国家自然科学基金(50475119)
- 作品数：5 被引量：19H指数：3
- 相关作者：袁巨龙赵萍周兆忠郑晓锋楼飞燕更多>>
- 相关机构：浙江工业大学湖南大学浙江海洋学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金浙江省自然科学基金浙江省教育厅科研计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺电子电信机械工程更多>>
- 基于田口方法的合金薄膜铜衬底超精密抛光工艺优化研究被引量：2
- 2008年
- 为了获得性能优良的电化学沉积合金薄膜,需要精度非常高的合金薄膜铜衬底。以铜衬底表面粗糙度Ra和Rt为评价目标,探讨了基于田口方法的铜衬底抛光工艺参数优化设计方法。在给定工件材料和磨料(种类和粒度)的条件下,加工载荷、磨料浓度和加工速度是影响铜衬底抛光表面质量的主要工艺参数。运用田口方法进行了实验设计,并通过对实验结果的分析,得出了最佳的抛光工艺参数组合,采用该实验条件进行加工获得了非常光滑的铜衬底表面(Ra6 nm,Rt60 nm),表明田口方法能够有效的应用于铜衬底抛光工艺参数的优化设计和分析。
- 朱从容袁巨龙吕冰海文东辉
- 关键词：田口方法抛光
- 不定偏心平面研磨均匀性的研究被引量：4
- 2005年
- 提出了一种新的不定偏心平面研磨方式,主动驱动工件使其在绕自身回转轴自转的同时,绕垂直于研磨盘表面的轴线公转。该方式涵盖了定偏心研磨和行星轮式双面研磨。对该方式进行了运动分析,得到了工件相对于研磨盘速度的表达式。在Preston方程基础上,建立了材料去除函数和研磨均匀性函数。理论分析和仿真结果表明,通过设置选择适当的转速比组合,可使工件获得均匀研磨。讨论了转速比与偏心距对研磨均匀性的影响。
- 周兆忠赵萍袁巨龙王志伟郑家锦
- 关键词：偏心距
- 基于激光诱导荧光技术的化学机械抛光机理的应用研究被引量：4
- 2008年
- 虽然化学机械抛光(CMP)技术在半导体产业中得到越来越广泛的应用,但人们对化学机械抛光加工的理解还多半停留在经验阶段,为深入研究其加工机理,引入了激光诱导荧光(LIF)检测技术,在化学机械抛光(CMP)过程中使用LIF技术对晶片下抛光液的流动、混合、抛光液膜的厚度、温度、pH值进行可视化研究,从而来揭示CMP的加工机理。
- 楼飞燕赵萍郑晓锋袁巨龙周兆忠
- 关键词：荧光强度
- 定偏心平面研磨均匀性研究被引量：2
- 2005年
- 对修正环形抛光机CMP过程进行运动分析,给出研磨盘上一点相对于工件的速度矢量与轨迹方程。详细讨论研磨盘上不同位置的点的相对轨迹,通过对相对速度的讨论发现,当研磨盘与工件具有相同的角速度时,有利于工件平面度的提高。重点分析开螺旋槽的研磨盘对工件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代同心保持架装置,有利于工件平面度提高。实验结果与理论分析相符。
- 周兆忠郑家锦袁巨龙
- 关键词：CMP平面度
- 精密球体研磨技术的现状与发展方向被引量：8
- 2005年
- 精密球是圆度仪、陀螺、轴承和精密测量中的重要元件,并常作为精密测量的基准,在精密设备和精密加工中具有十分重要的地位,在精密球体的制造工艺中,关键技术是最后的精密研磨。介绍了国内外精密球体研磨技术的现状,分析了现有研磨技术的局限性,指出了今后对精密球成球机理系统性研究的一些关键问题。
- 周兆忠赵萍陈苗青袁巨龙
- 关键词：研磨技术
