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MEC股份有限公司

作品数：86 被引量：0H指数：0
相关机构：住友电工印刷电路株式会社住友电气工业株式会社更多>>
相关领域：电子电信理学自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 86篇中文专利

领域

  • 5篇电子电信
  • 4篇理学
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇经济管理
  • 1篇化学工程
  • 1篇医药卫生

主题

  • 36篇蚀刻
  • 34篇蚀刻液
  • 20篇化合物
  • 17篇树脂
  • 17篇离子
  • 12篇补给
  • 11篇金属
  • 10篇原子
  • 10篇配线
  • 10篇卤化
  • 10篇卤化物
  • 10篇芳香族
  • 10篇芳香族化合物
  • 9篇金属构件
  • 9篇铜
  • 8篇杂环
  • 8篇铜布线
  • 8篇铜离子
  • 8篇离子源
  • 6篇水溶性聚合物

机构

  • 86篇MEC股份有...
  • 3篇住友电气工业...
  • 3篇住友电工印刷...

年份

  • 6篇2024
  • 3篇2023
  • 1篇2022
  • 7篇2021
  • 4篇2020
  • 8篇2019
  • 3篇2018
  • 8篇2017
  • 5篇2016
  • 9篇2015
  • 5篇2014
  • 8篇2013
  • 6篇2012
  • 3篇2011
  • 4篇2010
  • 6篇2009
共 86 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
铜微蚀刻剂及其补充液、以及电路板的制造方法
本发明公开了一种铜微蚀刻剂、及用来添加到此铜微蚀刻剂的补给液、以及使用所述铜微蚀刻剂的电路板的制造方法。铜微蚀刻剂由含有铜离子、有机酸、卤化物离子、聚合物及非离子性表面活性剂的水溶液构成。所述聚合物为具有多胺链及/或阳离...
栗井雅代田井清登中村真美荻野悠贵
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蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法
本申请涉及蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法。本发明是一种蚀刻液，其是铜的蚀刻液，所述蚀刻液包含：酸、氧化性金属离子、具有五元环的芳香族杂环化合物(A)、具有五～七元环的脂肪族杂环化合物(B)、及在分子内含有叔氮或季氮的阳...
浜口仁美仁顷丈二郎
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覆膜形成用组合物、表面处理金属构件的制造方法及金属与树脂的复合体的制造方法
本发明的覆膜形成用组成物是pH为4至10的溶液，且含有：在一分子中具有胺基以及芳香环的芳香族化合物、具有2个以上的羧基的多元酸、以及氧化剂。作为氧化剂，可使用次氯酸、亚氯酸、氯酸、过氯酸、过硫酸、过碳酸、过氧化氢、或有机...
秋山大作东松逸朗网谷康孝上甲圭佑里见德哉
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蚀刻液、补给液及铜布线的形成方法
本发明是一种铜的蚀刻液，包含酸、以及选自由脂肪族无环化合物、脂肪族杂环化合物及芳香族杂环化合物所组成的群组中的1种以上的化合物；所述脂肪族无环化合物是碳数2至10的饱和脂肪族无环化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子...
小寺浩史片山育代菱川翔太
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蚀刻液及导体图案的形成方法
本发明提供即使连续或反复使用，也可以一边维持图案的顶部形状一边进行蚀刻的铜的蚀刻液，和使用其的导体图案的形成方法。本发明的蚀刻液的特征为，是含有铜离子源、酸及水的铜蚀刻液，其中，含有唑和芳香族化合物，所述唑仅具有氮原子作...
户田健次高垣爱
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蚀刻液
本发明涉及蚀刻液，提供即使在高温条件下也能够可靠地维持铜层与绝缘层的密合性，而且能够提高对广泛的绝缘材料的密合性的蚀刻液。一种蚀刻液，是含有硫酸、过氧化氢及水的铜的蚀刻液，含有苯基四唑类和硝基苯并三唑类。
中村幸子中岛庆一
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蚀刻液
本发明涉及蚀刻液，提供能够抑制对镍以外的金属、尤其是铜的侵蚀的镍的蚀刻液。该蚀刻液是含有硝酸或硫酸、过氧化氢以及水的镍的蚀刻液，其特征在于，含有聚合物，该聚合物具有选自下述式(I)、下述式(II)及下述式(III)中的至...
片山大辅栗井雅代
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洗净剂、洗净方法及补给液
本发明的目的在于提供一种能够抑制铜的蚀刻，并且去除附着于铜配线表面的有机物或铜氧化物的洗净剂。本发明的洗净剂包含水溶性羧酸和过氧化氢，上述过氧化氢的浓度未达0.75重量％，并且上述洗净剂的pH值未达2.5。通过水溶性羧酸...
贞永晃佑林崎将大安随桃子东岛真美
蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法
本发明提供可不损及铜配线的直线性且抑制侧蚀的蚀刻液和其补给液、及铜配线的形成方法。本发明的蚀刻液是铜的蚀刻液，所述蚀刻液是包含酸、氧化性金属离子及化合物A的水溶液，所述化合物A在分子内具有选自由巯基、硫醚基及二硫醚基所构...
小寺浩史
蚀刻液、补给液以及铜布线的形成方法
本发明涉及蚀刻液、补给液以及铜布线的形成方法。本发明提供一种能够抑制侧向蚀刻且提高铜布线的线性、并且能够抑制未蚀刻部分的残留的蚀刻液、其补给液以及铜布线的形成方法。本发明的蚀刻液，其特征在于，是铜的蚀刻液，是含有酸、二价...
片山大辅逢坂育代傅江雅美户田健次
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