国家科技重大专项(2012ZX02702001-002)
- 作品数：7 被引量：30H指数：3
- 相关作者：李艳秋曹振孙圆圆刘菲梅秋丽更多>>
- 相关机构：北京理工大学北京航天计量测试技术研究所中国科学院更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 组合倍率极紫外光刻物镜系统梯度膜设计方法被引量：2
- 2020年
- 随着极紫外(EUV)光刻物镜的设计朝着组合倍率物镜系统的方向发展,物镜系统需要同时具有大视场和高数值孔径(NA),因而产生了物镜的光线入射角及入射角范围急剧增大的问题,需要研究适用于组合倍率极紫外光刻物镜系统的膜层设计的新方法。提出了渐进优化膜层的设计方法,该方法提高了镀制膜层的物镜系统的反射率,保证了组合倍率物镜系统的成像质量。利用该方法对NA为0.6的组合倍率物镜系统进行了膜层设计,设计结果表明,含膜极紫外光刻物镜系统的平均反射率大于65%,各反射镜的反射率峰谷值均小于3.35%,反射率均匀性良好。
- 刘陌李艳秋
- 关键词：光学设计极紫外光刻
- 16～22nm极紫外光刻物镜工程化设计被引量：14
- 2013年
- 极紫外光刻是16～22nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26mm×1.5mm的极紫外光刻投影物镜。详细分析和比较了两套物镜的光学性能和可制造性。结果表明,两套物镜结合分辨率增强技术可分别满足22nm和16nm光刻技术节点的性能要求。
- 曹振李艳秋刘菲
- 关键词：光学设计投影物镜极紫外光刻
- 超大数值孔径极紫外光刻物镜的公差分析被引量：3
- 2015年
- 超大数值孔径极紫外光刻物镜(NA>0.45)能够满足11 nm光刻技术节点的需求,而高分辨率成像对物镜系统的公差要求非常严格。针对一套数值孔径为0.50的极紫外投影物镜进行了补偿器选择和制造公差分析。通过对系统敏感元件结构参量构成的灵敏度矩阵进行奇异值分解(SVD)来选择像质补偿器。物镜系统的结构参量数目较多,而奇异值分解法要求灵敏度矩阵中结构参量数不多于像差数。为了满足奇异值分解法的要求,首先确定系统的敏感元件并选择敏感元件对应的结构参量构造灵敏度矩阵。再通过对该灵敏度矩阵进行奇异值分解确定有效的补偿器组合,从而弥补公差造成的像质恶化。采用上述方法确定了8个补偿器,并利用CODE V软件进行了公差分配。结果表明,系统波像差均方根值在97.7%的置信概率下小于0.5 nm,且最严公差控制在微米及微弧度量级。
- 孙圆圆李艳秋曹振
- 关键词：光学设计公差分析极紫外光刻
- 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究被引量：8
- 2019年
- 16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据,对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真曝光过程中反射镜的瞬态温度和变形分布。以Zernike多项式为接口拟合变形面,分析热变形对成像性能的影响。结果表明:物镜的最高温升和最大变形分别为3.9℃和10.2 nm,高温态物镜的热变形引起的最大波像差均方根和畸变分别为0.1λ和56 nm,超出了合理范围。M3和M4反射镜热变形累加引起的波像差和畸变的占比分别为88%和99%,对成像性能的影响起主导作用,需要对其进行严格控温。
- 李艳秋刘岩刘丽辉
- 关键词：光学设计热变形极紫外光刻有限元分析
- 高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统设计被引量：3
- 2015年
- 针对极紫外光刻照明系统光能利用率低的问题,设计了一套高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统。该系统中波纹板面形采用柱面镜阵列,降低了加工难度;并且根据波纹板反射光线的特性,确定了由修正型复合抛物面聚光镜与二次曲面反射镜组作为中继镜组的结构。整个系统仅采用四片反射镜且其中两片反射镜为掠入射,与传统的极紫外光刻照明系统相比,有效地提高了系统的光能利用率。对一套数值孔径0.33的极紫外光刻投影物镜,给出了与之相匹配的波纹板照明系统设计实例。仿真结果表明,系统的光能利用率可达39.7%,掩模上弧形照明区域扫描方向的积分不均匀度小于2.7%,验证了该设计的可行性和有效性。
- 梁欣丽李艳秋梅秋丽
- 关键词：光学设计极紫外光刻
- 极紫外光刻物镜补偿器的选择及定位精度分析被引量：3
- 2015年
- 极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差,还必须选择像质补偿器合理分配各项公差,从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能。针对一套数值孔径0.33的极紫外光刻物镜,进行了补偿器的优选和定位精度分析。根据结构参量对系统波像差的灵敏度并结合各结构参量之间的相关性选择了6个像质补偿器,并分析了非补偿器结构参量的公差。在此基础上,提出了基于蒙特卡罗法的补偿器定位精度分析方法。利用蒙特卡罗法模拟实际装调过程,通过分析补偿器定位精度对像质的影响,确定满足统计像质要求的补偿器定位精度。结果显示,当物镜系统最严间隔公差、偏心公差、倾斜公差分别在±2μm、±3μm、±5μrad范围内,间隔和偏心补偿器的定位精度为±0.1μm时,系统波像差均方根(RMS)值在97.7%的置信概率下小于1 nm。
- 曹振李艳秋孙圆圆
- 关键词：公差分析补偿器极紫外光刻
- 像质补偿在高分辨物镜精密装调中的应用
- 2018年
- 根据高分辨物镜各个光学元件的实测数据,应用轴向补偿和旋转补偿法,在仿真精密装调过程中得到了物镜轴向补偿器的最优值和各元件的最佳旋转角度。仿真结果表明,在97.7%的置信区间内,物镜各视场波像差RMS值从补偿前的0.087λ（λ=632.8nm）减小到了补偿后的0.040λ。依据获得的参数对物镜进行了装调实验,结果表明,激光干涉仪测得的物镜各视场波像差RMS值介于0.050-0.082λ之间,基本达到了衍射极限的分辨率要求,验证了像质补偿方法的有效性。
- 季振波刘克李艳秋章明
- 关键词：高分辨成像
