庞恩敬
- 作品数：4 被引量：1H指数：1
- 供职机构：北京航空航天大学更多>>
- 发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺自动化与计算机技术电气工程更多>>
- 多靶磁控溅射系统磁场优化设计
- 磁控溅射系统中的磁场分布对溅射过程的稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有着重要影响,合理的磁场分布可以使靶材附近的等离子体分布更加均匀,进而减小靶材上不同位置溅射速率的差异,使刻蚀速度差别进一步减小,增加靶材的刻蚀范...
- 庞恩敬朱颖李芬李刘合卢求元朱剑豪
- 关键词：有限元模拟
- 基于PC-PLC的复合表面改性设备控制系统的研究
- 随着信息技术和材料科学突飞猛进的发展,真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜、离子注入和化学气相沉积等技术手段的应用范围越来越广泛。然而,各种技术单独使用时却存在各种各样的缺陷,例如：磁控溅射离化率低,造成沉积速率低,成膜质量...
- 梁波朱颖庞恩敬李刘合卢求元朱剑豪
- 关键词：控制系统镀膜工艺
- 文献传递
- 多靶磁控溅射系统磁场优化设计被引量：1
- 2010年
- 磁场分布对磁控溅射稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有重要影响,合理分布可使靶材附近等离子体分布均匀,不同位置溅射速率差减小,靶材刻蚀范围增大,靶材寿命延长,溅射过程稳定性提高。本文针对六靶复合表面改性设备,用有限元法对磁场进行模拟,得到较理想的磁场分布,为优化设计提供理论依据。
- 庞恩敬朱颖李芬李刘合卢求元朱剑豪
- 关键词：磁场有限元模拟
- 多靶磁控溅射系统磁场优化设计
- 磁控溅射系统中的磁场分布对溅射过程的稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有着重要影响,合理的磁场分布可以使靶材附近的等离子体分布更加均匀,进而减小靶材上不同位置溅射速率的差异,使刻蚀速度差别进一步减小,增加靶材的刻蚀范...
- 庞恩敬朱颖李芬李刘合卢求元朱剑豪
- 关键词：磁场有限元模拟
- 文献传递
