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上海市科委纳米专项基金(0214nm032)

作品数:2 被引量:8H指数:1
相关作者:杨春生唐逸张丛春马骏更多>>
相关机构:上海交通大学更多>>
发文基金:上海市科委纳米专项基金教育部科学技术研究重大项目上海-AM基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇电性能
  • 2篇介电
  • 2篇介电性
  • 2篇介电性能
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电学性能
  • 1篇氧分压
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇射线衍射
  • 1篇钛酸
  • 1篇钛酸锶
  • 1篇钛酸锶钡
  • 1篇膜厚
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇BST

机构

  • 2篇上海交通大学

作者

  • 2篇唐逸
  • 2篇杨春生
  • 1篇张丛春
  • 1篇马骏

传媒

  • 1篇上海交通大学...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 2篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
氧分压对磁控溅射BST薄膜及其介电性能的影响被引量:8
2006年
为了应用平板式射频磁控溅射设备制备出良好介电性能的钛酸锶钡(BST)纳米薄膜,研究了溅射过程中不同氧分压(pO2)对沉积薄膜的化学成分、结晶性、表面形貌、电学性能的影响.实验结果表明:纯氩无氧气氛沉积的BST纳米薄膜化学成分符合化学计量比,经750℃、30 min氧气保护热处理后,呈现出BST材料固有的钙钛矿相,有较高的介电常数(rε=700)和较低的漏电流密度(1.9μA/cm2);氧氩混合气氛沉积的BST纳米薄膜,由于氧负离子反溅射作用,使薄膜的化学成分偏离化学计量比,经相同热处理后,不能形成相应的晶体结构,导致薄膜的rε下降、漏电流密度提高,介电性能变坏;pO2的变化对沉积薄膜的化学成分影响不大.
唐逸杨春生张丛春
关键词:钛酸锶钡射频磁控溅射氧分压X射线衍射介电性能
溅射法制备BST纳米薄膜电学性能的研究
2006年
采用射频磁控溅射与微细加工技术,制得Cu/BST/Pt/Ti/SiO2/Si的MIM(金属-绝缘体-金属)微电容结构。研究了不同退火时间、薄膜厚度对钛酸锶钡(BST)纳米薄膜介电常数和漏电流密度的影响,结果表明,随着退火时间的延长,BST纳米薄膜结晶度提高,介电常数增加,退火30 min的纳米薄膜具有最高的介电常数和较小的漏电流密度。同时还得出介电常数随薄膜厚度的减少而减少,在0.1 MV/cm下,90 nm和50 nm薄膜的漏电流密度分别为5.35×10-8A/cm2和6×10-6A/cm2。
唐逸杨春生马骏
关键词:BST磁控溅射膜厚介电性能
共1页<1>
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