国家高技术研究发展计划(2005AA843031)
- 作品数：4 被引量：17H指数：3
- 相关作者：王占山朱京涛王风丽王洪昌陈玲燕更多>>
- 相关机构：同济大学中国科学技术大学更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术更多>>
- 类镍钽软X射线激光用多层膜反射镜的研制
- “水窗”及其附近波段的激光光源是生物显微成像、全息照相、等离子体诊断的理想光源。因此,自从x射线激光出现以来,人们一直致力于把x射线激光的输出波长推进到“水窗”波段。目前, 我国已经成功实现了类镍钽软x射线激光的饱和输出...
- 朱京涛王蓓徐垚张众王洪昌王风丽陈玲燕王占山
- 文献传递
- 极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
- 研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜（AFM）直接测量硅片表面粗糙度。然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制Mo／Si多层膜,使用X射线衍射仪（XRD）对多层膜二级衍射峰进行摇摆...
- 张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
- 关键词：多层膜超声清洗摇摆曲线
- 文献传递
- 50～110nm波段高反射率多层膜的设计与制备被引量：8
- 2007年
- 阐述了50～110nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法．这种膜系是由强吸收材料叠加而成，每层膜光学厚度小于四分之一个波长．与常规周期多层膜相比，这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率．利用该方法设计了50nm处高反射多层膜，并以此为初始条件通过Levenberg-Marquart优化方法完成了50～110nm强吸收波段宽带高反射率Si／W／Co多层膜的设计，其平均反射率达到45％．采用直流磁控溅射方法制备了Si／W／Co多层膜，用X射线衍射仪（XRD）对膜层结构进行了测试，测试结果表明制作出的多层膜结构与设计结构基本相符．
- 李存霞王占山王风丽朱京涛吴永荣王洪昌程鑫彬陈玲燕
- 关键词：多层膜极紫外高反射率磁控溅射
- 4.48nm正入射软X射线激光用Cr/C多层膜高反射镜的研制被引量：3
- 2007年
- 针对4.48nm类镍钽软X射线激光及其应用实验,设计制备了工作于这一波长的近正入射多层膜高反射镜。选择Cr/C为制备4.48nm高反射多层膜的材料对,通过优化设计,确定了多层膜的周期、周期数以及两种材料的厚度比。模拟了多层膜非理想界面对高反射多层膜性能的影响。采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上实现了200周期Cr/C多层膜高反射镜的制备。利用X射线衍射仪测量了多层膜结构,在德国BessyⅡ同步辐射上测量了在工作波长处多层膜反射率,测量的峰值反射率达7.5%。对衍射仪测量的掠入射反射曲线和同步辐射测量的反射率曲线分别进行拟合,得到的粗糙度和厚度比的结果相近。测试结果表明,所制备的Cr/C多层膜样品结构良好,在指定工作波长处有较高的反射峰,达到了设计要求。
- 王蓓王占山徐垚张众朱京涛王洪昌王风丽陈玲燕
- 关键词：X射线光学软X射线多层膜磁控溅射
- EUV多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
- ＜正＞多层膜反射镜是极紫外、软x射线光学中的一类重要的光学元件,近年来,随着纳米技术的进步, 人们在膜系设计、制备工艺上取得了很大的进步,但是对于超光滑基底的研究进展比较缓慢。在多层膜生长过程中,基底表面质量直接影响薄膜...
- 张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
- 文献传递
- 类镍钽软X射线激光用多层膜反射镜的研制被引量：3
- 2006年
- 设计并制备了工作波长为4.48 nm类镍钽软X射线激光用多层膜反射镜。选择C r/C、C r/Sc为多层膜材料对,模拟了多层膜非理想界面对多层膜反射率的影响。采用直流磁控溅射技术在超光滑硅基片上制备了C r/C、C r/Sc多层膜。利用X射线衍射仪测量了多层膜结构,在德国Bessy II同步辐射上测量了多层膜的反射率,C r/C,C r/Sc多层膜峰值反射率分别为7.50%,6.12%。
- 朱京涛王蓓徐垚张众王风丽王洪昌王占山陈玲燕
- 关键词：X光激光多层膜磁控溅射
- 极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术被引量：5
- 2006年
- 研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。
- 张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
- 关键词：多层膜超声清洗摇摆曲线
