国家自然科学基金(10275047)
- 作品数：5 被引量：8H指数：1
- 相关作者：诸葛兰剑吴雪梅王晓飞陈爱军邱国平更多>>
- 相关机构：苏州大学中国科学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省高校自然科学研究项目更多>>
- 相关领域：理学电子电信自动化与计算机技术更多>>
- Zn1-xCuxO薄膜的结构和光学性质被引量：6
- 2008年
- 采用CS-400型射频磁控溅射仪在Si(111)和石英基底上成功的制备了Zn1-xCuxO薄膜,薄膜的晶体取向和表面形貌用X射线衍射(XRD)仪和扫描电子显微镜(SEM)进行测量。利用紫外-可见光(UV-vis)分光光度计来测量基片为石英的Zn1-xCuxO薄膜的透射光谱。实验表明,采用射频磁控溅射制备的掺Cu氧化锌薄膜具有(002)峰的择优取向。随着Cu掺入量的增加样品成膜质量降低,禁带宽度减小,透射率下降。
- 王晓飞吴雪梅诸葛兰剑
- 关键词：射频磁控溅射CU掺杂氧化锌薄膜透射率光学带隙
- 电脑教学机房双向视频传送控制系统被引量：1
- 2003年
- 介绍一种全数字逻辑IC电路组成的双向视频传送控制系统.电路采用纯硬件结构,机房内电脑不需联网,也不用安装任何驱动软件和接口板,即可实现学生机和教师机之间信息的双向交流.该系统制作简便,操作方便灵活,工作稳定可靠.
- 邱国平陈炳泉毛伟康
- 关键词：计算机教学机房系统组成控制台
- 双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)
- 2006年
- 用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,并对薄膜的结构和光致发光(PL)性质进行了研究。XRD和TEM的实验结果表明薄膜是非晶结构;用XPS对样品进行了表征,在397.8eV位置处出现一个对应于N1s的对称峰,表明样品中的N原子主要与Si原子结合,FTIR的实验结果也说明了这一点。光吸收测量结果显示SiOxNy薄膜的光学带隙比Si—SiO2薄膜宽。在225nm波长的激发下,测得在590nm处有强的黄光发射,并利用能带模型讨论了可能的发光机制。
- 瞿发俊徐华吴雪梅诸葛兰剑
- 关键词：光学带隙
- 双离子束溅射室温沉积生长SiC薄膜
- <正>SiC作为一种优秀的微电子材料,以其禁带宽、饱和电子漂移速度大、临界雪崩击穿电场高和热导高的特点,在大功率、高频、耐高温、抗辐射器件及光电子集成器件方面具有重要的应用价值而备受重视。工艺上又可以与集成电路兼容,被期...
- 金成刚吴雪梅诸葛兰剑
- 文献传递
- C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的机理研究
- 利用双离子束溅射和射频磁控溅射技术在Mo基底上分别制备了C膜和Hf膜,并利用化学方法制备了BaO涂层以模拟行波管栅极结构,随后在N2保护下,通过在900-1300K范围内退火,研究样品处于高温工作环境下表面相结构和成分的...
- 吴雪梅诸葛兰剑柳襄怀
- 关键词：BAO
- 文献传递
- ZnO薄膜的磁电光性质研究进展被引量：1
- 2006年
- ZnO薄膜是一种具有优良性质的材料,如光电、p-n结特性等,并有多种制备方法,其性质取决于不同的掺杂组分。概述了ZnO薄膜的制备方法、晶格特性、光电特性、p-n结特性及其磁性掺杂。
- 陈爱军吴雪梅诸葛兰剑
- 关键词：ZNO薄膜P-N结
- C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的机理研究
- 2005年
- 利用双离子束溅射和射频磁控溅射技术在Mo基底上分别制备了C膜和Hf膜,并利用化学方法制备了BaO涂层以模拟行波管栅极结构,随后在N2保护下,通过在900～1300K 范围内退火,研究样品处于高温工作环境下表面相结构和成分的变化,以此解释了C、Hf薄膜抑制栅极电子发射的工作机理。
- 吴雪梅诸葛兰剑柳襄怀
- 关键词：BAO
