采用磁控溅射法制备了Nd Fe B/Nd 2组薄膜,经650℃退火处理后,对样品进行了XRD和VSM测试分析。结果表明:对于Mo/Nd/Nd Fe B/Nd/Mo多层薄膜,当Nd Fe B/Nd厚度比为6/5时,薄膜的内禀矫顽力最好,平行和垂直方向的内禀矫顽力分别为14.5×79.6和10.5×79.6 k A·m^(-1);对于Mo/[Nd Fe B/Nd]n/Mo(n=2,5,8,10;Nd Fe B/Nd厚度比为6/5)交替多层薄膜,当周期n为8时,薄膜具有最好的磁性能,平行和垂直方向的内禀矫顽力分别为21.3×79.6和16.7×79.6 k A·m^(-1);对于Nd Fe B/Nd厚度比均为6/5的薄膜,交替多层膜的综合磁性能高于多层膜。
采用磁控溅射法制备了Ta/[Nd Fe B/Nd]n/Ta(n=1,5,8,10)多层膜。采用X射线衍射仪、振动样品磁强计及原子力显微镜对薄膜样品的晶体结构、磁学性能及表面形貌进行了测试分析;并对薄膜的温度稳定性进行了测试。结果表明,在Nd Fe B与Nd的总厚度保持不变的情况下,随Nd Fe B/Nd层数的增加薄膜的矫顽力先增大后减小,其中n=8时样品磁性能最好。最佳磁性能为H ci=1995 k A/m,(BH)max=111.3 k J/m3。
