您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(50325519)

作品数:2 被引量:9H指数:2
相关作者:黄庆安周再发李伟华朱真冯明更多>>
相关机构:东南大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇元胞
  • 1篇元胞自动机
  • 1篇深紫外
  • 1篇自动机
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光刻胶
  • 1篇光刻模拟
  • 1篇SU-8胶

机构

  • 2篇东南大学

作者

  • 2篇李伟华
  • 2篇周再发
  • 2篇黄庆安
  • 1篇冯明
  • 1篇朱真
  • 1篇卢伟

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇中国科学(E...

年份

  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
SU-8胶深紫外光刻模拟被引量:5
2007年
综合了SU-8胶光刻过程中衍射、反射、折射、吸收率随光刻胶深度的变化及交联显影等各种效应,考虑了折射及吸收系数随时间的变化,建立了SU-8化学放大胶的光刻模型.模拟结果显示,该模型比现有的模拟方法结果更精确,与实验结果符合较好,可以在实际应用中对SU-8光刻胶的二维模拟结果进行有效预测.
冯明黄庆安李伟华周再发朱真
关键词:SU-8胶光刻模拟
光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA模型被引量:4
2007年
建立了光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA模型,通过制定规则来确定模拟过程中不断更新的表面元胞,使得模拟只需计算表面元胞的刻蚀过程;同时模型避免了在模拟程序中大量运用if-else结构,使运算速度大大提高.因此模型具有稳定性好、运算速度快的优点.首先利用一些刻蚀速率测试函数对模型进行测试,验证了模型的效果.随后结合曝光过程和后烘过程模拟,采用一个精度较高的光刻胶刻蚀速率计算公式模拟光刻胶刻蚀过程;并将模拟结果与已有的实验结果进行了对比,比较一致.这些结果表明建立的光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA模型具有较高的精度,能有效地模拟光刻胶刻蚀过程,并可与曝光、后烘等光刻工艺模拟的其他步骤集成在一起.
周再发黄庆安李伟华卢伟
关键词:元胞自动机光刻
共1页<1>
聚类工具0