9nm,薄膜的平均颗粒尺寸从37.9nm增大到43.4nm,方均根(rms)粗糙度先减小后略有增大,可见光范围内的平均透过率先下降后几乎保持不变。; 吕建国伍红松陈磊宋学萍孙兆奇; 关键词：微结构表面形貌光学性质

Study on transmittance spectra of ITO thin films by ellipsometric method: 2010年; ITO films with thicknesses (134+8) nm, grown on glass substrates by sputtering method, were post-annealed at the temperatures of 100, 200, 300 and 400°C for 1 h, respectively. The as-deposited ITO film was amorphous, but crystallized with annealing at elevated temperatures, as demonstrated by X-ray diffraction. The transmittance spectra of all samples were obtained and subsequently simulated by means of spectroscopic ellipsometry. The optical constants n and k of the films were extracted. With the annealing temperature increasing, the optical constants n and k of the films firstly decreased then increased in the whole investigated wavelength range. The optical band gaps of all films were evaluated and they varied between 3.74 and 3.93 eV.; SUN ZhaoQi1, CAO ChunBin123, CAI Qi1 & SONG XuePing1 1 School of Physics and Material Science, Anhui University, Hefei 230039, China; 关键词：ITO CONSTANTS TRANSMITTANCE SPECTRA SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY

分形理论及其在薄膜微结构研究中的应用被引量：1: 2007年; 介绍分形的基本概念以及几种常用的计算简单分形维数的方法,用分形研究Au-MgF2纳米金属介质复合薄膜中Au颗粒和半连续Ag膜中Ag小岛的分布规律。结果表明:复合薄膜中Au颗粒的分形维数随Au含量的增加由1.5516逐渐增大到1.7671,表明金属介质复合薄膜中Au颗粒的平均尺寸随着Au含量的增加而增大;半连续Ag膜中Ag小岛的分形维数随厚度的增加从1.4051增大到1.7428,说明半连续Ag膜的覆盖率随着其厚度的增加而增大。这一结果与实验结果一致,因此分形可以用来定量表征薄膜显微结构的演化规律。; 吕建国蔡琪宋学萍孙兆奇; 关键词：分形分形维数

溅射超薄Au膜表面形貌的分形表征被引量：1: 2010年; 采用直流磁控溅射技术制备超薄Au膜,用原子力显微镜观察薄膜的表面形貌。功率谱密度计算结果显示,随着溅射时间增加,高频段曲线拟合直线的斜率增大,相应的分形维数从2.579减小到2.500;而低频段曲线拟合直线的斜率减小,相应的分形维数由2.607增大到2.819,薄膜表面形貌存在多尺度行为。多重分形谱结果表明,随着溅射时间的增加,分形谱宽Δα从0.051增大到0.118,说明薄膜表面高度分布范围愈来愈宽,表面粗糙度愈来愈大,与rms研究结果一致。样品的Δf均>0,说明样品表面最高峰位的数目均多于最低谷位的数目。; 吕建国宋学萍孙兆奇; 关键词：原子力显微镜功率谱密度多重分形谱

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国家教育部博士点基金(20060357003)

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