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斯特拉化工公司
作品数:
24
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相关机构:
大塚化学株式会社
国立大学法人东北大学
公立大学法人大阪府立大学
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相关领域:
化学工程
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大塚化学株式会社
国立大学法人东北大学
公立大学法人大阪府立大学
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化学工程
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铵盐
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季铵
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季铵盐
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8篇
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公立大学法人...
年份
1篇
2017
1篇
2015
1篇
2014
3篇
2013
4篇
2012
2篇
2011
1篇
2010
5篇
2009
2篇
2008
4篇
2007
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24
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蓄电元件
本发明提供一种安全性出色的具有高电池容量的蓄电元件。本发明的蓄电元件是至少具备具有正极活性物质层及正极集电体的正极、具有负极活性物质层及负极集电体的负极、隔膜以及有机电解液的蓄电元件,其特征在于,所述负极活性物质层是用插...
西田哲郎
近壮二郎
久米哲也
榊原吉延
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二氟磷酸盐的制造方法
一种二氟磷酸盐的制造方法,其特征在于,使选自碱金属或碱土金属或<Image file="DDA0000555842470000011.GIF" he="74" imgContent="drawing" imgFormat...
西田哲郎
正神和彦
佐藤友哉
文献传递
高纯度季铵盐的制造方法
本发明涉及一种高纯度的季铵盐的制造方法,其特征在于,(1)在含有叔胺质子酸盐作为杂质的季铵盐中添加氢氧化季铵盐或者碳酸季铵盐,利用氢氧化季铵盐或者碳酸季铵盐中和上述叔胺质子酸盐,转换为叔胺和水,同时使该氢氧化季铵盐或者碳...
西田哲郎
平野一孝
冈昭范
阿部吉伸
锅岛亮浩
文献传递
磺酰亚胺酸银的制造方法
本发明的课题在于提供磺酰亚胺酸银的制造方法,其在工业上可容易且高效地制造作为有机合成催化剂有用的磺酰亚胺酸银。该磺酰亚胺酸银的制造方法的特征在于,通过在氢氟酸溶液中使M[N(Rf<Sub>1</Sub>SO<Sub>2<...
菊山裕久
宫下雅之
胁雅秀
里永知彦
村上祐子
正神和彦
文献传递
磺酰亚胺酸银的制造方法
本发明的课题在于提供磺酰亚胺酸银的制造方法,其在工业上可容易且高效地制造作为有机合成催化剂有用的磺酰亚胺酸银。该磺酰亚胺酸银的制造方法的特征在于,通过在氢氟酸溶液中使M[N(Rf<Sub>1</Sub>SO<Sub>2<...
菊山裕久
宫下雅之
胁雅秀
里永知彦
村上祐子
正神和彦
文献传递
半导体装置的制造方法及半导体基板的清洗方法
在半导体基板等的清洗中,需要进行至少由5个工序构成的清洗。本发明提供一种清洗方法,其包括:利用含有臭氧的超纯水进行清洗的第一工序、利用含有表面活性剂的超纯水进行清洗的第二工序、以及利用含有超纯水和2-丙醇的清洗液除去来源...
大见忠弘
寺本章伸
长谷部类
宫下雅之
季铵盐、电解质、电解液以及电化学装置
本发明涉及季铵盐、电解质、电解液以及电化学装置,其中季铵盐为式(1)表示的季铵盐,<Image file="DDA00001960349200011.GIF" he="89" imgContent="undefined"...
西田哲郎
平野一孝
富崎惠
田代康贵
鹤丸一志
锅岛亮浩
阿部吉伸
德田弘晃
冈昭范
文献传递
季铵盐、电解质、电解液以及电化学装置
本发明涉及季铵盐、电解质、电解液以及电化学装置,其中季铵盐为式(1)表示的季铵盐,<Image file="DEST_PATH_DDA00001960349200011.GIF" he="89" imgContent="...
西田哲郎
平野一孝
富崎惠
田代康贵
鹤丸一志
锅岛亮浩
阿部吉伸
德田弘晃
冈昭范
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半导体装置的制造方法及半导体基板的清洗方法
在半导体基板等的清洗中,需要进行至少由5个工序构成的清洗。本发明提供一种清洗方法,其包括:利用含有臭氧的超纯水进行清洗的第一工序、利用含有表面活性剂的超纯水进行清洗的第二工序、以及利用含有超纯水和2-丙醇的清洗液除去来源...
大见忠弘
寺本章伸
长谷部类
宫下雅之
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半导体装置的处理液及处理方法
本发明的目的在于提供一种半导体表面的原子洗脱少、能够制成清洁且平坦的半导体表面的处理液、处理方法及半导体制造装置。本发明使用含有醇类或酮类中的至少一种的水溶液,由此能够得到实现从半导体表面的洗脱少的处理及清洁且平坦的表面...
大见忠弘
寺本章伸
菊山裕久
二井启一
山本雅士
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