沈阳市自然科学基金(1033064-1-03)
- 作品数：4 被引量：1H指数：1
- 相关作者：吕玉山孙建章饶宇张辽远王武刚更多>>
- 相关机构：沈阳理工大学更多>>
- 发文基金：沈阳市自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程更多>>
- 电子陶瓷薄膜动压悬浮流延的动力学特性分析
- 2006年
- 为了解决电子陶瓷薄膜的高精密与超薄化流延问题将硬磁盘存储系统中磁头相对磁盘的动压悬浮运动理论运用于电子陶瓷流延过程中,建立了动压悬浮流延法,并给出了流延头相对流延辊子的动静态物理模型.根据该模型所确立的动力学方程式,对其流延过程的动力学特性进行了计算机仿真,获得了系统各参数对流延系统稳定性的影响规律,并利用仿真结果得到实现系统动压悬浮的合理参数,确保了系统的稳定性。
- 饶宇吕玉山孙建章张辽远
- 关键词：流延动态特性
- 电子陶瓷薄膜动压悬浮流延的动压场分析
- 2006年
- 基于硬磁盘存储系统中磁头相对磁盘的动压悬浮理论的电子陶瓷薄膜流延法是陶瓷薄膜流延领域的一种新技术之一.利用该技术可以在不提高流延系统几何运动精度的情况下流延出超精密和超薄的电子陶瓷薄膜.本文基于流体Reynolds方程建立了流延浆料的流体动压方程,用MATLAB计算并获得流延口的压强分布形态,并且总结出浆料的物理特性、流延浆料输入压强、流延口几何参量以及流延速度对流延动压场分布的影响规律.
- 武海霞吕玉山孙建章
- 关键词：流延机
- 动压悬浮流延的动力学特性
- 2007年
- 将硬磁盘存储系统中磁头相对磁盘的动压悬浮运动原理运用于电子陶瓷薄膜流延,满足了电子陶瓷薄膜的高精密与超薄化的发展要求.根据流延头与流延辊子的结构和工作原理建立了系统的物理模型和动力学方程式,依据该模型和方程式,利用MATLAB仿真了不同工艺参数下系统的瞬态响应,分析了工艺参数对流延系统稳定性的影响规律,得到了提高系统稳定性的合理工艺参数的选择依据.
- 饶宇吕玉山孙建章张辽远
- 关键词：流延动态特性
- 摆式抛光机的运动摩擦学分析被引量：1
- 2009年
- 为了得到抛光机运动参量对被抛光硅片平面度的影响规律,利用坐标变换理论建立摆式抛光运动方程,基于运动方程和抛光材料去除的Preston模型,利用蒙特卡罗法分别对磨料轨迹、硅片表面的抛光相对摩擦长度等进行模拟,得到摆幅、摆臂初始角和抛光盘转速等对硅片表面切削轨迹和摩擦长度分布的影响规律,根据模拟结果可以得到最佳化的参数区域,使硅片表面的材料去除率分布均匀性和轨迹得到改善。
- 王武刚吕玉山
- 关键词：化学机械抛光材料去除率
