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国营南光机器厂

作品数:56 被引量:10H指数:2
相关机构:安徽省蚌埠市玻璃厂中国华晶电子集团公司电子工业部更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺机械工程艺术更多>>

文献类型

  • 30篇标准
  • 11篇会议论文
  • 9篇期刊文章
  • 3篇专利
  • 3篇科技成果

领域

  • 5篇化学工程
  • 5篇金属学及工艺
  • 4篇机械工程
  • 3篇电子电信
  • 3篇艺术
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇经济管理
  • 1篇天文地球
  • 1篇电气工程

主题

  • 12篇真空
  • 9篇法兰
  • 9篇尺寸
  • 8篇橡胶
  • 8篇橡胶密封
  • 8篇密封
  • 5篇电阻炉
  • 4篇电子产品
  • 4篇电阻
  • 4篇子产
  • 4篇涡轮分子泵
  • 4篇立式
  • 4篇分子泵
  • 3篇电镀
  • 3篇真空电阻炉
  • 3篇曝光机
  • 2篇电路
  • 2篇电泳
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜机

机构

  • 56篇国营南光机器...
  • 2篇安徽省蚌埠市...
  • 1篇电子工业部
  • 1篇中国华晶电子...

传媒

  • 3篇电镀与环保
  • 2篇电子工艺技术
  • 1篇新技术新工艺
  • 1篇成组技术与生...
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇四川劳动保障
  • 1篇第四届金属材...
  • 1篇第四届全国电...
  • 1篇中国电子学会...
  • 1篇中国真空学会...
  • 1篇中国电子学会...
  • 1篇中国电子学会...
  • 1篇机械加工工艺...

年份

  • 1篇1999
  • 2篇1996
  • 7篇1994
  • 1篇1993
  • 10篇1992
  • 25篇1991
  • 5篇1989
  • 1篇1988
  • 1篇1987
56 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
F-400立式涡轮分子泵的研制
葛明
关键词:涡轮分子泵性能指标
L2116Ⅱ双位氢气炉
本标准规定了L2116I型双位氢气炉的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存等要求。 本标准适用于L2116 I型双位氢气炉。
关键词:熔炉
掩模对准曝光机完好要求和检查评定方法
本标准规定了掩模对准曝光机的完好要求和检查、评定方法。 本标准适用于接触曝光以及同时具备接触曝光和接近曝光功能的掩模对准曝光机。
PLA-501F型光刻机完好要求和检查评定方法
本标准规定了PLA一50lF型光刻机的完好要求和检查、评定方法。 本标准适用于PLA一501F型光刻机,其它类型光刻机,亦可参照执行
关键词:光刻机
文献传递
电子元件真空电阻炉 能耗分等
电子元件真空电阻炉 能耗分等
关键词:能耗
真空橡胶密封平面法兰.固定法兰尺寸
本标准规定了真空橡胶密封平面固定法兰的尺寸。 本标准适用于压力为10^(5)~10^(-5)Pa真空系统中橡胶密封的固定法兰。
关键词:法兰尺寸
文献传递
CAPP系统总体设计要求被引量:2
1993年
CAPP是计算机辅助工艺过程设计系统,系统根据机械零件加工时对工艺描述深度的不同,要求建立三种不同的零件信息输入方式和相应的创成模块,突破了当前国内外已开发的CAPP系统单一模式,这样,系统具有较大的柔性,大大地增强了CAPP系统的适应性和实用性。在工艺创成系统中,采用专家系统模式,应用PROLOG语言使决策规则和程序分离,因此,调试修改和维护极为方便。整个系统软件程序可作为通用工具进行移值。本文是作者在参与系统设计时的一些总体构思,系统的详细结构另有专文介绍。
任永光
关键词:CAPP专家系统CAD
玻璃器皿退火炉加热段炉体
一种适用于玻璃器皿退火炉的加热段炉体,循环风机安装在炉胆里,炉体下部是砖体砌成的燃烧室、剩余燃烧室、烟道。本发明除以煤气、天然气、轻油作燃料外,还可用重油作燃料,并且无结焦现象;炉膛截面温差小,燃料燃烧充分,无明火,燃料...
汤宜歉吕余常余家润
文献传递
真空橡胶密封平面法兰.旋转法兰尺寸
本标准规定了真空橡胶密封平面旋转法兰的尺寸。 本标准适用于压力为10^(5)~10-^(-5)pa真空系统中与夹紧法兰相配合的橡胶密封旋转法兰。
关键词:法兰尺寸
文献传递
真空橡胶密封平面法兰.托环尺寸
本标准规定了真空橡胶密封平面法兰托环的尺寸。 本标准适用于压力为10^(5)~10^(-5)pa真空系统中橡胶密封平面法兰连接用的托环。
关键词:法兰尺寸
文献传递
共6页<123456>
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