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国家自然科学基金(50572075)

作品数:22 被引量:51H指数:4
相关作者:汪建华王升高程莉莉李艳琼谢鹏更多>>
相关机构:武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室江汉大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队计划项目教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 22篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇一般工业技术
  • 6篇理学
  • 4篇电子电信
  • 3篇化学工程
  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 5篇碳管
  • 5篇纳米
  • 5篇纳米碳
  • 5篇纳米碳管
  • 4篇等离子体
  • 4篇微波等离子体
  • 4篇微流控
  • 4篇微流控芯片
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 3篇等离子体化学...
  • 3篇碳化钛
  • 3篇铁矿
  • 3篇钛铁矿
  • 3篇微波等离子体...
  • 3篇金刚石薄膜
  • 3篇金刚石膜
  • 3篇刻蚀
  • 3篇PDMS
  • 2篇等离子体改性

机构

  • 20篇武汉工程大学
  • 7篇湖北省等离子...
  • 4篇江汉大学
  • 3篇教育部
  • 3篇武汉健民药业...
  • 2篇武汉理工大学
  • 1篇襄樊学院

作者

  • 21篇汪建华
  • 15篇王升高
  • 10篇李艳琼
  • 10篇程莉莉
  • 7篇王涛
  • 7篇满卫东
  • 7篇谢鹏
  • 5篇王传新
  • 4篇吴宇琼
  • 4篇孙蕾
  • 3篇邓晓清
  • 3篇余冬冬
  • 3篇余学超
  • 2篇秦道东
  • 2篇杜宇
  • 2篇赵修建
  • 2篇熊礼威
  • 2篇向东
  • 2篇许传波
  • 1篇崔士杰

传媒

  • 3篇微细加工技术
  • 3篇武汉工程大学...
  • 2篇金刚石与磨料...
  • 2篇材料导报
  • 2篇真空与低温
  • 2篇硬质合金
  • 2篇Plasma...
  • 1篇应用化工
  • 1篇武汉理工大学...
  • 1篇微计算机信息
  • 1篇材料热处理学...
  • 1篇机电工程技术
  • 1篇青岛科技大学...

年份

  • 5篇2009
  • 11篇2008
  • 6篇2007
  • 1篇2006
22 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
硬质合金刀具上的类金刚石薄膜硬度的研究被引量:2
2008年
采用射频辉光等离子体法制备了类金刚石薄膜,研究了影响类金刚石薄膜硬度的各种因素,包括:极板间距、甲烷浓度、射频功率和膜层厚度等,分析了各种生长参数对类金刚石薄膜硬度的影响机理,找出了最佳的生长参数。
谢鹏汪建华王传新满卫东王升高熊礼威
关键词:类金刚石薄膜硬质合金
大功率稳定微波电源设计被引量:5
2008年
本文利用ATmega16L单片机控制大功率微波电源的功率,所设计的设备具有功率设定、显示实际功率、保护电源的功能。
向东汪建华秦道东崔士杰
关键词:单片机实际功率
CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究
2008年
首先用CVD法制备金刚石厚膜,接着在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀,然后在铁薄膜的催石墨化作用下,对金刚石膜的表面进行了选择性的刻蚀。结果表明,在氢等离子体的辅助作用下,铁薄膜可以持续对CVD金刚石膜进行刻蚀;如果控制铁薄膜的形状和厚度,可以实现对CVD金刚石膜表面较精确的图形化刻蚀。该技术有望成为一种新的刻蚀金刚石膜的方法。
满卫东孙蕾吴宇琼谢鹏余学超汪建华
关键词:金刚石膜刻蚀等离子体
Plasma-Etching Enhanced Mechanical Polishing for CVD Diamond Films
2008年
Chemically vapor deposited diamond films were etched at different parameters using oxygen plasma produced by a DC (direct current) glow discharge and then polished by a modified mechanical polishing device. Scanning electron microscope, atomic force microscope and Raman spectrometer were used to evaluate the surface states of diamond films before and after polishing. It was found that a moderate plasma etching would produce a lot of etch pits and amorphous carbon on the top surface of diamond film. As a result, the quality and the efficiency of mechanical polishing have been enhanced remarkably.
郊先锋马志斌吴振辉何艾华江建华袁松柳
关键词:POLISHING
基于嵌入式Linux的多磁控管电源控制系统设计
2008年
本文主要讲述了怎样用ARM9系列处理器S3C2410X作为主控制芯片,基于嵌入式Linux操作系统,应用QT设计友好操作界面,并采用ATmega16L单片机作为从芯片设计功率输出模块。主芯片中的数据通过串口发送给从芯片,从芯片经过输出电路产生多个磁控管的给定功率,并利用功率采集和A/D转换电路反馈功率给主芯片监控。
向东汪建华秦道东王传新
关键词:ARM9ATMEGA16LLINUX操作系统QT
PCB钻头上金刚石涂层的制备被引量:7
2009年
本文在直径为0.8mm硬质合金钻头上进行沉积金刚石涂层的研究。在沉积之前,先用硝酸和铁氰化钾进行腐蚀处理,以去除表面的Co。用微波等离子体CVD设备进行金刚石的沉积。在金刚石涂层沉积过程中,钻头尖端在微波电磁场中产生辉光放电现象,导致钻头尖端刃部很难获得金刚石涂层。通过使用金属丝屏蔽的方法改变钻头周围的微波电磁场分布,成功的采用微波等离子体CVD法在钻头上沉积出了金刚石涂层。用扫描电子显微镜(SEM),能量色散谱仪(EDS)和激光拉曼光谱(Raman)对钻头的表面形貌和金刚石薄膜的质量进行了表征,同时在铝基复合材料上进行了钻孔测试。结果表明金刚石薄膜表面比较光滑,晶粒尺寸较小,涂层质量良好,薄膜的附着力也较高。
谢鹏汪建华满卫东王传新王升高李远
关键词:金刚石涂层微波等离子体化学气相沉积硬质合金
微波CVD金刚石薄膜用作LED散热片的制备被引量:4
2008年
由于金刚石具有室温下最高的热导率,因此用化学气相沉积(CVD)制备的金刚石膜是大功率发光二极管(LED)理想的散热材料。本文利用微波等离子体CVD研究了不同沉积工艺下金刚石薄膜的生长。用扫描电子显微镜(SEM)和拉曼光谱对得到的金刚石薄膜进行了表征,并将金刚石薄膜用作LED散热片的散热效果进行了检测。结果表明:在硅衬底上沉积20-30μm的CVD金刚石薄膜可以有效地降低LED的工作温度;在相同的制备成本下,提高薄膜的厚度(甲烷浓度4%)比提高薄膜的质量(甲烷浓度2%)更有利于提高LED的散热效果。本研究表明微波等离子体CVD制备的金刚石薄膜是大功率LED的理想散热衬底材料。
满卫东孙蕾吴宇琼谢鹏余学超汪建华
关键词:微波等离子体化学气相沉积金刚石膜散热片LED
纳米碳管碳化钨复合粉体及其镍基复合镀层被引量:1
2009年
纳米碳管/碳化钨复合粉体材料具有高硬度、高强度的"双高"良好特性,是良好的复合镀层增强材料。研究以Na2WO4.2H2O和Fe(NO3)3.9H2O为原料,在微波等离子体的作用下,通过对钨的强制碳化,直接制备了分散均匀的纳米碳管/碳化钨复合粉体材料。利用电泳电解复合沉积技术,获得了镍基纳米碳管/碳化钨复合镀层,该镀层强度高、耐磨性能良好。
邓晓清王升高杜宇余冬冬许传波汪建华
关键词:碳化钨纳米碳管
射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征被引量:5
2009年
采用射频等离子体技术,以CH4和H2为反应气体,在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明,制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.492 nm;薄膜中含有sp2,sp3杂化键,具有典型的类金刚石结构特征;光学透过率比较高,薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.
谢鹏汪建华王传新王升高满卫东熊礼威
关键词:射频等离子体类金刚石薄膜粗糙度拉曼光谱显微硬度
利用钛铁矿制备纳米碳管/碳化钛复合粉体材料的工艺被引量:3
2009年
以钛铁矿为原料,在等离子体和微波场的分步作用下,制得了纳米碳管/碳化钛复合粉体材料。通过研究纳米碳管的等离子体生长工艺和微波强制碳化工艺,得出了合理的制备条件:制备纳米碳管的条件为微波功率550W,腔体内压强5kPa左右,CH4流量2.3mL.min-1,H2流量45mL.min-1,处理时间40min。强制碳化处理阶段,微波功率900W,时间20min。结果表明,纳米碳管/碳化钛复合镀层具有较高的硬度和较小的摩擦系数。
程莉莉王升高许传波杜宇陶涛汪建华
关键词:钛铁矿纳米碳管碳化钛复合镀层
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