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阮文彪
作品数:
27
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供职机构:
中国科学院微电子研究所
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相关领域:
自动化与计算机技术
文化科学
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合作作者
陈岚
中国科学院微电子研究所
李志刚
中国科学院微电子研究所
叶甜春
中国科学院微电子研究所
杨飞
中国科学院微电子研究所
周隽雄
中国科学院微电子研究所
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阮文彪
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陈岚
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一种互连线平均失效时间计算方法及系统
本发明实施例公开了一种互连线平均失效时间计算方法及系统。所述方法包括:确定目标电路版图中目标互连线的实际区域横截面的面积,所述实际区域为所述目标互连线原始区域中损失区域以外的区域;获取经过所述目标互连线的电流数据;以所述...
马天宇
陈岚
阮文彪
一种集成电路版图结构及其制造方法
本发明涉及集成电路制造工艺和版图设计技术领域的一种集成电路版图结构及其制造方法。为了解决现有技术中化学机械研磨后集成电路版图细线区铜金属残留的问题,本发明提供一种集成电路版图结构及其制备方法,通过增加细线区线间距,使细线...
阮文彪
陈岚
李志刚
文献传递
集成电路版图中冗余金属的填充方法
本发明公开了集成电路版图中冗余金属的填充方法,属于微电子技术领域。本发明的冗余金属填充方法通过增加冗余金属与信号线之间的距离,在垂直于信号线的方向上减少冗余金属的数目,同时避免冗余金属的交错排列,改变冗余金属的摆放方式,...
杨飞
陈岚
阮文彪
李志刚
王强
周隽雄
叶甜春
一种集成电路金属冗余填充物耦合电容的测试结构和方法
本发明涉及一种对集成电路金属冗余填充物耦合电容的测试结构和方法。在集成电路制造过程中,为改善平坦化效果往往会在版图中进行冗余金属填充,而冗余金属对耦合电容存在着很大影响。在兼顾到这一点的情况下,本发明提供了一种集成电路金...
王强
陈岚
阮文彪
李志刚
杨飞
周隽雄
叶甜春
基于浅沟道隔离技术的化学机械研磨终点检测方法及系统
本发明实施例提出了一种基于浅沟道隔离技术的化学机械研磨终点检测方法,包括:建立晶圆表面微元与研磨垫间相对滑动速度和微元所受摩擦力之间的函数方程;求解函数方程,将微元所受摩擦力代入研磨垫转矩公式,建立晶圆和可调节研磨垫转矩...
徐勤志
陈岚
阮文彪
叶甜春
集成电路制作过程中冗余金属填充的方法及半导体器件
本发明公开了一种集成电路制作过程中冗余金属填充的方法,涉及半导体器件技术领域,能够减小因冗余金属填充带来的耦合电容的影响,该方法包括:在包含介质层的半导体基片上分别形成互连线沟槽和冗余金属沟槽,所述冗余金属沟槽的深度小于...
周隽雄
陈岚
阮文彪
李志刚
王强
叶甜春
文献传递
一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法
本发明涉及一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法,属于集成电路制造工艺和版图设计技术领域。本发明提供的方法通过预设分块密度下限和预设允许密度波动值,并将版图划分等大小的分块,然后利用设计规则检查工具决定每个分块...
周隽雄
陈岚
阮文彪
李志刚
杨飞
王强
叶甜春
一种提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法
本发明提出一种通过建立电容查找表快速提取含有冗余金属的互连结构的电容的方法。通过对多个互连结构提取几何参数、进行冗余金属填充并在填充后进行电容提取以建立电容查找表;然后对于需要进行电容提取的电路版图进行结构单元划分和几何...
马天宇
陈岚
阮文彪
李志刚
叶甜春
文献传递
一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法
本发明涉及一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法,属于集成电路制造工艺和版图设计技术领域。本发明提供的方法通过预设分块密度下限和预设允许密度波动值,并将版图划分等大小的分块,然后利用设计规则检查工具决定每个分块...
周隽雄
陈岚
阮文彪
李志刚
杨飞
王强
叶甜春
文献传递
一种先进过程控制系统及其测试方法
本发明公开了一种先进过程控制系统与该系统的测试方法。该系统与虚拟制造系统相连接,包括:实时错误检测模块,用于从虚拟制造系统的数据采集模块获取虚拟工艺制造过程中的产品性能参数,并比照预设的产品性能参数,对虚拟工艺制造过程中...
方晶晶
陈岚
阮文彪
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