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国家高技术研究发展计划(2006AA03Z521)

作品数:2 被引量:4H指数:1
相关作者:李红凯董闯林国强更多>>
相关机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇电弧离子镀
  • 2篇离子镀
  • 2篇脉冲偏压
  • 2篇脉冲偏压电弧...
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米复合薄膜
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石薄膜
  • 1篇Y
  • 1篇V
  • 1篇X
  • 1篇N-
  • 1篇C-

机构

  • 2篇大连理工大学

作者

  • 2篇林国强
  • 2篇董闯
  • 2篇李红凯

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇无机材料学报

年份

  • 2篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
脉冲偏压电弧离子镀C-N-V薄膜的成分、结构与性能被引量:1
2010年
用脉冲偏压电弧离子镀方法在硬质合金基体上制备了一系列不同成分的C-N-V薄膜.用X射线光电子能谱、激光Raman光谱、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和纳米压痕等方法分别研究了薄膜的成分、结构与性能.Raman光谱,XRD和TEM结果表明,所制备的薄膜为在类金刚石(DLC)非晶基体上匹配有VN晶体的碳基复合薄膜.随V和N含量的增加,薄膜硬度与弹性模量先增加后下降,在N含量为20.4%,V含量为21.8%时薄膜硬度与弹性模量具有最大值,分别为36.8和569.7GPa,高于相同条件下制备的DLC薄膜的硬度和弹性模量.V和N含量的改变会改变薄膜的相结构,以及DLC非晶基体相与VN晶体相的相对含量,此外还可以在薄膜中诱发纳米金刚石相的形成,从而对薄膜性能产生较大影响.
李红凯林国强董闯
关键词:纳米复合薄膜电弧离子镀
脉冲偏压电弧离子镀制备C_(1-x-y)N_xZr_y超硬复合薄膜被引量:3
2010年
用脉冲偏压电弧离子镀方法在保持石墨靶弧流恒定的条件下,通过同步改变锆靶弧流与氮流量,在硬质合金基体上制备了一系列不同成分的C1-x-yNxZry复合薄膜.随着锆靶弧流与N流量增加,薄膜中Zr与N含量都呈线性增加,同时C含量快速减少.Raman光谱显示所制备的薄膜具有DLC特征,而XRD结果显示薄膜中还存在有明显的ZrN晶体相,说明本实验所制备的薄膜属于在DLC非晶基体上匹配有ZrN晶体相的碳基复合薄膜.随Zr与N含量增加,薄膜硬度先增大后降低,当x=0.19,y=0.28时薄膜具有最高硬度值,为43.6GPa,达到了超硬薄膜的硬度值.
李红凯林国强董闯
关键词:类金刚石薄膜脉冲偏压电弧离子镀
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