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国家自然科学基金(60976070)

作品数:10 被引量:8H指数:2
相关作者:吕燕伍王健段素青杨鹏王鑫波更多>>
相关机构:北京交通大学北京应用物理与计算数学研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 10篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 5篇理学
  • 2篇化学工程
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 3篇散射
  • 2篇第一性原理
  • 2篇电子散射
  • 2篇量子级联
  • 2篇量子级联激光...
  • 2篇界面粗糙度
  • 2篇激光
  • 2篇激光器
  • 2篇AL
  • 2篇GA
  • 2篇GAAS/A...
  • 2篇GAN
  • 1篇氮化镓
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电路
  • 1篇电路模拟
  • 1篇电子结构
  • 1篇电子性质
  • 1篇异质结
  • 1篇声学

机构

  • 7篇北京交通大学
  • 2篇北京应用物理...

作者

  • 7篇吕燕伍
  • 2篇段素青
  • 2篇王健
  • 1篇宿非凡
  • 1篇章小丽
  • 1篇王鑫波
  • 1篇杨鹏
  • 1篇姜仁志
  • 1篇纪幸辰
  • 1篇刘金龙

传媒

  • 2篇物理学报
  • 2篇人工晶体学报
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇半导体技术
  • 1篇Journa...
  • 1篇Chines...
  • 1篇Chines...
  • 1篇北京交通大学...

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2018
  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
量子级联激光器生热的电路模型分析被引量:1
2013年
过分析量子级联激光器(QCL)中各量子阱的生热及阱间的热流输运情况,得到它的热输运方程以此为基础类比电路理论建立了等效电路模型,利用计算软件分别进行理论与电路模拟,得到了它的生热特性并对可能影响其生热特性的一些因素进行了分析。
宿非凡纪幸辰姜仁志王健吕燕伍段素青
关键词:激光技术量子级联激光器电路模拟
AlN插入层对Al_xGa_(1-x)N/GaN界面电子散射的影响被引量:3
2015年
本文研究AlN作为AlxGa1-xN/GaN插入层引起的电子输运性质的变化,考虑了AlxGa1-xN和AlN势垒层的自发极化、压电极化对AlxGa1-xN/Al N/GaN双异质结高电子迁移率晶体管(HEMT)中极化电荷面密度、二维电子气(2DEG)浓度的影响,分析了AlN厚度与界面粗糙度散射和合金无序散射的关系;结果表明,2DEG浓度、界面粗糙度散射和合金无序散射依赖于AlN层厚度,插入一层1—3nm薄的AlN层,可以明显提高电子迁移率.
杨鹏吕燕伍王鑫波
关键词:迁移率
GaAs/AlGaAs量子级联激光器中的声学声子散射
2014年
以具有三量子阱有源区的GaAs/Al0.15Ga0.85As量子级联激光器中的子带间;声学声子辐射散射为研究对象,从理论上研究了三量子阱有源区中的量子阱和势垒厚度的变化对声学声子辐射散射时间的调制作用.通过对子带间的声学声子辐射散射的总跃迁速率与相应的子带间的总自发辐射速率的比较,研究了声学声子辐射散射对量子级联激光器的辐射发光性能的影响.
刘金龙章小丽王健吕燕伍段素青
关键词:量子级联激光器
Surface-plasmon-enhanced light transmission intensity with a basic grating in GaNbased LED被引量:2
2014年
The transmitting light in GaN-based LED with 30 nm thickness metal film grating is investigated. We proposed a basic grating structure model to enhance light intensity in GaN material, which was simpler and cheaper. We calculated and analyzed the structure with different parameters, and studied the numerical simulation results of Ag-films/Al-films/Au-films. With a simple A1 or Ag basic grating structure, the 7.4-7.6 times intensity of 550 nm light can be obtained easily, and the enhancement efficiency is better than others.
李林青吕燕伍
石墨烯中嵌入硅纳米线的第一性原理研究被引量:1
2018年
采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法研究了石墨烯中嵌入不同构型硅纳米线的电子特性。分析了不同构型的硅纳米线嵌入石墨烯后结构的稳定性、能带结构、态密度和差分电荷密度。研究发现:(1)直线型-I硅纳米线嵌入结构存在带隙,并且带隙的大小受到硅含量的调节。(2)扶手椅型硅纳米线嵌入结构和直线型-II硅纳米线嵌入结构由半导体变为导体。
张园园吕燕伍
关键词:第一性原理硅纳米线电子性质
Electron Transport Properties of Graphene Device with Au Electrodes: A First-principles Investigation
We present a first-principles investigation of electron transport in graphene contact with Au electrodes. Usin...
Xiaotong LiYanwu LuDan Li
关键词:GRAPHENEFIRST-PRINCIPLES
Population inversion study of GaAs/AlGaAs three-quantum-well quantum cascade structures
2013年
A population inversion study of GaAs/AlxGa1-xAs three-quantum-well quantum cascade structures is presented. We derive the population inversion condition (PIC) of the active region (AR) and discuss the PICs on different structures by changing structural parameters such as the widths of quantum wells or barriers in the AR. For some instances, the PIC can be simplified and is proportional to the spontaneous emission lifetime between the second and the first excited states, whereas some other instances imply that the PIC is proportional to the state lifetime of the second excited state.
刘金龙章小丽王健吕燕伍段素青
ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结电子输运性质研究
2022年
Ga_(2)O_(3)是一种新兴的宽带隙半导体,在电力和射频电子系统中具有潜在的应用前景。前期研究以β-Ga_(2)O_(3)为主,并且已经对β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/Ga_(2)O_(3)异质结构中的二维电子气(2DEG)进行了理论计算,本文主要研究ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)作为势垒层对ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结电子输运性质的影响,首先介绍了ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结的结构和性质,分析计算了由于ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结的自发极化和压电极化所产生的极化面电荷密度,以及极化对2DEG浓度产生的影响,接着分析了在不同Al摩尔组分下,ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)势垒层厚度与合金无序散射、界面粗糙度散射和极性光学声子散射之间的关系。最后通过计算得出结论:界面粗糙度散射和极性光学声子散射对ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)/ε-Ga_(2)O_(3)异质结的电子输运性质有重要影响,合金无序散射对异质结的输运性质影响较小;2DEG浓度、合金无序散射、界面粗糙度散射和极性光学声子散射的电子迁移率强弱由ε-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)势垒层的厚度和Al摩尔组分共同决定。
白雅楠吕燕伍
二维氮化镓中空位缺陷研究
2023年
采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,研究了二维氮化镓(2D-GaN)平面和翘曲结构中电中性Ga空位(V_(Ga))和N空位(V_(N))的形成能、能带结构及电子态特性。采用杂化泛函方法,计算了含Ga空位的2D-GaN(2D-GaN-V_(Ga))和含N空位的2D-GaN(2D-GaNV_(N))缺陷体系的电子结构。结果表明,在2D-GaN平面结构中,V_(N)缺陷形成能量低于V_(Ga)的能量,说明V_(N)缺陷更容易形成。在2D-GaN翘曲结构中,V_(Ga)缺陷形成能量低于V_(N)的能量,说明V_(Ga)缺陷更容易形成。在2D-GaN平面和翘曲两种体系结构中,V_(Ga)均为受主缺陷,V_(N)均为施主缺陷。研究结果对系统地理解2D-GaN及其缺陷模型的性质有重要意义,为发展基于2D-GaN的大功率器件、深紫外光电器件和光通信等领域提供理论参考。
王胜男吕燕伍
关键词:第一性原理密度泛函理论空位缺陷电子结构
Influence of a two-dimensional electron gas on current-voltage characteristics of Al_(0.3)Ga_(0.7) N/GaN high electron mobility transistors被引量:1
2012年
The J-V characteristics of AltGa1 tN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs) are investigated and simulated using the self-consistent solution of the Schro dinger and Poisson equations for a two-dimensional electron gas(2DEG) in a triangular potential well with the Al mole fraction t = 0.3 as an example.Using a simple analytical model,the electronic drift velocity in a 2DEG channel is obtained.It is found that the current density through the 2DEG channel is on the order of 10^13 A/m^2 within a very narrow region(about 5 nm).For a current density of 7 × 10^13 A/m62 passing through the 2DEG channel with a 2DEG density of above 1.2 × 10^17 m^-2 under a drain voltage Vds = 1.5 V at room temperature,the barrier thickness Lb should be more than 10 nm and the gate bias must be higher than 2 V.
冀东刘冰吕燕伍邹杪范博龄
关键词:HETEROINTERFACE
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