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科磊股份有限公司

作品数：1,739 被引量：0H指数：0
相关机构：国立研究开发法人产业技术综合研究所滨松光子学株式会社更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信文化科学理学更多>>

合作机构

文献类型

  • 1,739篇中文专利

领域

  • 295篇自动化与计算...
  • 87篇电子电信
  • 43篇文化科学
  • 38篇机械工程
  • 38篇理学
  • 9篇经济管理
  • 6篇金属学及工艺
  • 5篇电气工程
  • 4篇建筑科学
  • 2篇天文地球
  • 2篇化学工程
  • 2篇石油与天然气...
  • 2篇交通运输工程
  • 2篇医药卫生
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇农业科学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 452篇晶片
  • 416篇图像
  • 310篇半导体
  • 261篇光学
  • 156篇照明
  • 138篇子系统
  • 126篇计算机
  • 120篇图案
  • 113篇电子束
  • 108篇检测器
  • 107篇成像
  • 106篇半导体晶片
  • 94篇感器
  • 94篇传感
  • 94篇传感器
  • 92篇计量工具
  • 92篇衬底
  • 86篇组合件
  • 85篇激光
  • 81篇波长

机构

  • 1,739篇科磊股份有限...
  • 2篇滨松光子学株...
  • 2篇国立研究开发...

年份

  • 216篇2024
  • 189篇2023
  • 253篇2022
  • 235篇2021
  • 225篇2020
  • 186篇2019
  • 181篇2018
  • 115篇2017
  • 64篇2016
  • 46篇2015
  • 28篇2014
  • 1篇2013
共 1,739 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
使用机器学习检验光罩的系统和方法
本申请实施例涉及使用机器学习检验光罩的系统和方法。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。该深度学习过程包...
方浩任A·塞兹希内尔石瑞芳
用于获取高温工艺应用中的测量参数的封装仪器化衬底设备
本申请实施例是关于用于获取高温工艺应用中的测量参数的封装仪器化衬底设备。一种设备包含：仪器衬底设备；衬底组合件，其包含机械地耦合的底部衬底及顶部衬底；电子组合件；嵌套包壳组合件，其包含外包壳及内包壳，其中所述外包壳围封所...
梅·孙厄尔·詹森景·周刘冉
使用面镜及/或棱镜的激光重复率倍增器及平顶射束轮廓产生器
本申请涉及一种使用面镜及/或棱镜的激光重复率倍增器及平顶射束轮廓产生器。一种重复率(脉冲)倍增器包含一或多个射束分裂器及棱镜，从而形成具有延迟每一脉冲的能量的部分的不同光学路径长度的一或多个环形腔。一系列输入激光脉冲在所...
勇-霍·亚历克斯·庄贾斯汀·典桓·刘陆晓旭J·约瑟夫·阿姆斯特朗邓宇俊约翰·费尔登
文献传递
用于光学计量的高度相关参数的相关性的动态移除
本发明描述用于光学计量的高度相关参数的相关性的动态移除。方法的实施例包含：确定结构的模型，所述模型包含参数集合；执行所述结构的光学计量测量，包含收集硬件元件上的光谱数据；在所述结构的所述测量期间，动态地移除所述参数集合中...
李列泉利奥尼德·波斯拉夫斯基史帝蓝·伊凡渥夫·潘戴夫
文献传递
具有多个测量柱的大规模叠加计量采样
一种多柱计量工具，其可包含沿着柱方向分布的两个或更多个测量柱，其中所述两个或更多个测量柱同时探测包含计量目标的样本上的两个或更多个测量区域。测量柱可包含用于将照明引导到所述样本的照明子系统、包含用于收集来自所述样本的测量...
J·马德森A·V·舒杰葛洛夫A·玛纳森A·V·希尔Y·西蒙G·拉雷多Y·于齐耶尔
用于制造具有受控尺寸的半导体晶片特征的系统及方法
本发明提供一种用于制造具有受控尺寸的半导体晶片特征的系统及方法。在使用中，识别半导体晶片的顶面。接着，垂直地蚀刻所述半导体晶片的所述顶面的第一部分以形成从所述半导体晶片的所述顶面的第二部分向下的阶状部，所述阶状部由水平面...
F·奎利
文献传递
用于基于X射线的计量的明亮且干净的X射线源
本文中描述用于利用干净、硬性的X射线照射源的基于x射线的半导体计量的方法及系统。更具体来说，激光产生的等离子体光源产生具有在25,000到30,000电子伏特的范围中的能量的高亮度、硬性的x射线照射。为实现高亮度，将高度...
O·可哈达金
文献传递
使用激光脉冲倍增器的半导体检验及计量系统
本申请涉及使用激光脉冲倍增器的半导体检验及计量系统。本发明揭示一种脉冲倍增器，其包含分束器及一或多个镜。所述分束器接收一系列输入激光脉冲且将每一脉冲的能量的部分引导到环形腔中。在围绕所述环形腔循环之后，所述脉冲能量的部分...
勇-霍·亚历克斯·庄贾斯汀·典瓛·刘J·约瑟夫·阿姆斯特朗邓宇俊
光学或电子束系统中的组件的超临界流体清洗
为清洗例如光学系统或电子束系统的半导体制造设备中的组件，在腔室中加热组件。将超临界流体调配物施加到所述腔室中的所述组件，这移除分子及/或颗粒污染物。所述超临界流体调配物可包含二氧化碳、水、HCF、烷烃、烯烃、一氧化二氮、...
孙久龙蒋中伟A·埃萨尼G·罗斯B·泰勒
通过倾斜照射的前层扰乱减少
本发明提供用于确定在晶片上所检测到的缺陷位于上面的层的方法及系统。一种方法包含：通过以第一入射角及第二入射角将光引导到晶片而检测所述晶片上的缺陷；及基于与所述缺陷对应的输出而确定所述缺陷在所述晶片上的位置。对于在针对在所...
钟景山B·布拉尔高理升
文献传递
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