孟令海
- 作品数：10 被引量：15H指数：3
- 供职机构：河北大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：河北省自然科学基金国家自然科学基金河北省应用基础研究计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程更多>>
- 一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法
- 本发明公开了一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法，首先将清洗好的衬底放置到对靶磁控溅射装置的基片台上，然后对对靶磁控溅射装置的反应室抽真空，并用氩等离子体清对靶磁控溅射装置的基片台和反应室器壁，再加热基片台，向反应室...
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- 一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法
- 本发明公开了一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法，首先将清洗好的衬底放置到对靶磁控溅射装置的基片台上，然后对对靶磁控溅射装置的反应室抽真空，并用氩等离子体清对靶磁控溅射装置的基片台和反应室器壁，再加热基片台，向反应室...
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- 文献传递
- a-SiN:H薄膜的对靶溅射沉积及微结构特性研究被引量：8
- 2010年
- 采用对靶磁控反应溅射技术以N2和H2为反应气体在硅(100)和石英衬底上制备了氢化非晶氮化硅(a-SiN:H)薄膜.利用台阶仪、原子力显微镜、紫外-可见(UV-VIS)光吸收和傅里叶红外透射光谱(FTIR)对薄膜沉积速率、微观结构及键合特性进行了分析.结果表明,利用等离子反应溅射可在较低衬底温度条件下(Ts<250℃)实现低表面粗糙度和高光学透过率的a-SiN:H薄膜制备.增加衬底温度可使薄膜厚度减小,薄膜光学带隙Eg提高,薄膜无序度减小.FTIR分析结果表明,薄膜主要以Si-N,Si-H和N-H键合结构存在,随衬底温度增加,薄膜中的键合氢含量减小,而整体键密度和Si-N键密度增加.该微观结构和光学特性的调整可归因衬底温度升高所引起的衬底表面原子迁移率和反应速率的增加.
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- 关键词：微观结构
- 纳米晶态SiC薄膜结构控制及发光增强机制研究
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- 采用自激式高密度螺旋波等离子体增强化学气相沉积技术，实现了SiC的非晶到晶态的低温相变、薄膜的键合结构控制和晶粒尺寸调整，获得了3C和6H等多种晶型纳米SiC薄膜制备。对纳米SiC薄膜能级结构和发光机制进行了探索，获得了...
- 关键词：
- 关键词：光电器件
- 一种低温高速沉积氢化非晶硅太阳能电池薄膜的方法
- 本发明公开了一种低温高速沉积氢化非晶硅太阳能电池薄膜的方法，首先将清洗好的衬底放置到对靶磁控溅射装置的基片台上，然后对对靶磁控溅射装置的反应室抽真空，并用氩等离子体清对靶磁控溅射装置的基片台和反应室器壁，再加热基片台，向...
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- 氢稀释对纳米晶硅薄膜微结构的影响被引量：5
- 2011年
- 采用电感耦合等离子体化学气相沉积技术制备了氢化纳米硅薄膜,利用Raman散射、X射线衍射、红外吸收等技术对不同氢稀释条件下薄膜的微观结构和键合特性变化进行了研究。结果表明,较高的氢稀释比导致薄膜从非晶硅到纳米晶硅的结构转化,随着氢稀释比的增加,所沉积薄膜的晶化度及纳米晶硅的晶粒尺寸单调增加,纳米硅颗粒呈现在(110)方向的择优生长趋势。键合特性分析显示,随氢稀释比增加,薄膜中整体键合氢含量减小,而SiH2键合比例呈现显著增加趋势,该结果反映了氢原子刻蚀和纳米硅界面面积比的同时增强。光学吸收谱分析表明,通过改变反应气体的氢稀释比,可实现从1.72～1.84eV光学带隙可调的纳米硅薄膜制备。
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- 关键词：电感耦合等离子体
- 氢对非晶氮化硅薄膜键合结构和光学吸收特性的影响被引量：4
- 2010年
- 采用对靶磁控反应溅射技术以H2和N2为反应气体在不同氢气流量（15-25Sccm）条件下制备了氢化非晶氮化硅（a-SiN：H）薄膜，并利用傅立叶红外透射光谱（FTIR）和紫外一可见透射光谱（UV-VIS）对薄膜的键合结构和光学吸收特性进行了分析。结果表明，氢气流量20Sccm时薄膜中氢的键密度最大，薄膜无序度最减小；薄膜的光学带隙Eg和E04逐渐增大。薄膜原子间键合结构和薄膜有序性的变化可归因于反应溅射过程中氢气的钝化和刻蚀作用。
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- 一种低温高速沉积氢化非晶硅太阳能电池薄膜的方法
- 本发明公开了一种低温高速沉积氢化非晶硅太阳能电池薄膜的方法，首先将清洗好的衬底放置到对靶磁控溅射装置的基片台上，然后对对靶磁控溅射装置的反应室抽真空，并用氩等离子体清对靶磁控溅射装置的基片台和反应室器壁，再加热基片台，向...
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- 文献传递
- 铋锶钴氧热电薄膜的外延生长及其相关器件研制
- 王淑芳李慧玲闫国英路万兵何立平陈明敬马罗孟令海
- 采用脉冲激光沉积技术在单晶基片上外延生长高质量的Bi2Sr2Co2Oy热电薄膜。在此基础上，通过掺杂、薄膜晶粒纳米化及构建纳米复合多层膜结构对Bi2Sr2Co2Oy外延膜中的电、声子特性分别进行控制，从而进一步提高样品的...
- 关键词：
- 关键词：热电性能
- 纳米硅/P3HT复合薄膜的制备及光学特性
- 2013年
- 采用等离子体增强化学气相沉积技术和旋涂法相结合制备了纳米硅/P3HT复合薄膜.利用Raman散射、紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)等技术对复合薄膜的微观结构及光学特性进行了分析.结果表明:氢流量的增加,可以有效钝化硅中的缺陷,提高纳米硅薄膜的晶化度;复合薄膜中纳米硅的引入改善了P3HT在短波长范围的吸收能力,但存在与P3HT辐射发光相竞争的过程;对复合薄膜的光致发光机制进行了分析.
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- 关键词：纳米硅微观结构光学特性
