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陈支勇

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:兰州大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇电致发光
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土掺杂
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米SI
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇反应溅射
  • 1篇SIC
  • 1篇XN
  • 1篇掺杂
  • 1篇场发射
  • 1篇场发射特性
  • 1篇Y

机构

  • 3篇兰州大学

作者

  • 3篇陈支勇
  • 2篇颜小琴
  • 2篇张军
  • 2篇林洪峰
  • 2篇谢二庆

传媒

  • 2篇Journa...

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
稀土掺杂SiC/_xN/_y薄膜制备及其性质研究
SiCN是一种新颖的硅基光电材料,而稀土掺杂是一种进一步优化SiCN光学性能的有益尝试,我们制备并研究了稀土掺杂与未掺杂SiCN薄膜。 /(1/) SiCxNy薄膜的制备和性质研究 利用射频溅射法在S...
陈支勇
关键词:光致发光电致发光
文献传递
石英衬底上溅射制备纳米SiCN薄膜
2006年
利用射频溅射方法在石英玻璃上沉积了纳米结构硅碳氮(SiCN)薄膜.SiCN薄膜表面由平均直径约50nm的SiCN纳米颗粒组成,这些纳米颗粒的紧密分布构造了薄膜的致密表面.纳米SiCN薄膜呈现出典型的半导体导电特征.通过调整N2流量参数可以获得不同带隙的SiCN薄膜材料,这种带隙可调的纳米结构SiCN薄膜在未来的半导体光电器件应用领域会有广阔的应用前景.
林洪峰谢二庆张军颜小琴陈支勇
关键词:溅射
反应溅射CN薄膜的场发射特性
2006年
利用反应射频溅射方法在硅单晶衬底上沉积碳氮(CN)薄膜.原子力显微镜(AFM)研究结果表明,CN薄膜表面覆盖有纳米CN锥状物,所制备的CN薄膜具有良好的场发射特性,最大发射电流密度达到~10mA/cm2,并且未出现电流饱和现象.薄膜表面的CN纳米锥有利于薄膜的场发射,重复测量结果表明,CN薄膜的发射特性得到改善和提高.
林洪峰谢二庆张军颜小琴陈支勇
关键词:反应溅射场发射
共1页<1>
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