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国家自然科学基金(10474126)

作品数:2 被引量:12H指数:2
相关作者:郭丽伟贾海强陈弘周均铭周忠堂更多>>
相关机构:中国科学院微电子研究所中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子迁移率
  • 1篇应力
  • 1篇应力研究
  • 1篇射线衍射
  • 1篇输运
  • 1篇输运特性
  • 1篇迁移率
  • 1篇晶体管
  • 1篇蓝宝
  • 1篇蓝宝石
  • 1篇蓝宝石衬底
  • 1篇缓冲层
  • 1篇二维电子
  • 1篇二维电子气
  • 1篇高电子迁移率
  • 1篇高电子迁移率...
  • 1篇RAMAN谱
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇ALN缓冲层
  • 1篇GAN薄膜

机构

  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 2篇周均铭
  • 2篇陈弘
  • 2篇贾海强
  • 2篇郭丽伟
  • 1篇彭铭曾
  • 1篇谭长林
  • 1篇朱学亮
  • 1篇邢志刚
  • 1篇丁国建
  • 1篇刘新宇
  • 1篇颜建锋
  • 1篇刘建
  • 1篇吕力
  • 1篇周忠堂
  • 1篇张洁

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
r面蓝宝石衬底上采用两步AlN缓冲层法外延生长a面GaN薄膜及应力研究被引量:5
2007年
采用MOCVD技术在r面蓝宝石衬底上采用两步AlN缓冲层法外延制备了a面GaN薄膜.利用高分辨X射线衍射技术和Raman散射技术分析了样品的质量以及外延膜中的残余应力.实验结果表明:样品的(11■0)面的X射线双晶摇摆曲线的半峰宽仅为0.193°,Raman光谱中E2高频模的半峰宽仅为3.9cm-1,这些说明a面GaN薄膜具有较好的晶体质量;X射线研究结果表明样品与衬底的位相关系为:[11■0]GaN‖[1■02]sapphire,[0001]GaN‖[■101]sapphire和[■100]GaN‖[11■0]sapphire;高分辨X射线和Raman散射谱的残余应力研究表明,采用两步AlN缓冲层法制备的a面GaN薄膜在平面内的残余应力大小与用低温GaN缓冲层法制备的a面GaN薄膜不同,我们认为这是由引入AlN带来的晶格失配和热失配的变化引起的.
颜建锋张洁郭丽伟朱学亮彭铭曾贾海强陈弘周均铭
关键词:X射线衍射RAMAN谱
AlGaN/AlN/GaN结构中二维电子气的输运特性被引量:7
2007年
对使用金属有机物汽相沉积法生长的AlGaN/AlN/GaN结构进行的变温霍尔测量,测量结果指出在AlN/GaN界面处有二维电子气存在且迁移率和浓度在2K时分别达到了1.4×104cm2.V-1.s-1和9.3×1012cm-2,且在200K到2K范围内二维电子气的浓度基本不变,变磁场霍尔测量发现只有一种载流子(电子)参与导电.在2K温度下,观察到量子霍尔效应,Shubnikov-de Haas(SdH)振荡在磁场约为3T时出现,证明了此结构呈现了典型的二维电子气行为.通过实验数据对二维电子气散射过程的半定量分析,推出量子散射时间为0.23ps,比以往报道的AlGaN/GaN结构中的散射时间长,说明引入AlN层可以有效减小合金散射,进一步的推断分析发现低温下以小角度散射占主导地位.
周忠堂郭丽伟邢志刚丁国建谭长林吕力刘建刘新宇贾海强陈弘周均铭
关键词:二维电子气高电子迁移率晶体管
共1页<1>
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