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国家重点基础研究发展计划(TG2000036603)

作品数:7 被引量:21H指数:4
相关作者:韩勤牛智川吴荣汉彭红玲佟存柱更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 6篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇腔面
  • 3篇面发射
  • 3篇面发射激光器
  • 3篇激光
  • 3篇激光器
  • 3篇发射激光器
  • 3篇垂直腔
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  • 2篇探测器
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  • 1篇带宽
  • 1篇低温生长GA...
  • 1篇电阻
  • 1篇英文
  • 1篇优化设计
  • 1篇特性分析

机构

  • 6篇中国科学院

作者

  • 5篇牛智川
  • 5篇韩勤
  • 4篇彭红玲
  • 4篇吴荣汉
  • 3篇佟存柱
  • 2篇倪海桥
  • 2篇杨晓红
  • 2篇杜云
  • 1篇李传波
  • 1篇余金中
  • 1篇郑厚植
  • 1篇罗丽萍
  • 1篇左玉华
  • 1篇赵雷
  • 1篇成步文
  • 1篇章昊
  • 1篇赵欢
  • 1篇王启明

传媒

  • 2篇Journa...
  • 2篇物理学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2007
  • 3篇2006
  • 3篇2005
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
Comparison between Double Crystals X-ray Diffraction and Micro-Raman Measurement on Composition Determination of High Ge Content Si_(1-x)Ge_(x) Layer Epitaxied on Si Substrate被引量:1
2006年
It is important to acquire the composition of Si1-xGex layer, especially that with high Ge content, epitaxied on Si substrate. Two nondestructive examination methods, double crystals X-ray diffraction (DCXRD) and micro-Raman measurement, were introduced comparatively to determine x value in Si1-xGex layer, which show that while the two methods are consistent with each other when x is low, the results obtained from double crystals X-ray diffraction are not credible due to the large strain relaxation occurring in Si1-xGex layers when Ge content is higher than about 20%. Micro-Raman measurement is more appropriate for determining high Ge content than DCXRD.
Lei ZHAO Yuhua ZUO Buwen CHENG Jinzhong YU Qiming WANG
1.3μm GaAs基量子点垂直腔面发射激光器结构设计与分析被引量:6
2005年
结合垂直腔面发射激光器(VCSEL)原理以及量子点增益特点,计算了不同结构VCSEL的腔内损耗和量子点的模式增益.分析了激光器阈值特性以及氧化限制层对光损耗的影响.设计了含氧化限制层的1·3μm量子点VCSEL结构.
佟存柱牛智川韩勤吴荣汉
关键词:垂直腔面发射激光器GAASVCSEL阈值特性腔内损耗光损耗
500℃下利用UHV/CVD在Si衬底上直接生长近平面Si_(0.5)Ge_(0.5)层(英文)
2006年
利用UHV/CVD系统,在一个相对较低的温度500℃下,研究了Si1-xGex层中的Ge含量与生长条件之间的关系,此时的Si1-xGex层处于一种亚稳的状态。并直接在Si衬底上生长制备了10个周期的3.0 nm-Si0.5Ge0.5/3.4 nm-Si多量子阱。拉曼谱、高分辨显微电镜和光荧光谱对其结构和光学性能进行的表征表明这种相对较厚的Si0.5Ge0.5/Si多量子阱结构基本上仍是近平面生长的,内部没有位错,其在电学和光学器件上具有潜在的应用。
赵雷左玉华李传波成步文罗丽萍余金中王启明
关键词:UHV/CVD光荧光
1.55μm低温生长GaAs谐振腔增强型探测器被引量:6
2006年
利用低温(200℃)生长的GaAs材料作为吸收层制备了GaAs基1.55μm谐振腔增强型(RCE)光电探测器,对其光电特性进行了分析、研究·无光照0偏压下探测器暗电流为8.0×10-12A;光电流谱峰值波长1563nm;响应谱线半宽4nm,具有良好的波长选择性·
韩勤彭红玲杜云倪海桥赵欢牛智川吴荣汉
关键词:探测器LT-GAAS
1.3μm量子点垂直腔面发射激光器高频响应的优化设计被引量:4
2007年
结合垂直腔面发射激光器(VCSEL)原理以及量子点增益特点,计算了有源层p掺杂结构的量子点VCSEL的材料增益和3dB带宽,发现p掺杂结构可以大大提高频率特性.结合VCSEL激射条件和阈值特性,分析了对VCSEL结构的要求;分析了分布参数对频率特性的影响,对其外部封装提出了要求.设计了高频率响应的含氧化限制层的1.3μm量子点VCSEL结构.
彭红玲韩勤杨晓红牛智川
关键词:量子点垂直腔面发射激光器微分增益
氧化限制型垂直腔面发射激光器串联电阻分析被引量:4
2005年
含氧化限制孔的VCSEL具有低的阈值电流,但氧化孔的存在也会加大串联电阻.本文采用理论模型,详细计算了氧化限制型VCSEL的串联电阻.把串联电阻分解为垂直方向电阻和横向电阻,分析了串联电阻与氧化孔半径的关系,提出了降低VCSEL串联电阻的具体方法.
佟存柱韩勤彭红玲牛智川吴荣汉
关键词:垂直腔面发射激光器串联电阻阈值电流
1064nm RCE探测器光电响应特性分析被引量:1
2005年
对1064nm谐振腔增强型(RCE)光电探测器(PD)的光电响应特性进行了分析研究.利用MBE生长技术得到有源区分别为量子阱和量子点的1064nm RCE探测器的外延片,并对制作的探测器进行了各种光电特性测试.结果表明量子阱结构的RCE探测器量子效率峰值达到57%,谱线半宽6~7nm,峰值波长1059nm;而量子点结构的RCE探测器量子效率峰值达到30%,谱线半宽5nm,峰值波长1056nm.通过分析量子效率和吸收系数之间的关系,对两种结构器件的吸收进行了比较,发现虽然量子点探测器的吸收小,但通过合理设计共振腔等方法也可以达到较高的量子效率.两种结构的器件都有很好的I-V特性.
彭红玲章昊韩勤杨晓红杜云倪海桥佟存柱牛智川郑厚植吴荣汉
关键词:谐振腔增强型光电探测器量子点
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