刘宏开
- 作品数：23 被引量：98H指数：6
- 供职机构：中国科学院兰州物理研究所更多>>
- 发文基金：表面工程技术国家级重点实验室基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 激光直写制作二元光学元件掩模研究被引量：6
- 2004年
- 介绍了激光直写技术制作二元光学元件铬版掩模的原理,分析了影响铬版上铬膜氧化程度的因素,研究了铬版上 刻写掩模图案时激光能量与刻写半径之间的关系,总结了利用激光直写方法刻写二元光学元件铬版掩模过程中激光能量的 形成方法。
- 王多书罗崇泰马勉军刘宏开黄良甫
- 关键词：掩模激光直写激光能量二元光学元件图案
- 一维光子晶体缺陷模的滤波特性及应用研究被引量：29
- 2009年
- 研究了一维光子晶体缺陷膜的滤波特性,重点研究了影响其滤波特性的因素及其影响规律。并对利用一维光子晶体技术开展多通道滤光片设计的可行性进行了研究。结果表明,利用光子晶体的滤波特性,可以设计出传统光学薄膜设计方法难以实现的多通道窄带滤光片,并根据实际需要,设计了一种双通道窄带滤光片。
- 王济洲熊玉卿王多书陈焘刘宏开
- 关键词：光学设计一维光子晶体滤光片光学薄膜缺陷模
- 极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件掩模的能量表征方法研究被引量：2
- 2009年
- 采用激光直写法制作连续衍射光学元件,具有过程简单、周期短、成本低等优点。介绍了极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件的原理。通过实验,研究了衍射微结构深度与激光功率、曝光位置半径与激光功率的关系。实验结果显示,在相同曝光位置半径条件下,微结构深度与激光功率呈正比;在相同微结构深度条件下,曝光位置半径与激光功率呈正比。分析总结出了极坐标激光直写法制作圆对称连续衍射元件的能量表征方法,并采用该方法成功制作了圆对称连续衍射聚光透镜掩模。
- 王多书罗崇泰陈焘刘宏开叶子煜
- 关键词：激光直写
- 用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质被引量：2
- 2009年
- 利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。
- 马锋王多书罗崇泰叶自煜刘宏开王济州
- 关键词：磁控溅射激光直写灰度掩模
- 离子束辅助和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响
- 在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜。通过 XRD 和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律。结果表明未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,当采用离...
- 陈焘罗崇泰王多书刘宏开王济洲马锋
- 关键词：硫化锌薄膜离子束辅助真空退火应力
- 文献传递
- 多通道光子晶体器件设计被引量：4
- 2009年
- 一维光子晶体缺陷模的光谱特性与缺陷模的结构紧密相关。当缺陷模中包含有多个缺陷时,将导致光子禁带中出现多个分立的缺陷能级,形成多个透射光通道。利用一维光子晶体缺陷模这一光谱特性设计了红外谱段的三通道光子晶体器件。
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- 离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响被引量：8
- 2009年
- 在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜。通过XRD和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律。结果表明,未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,当采用离子束辅助工艺时硫化锌薄膜的压应力增加了62.3MPa。真空退火使硫化锌薄膜的平均应力大约降低了二分之一。硫化锌薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素。
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- 关键词：硫化锌薄膜离子束辅助沉积真空退火应力
- 遗传算法用于衍射光学元件的优化设计被引量：13
- 2004年
- 提出了一种基于遗传算法的衍射光学元件优化设计方法;在衍射光学元件设计中遗传算法运行参数对遗传算法性能有一定的影响:采用较大的群体规模,遗传算法越容易获得最优解;交叉算子越大,遗传算法全局搜索能力越强;选择算子对遗传算法的影响不是太大;如果要进一步提高解的精度,可选取较大的终止代数。数值计算结果表明,用遗传算法优化设计的衍射光学元件,其误差小于 5.2%,衍射效率达到 91.2%。遗传算法很适合衍射光学元件的优化设计。
- 陈焘罗崇泰王多书马勉军刘宏开
- 关键词：遗传算法衍射光学元件优化设计
- 多通道光子晶体器件设计
- 刘宏开罗崇泰陈焘王济洲
- 多光谱带通线性渐变滤光片的研制被引量：11
- 2007年
- 线性渐变滤光片是一种特殊的滤光片,它的中心波长是随着在滤光片上位置的不同而变化的。采用离子束辅助沉积技术研制的线性渐变滤光片在0.4～1.1μm波段有10通道,平均透射率从77.5%增加到97.4%,在基板的中间任一位置只透过0.4～1.1μm内的一种特定波长的光。同时讨论了膜厚均匀性对线性渐变滤光片光谱性能的影响,计算表明镀制线性渐变滤光片时,在一定的配置下基片具有最佳的尺寸大小。
- 陈焘罗崇泰刘宏开周东平
- 关键词：多光谱膜厚均匀性
