您的位置: 专家智库 > >

国家高技术研究发展计划(2004AA31G230)

作品数:3 被引量:4H指数:1
相关作者:周莹顾冬红耿永友更多>>
相关机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学一般工业技术机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇蓝光
  • 2篇光存储
  • 1篇热分析
  • 1篇微结构
  • 1篇无机材料
  • 1篇结构和光学性...
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性质
  • 1篇NIO
  • 1篇RE
  • 1篇BD

机构

  • 3篇中国科学院上...

作者

  • 3篇耿永友
  • 3篇顾冬红
  • 3篇周莹

传媒

  • 1篇中国激光
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇光电技术应用

年份

  • 1篇2007
  • 2篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
用于蓝光可录存储的无机材料研究进展被引量:1
2006年
蓝光存储是信息存储领域发展的一个重要方向。用于蓝光存储的可录型光盘,由于其巨大的商业价值,将是今后研究的热点。本文总结了近几年来国内外文献报道的适用于蓝光可录存储的无机材料的最新研究成果,详细阐述了用于蓝光可录存储的无机薄膜的制备方法、无机记录材料的种类及存储原理。最后,对用于蓝光可录存储的无机材料今后的发展前景进行了展望。
周莹耿永友顾冬红
高密度蓝光存储的写策略
2006年
蓝光存储技术被认为是第三代光存储的主流技术.在蓝光存储技术中,由于数据传输速度的提高,特别是在高倍速蓝光光盘中记录数据,需要光盘和刻录机之间非常精密的配合,因此对写策略提出了更高的要求.介绍了用于蓝光存储的写策略的研究现状,并对其发展前景进行了展望.
周莹耿永友顾冬红
关键词:光存储蓝光
热致NiO_x薄膜的结构和光学性质变化被引量:4
2007年
利用直流磁控反应溅射技术制备了氧气和氩气的分压比为5∶100的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和光谱仪研究了热处理对薄膜的微观结构和光学性质的影响,并对沉积态薄膜的粉末进行了热分析。沉积态的NiOx薄膜在262℃时开始分解,导致NiOx薄膜的透过率增加和反射率降低。X射线衍射和示差扫描量热曲线(DSC)分析表明,在热处理过程中并无物相的变化,光学性质的变化是由于NiOx薄膜热分解引起薄膜表面形貌发生变化而引起的。通过Kissinger公式计算出热分解所需克服的活化能为230.46kJ/mol,显示出很好的热稳定性。NiOx薄膜的热稳定性和热处理前后在波长为405nm处高的反射率差值,使其很有可能成为可录蓝光光盘的记录介质。
周莹耿永友顾冬红
关键词:光存储热分析光学性质微结构
共1页<1>
聚类工具0