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高键翔

作品数:23 被引量:53H指数:4
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重大技术装备创新研制项目中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域:机械工程理学电子电信文化科学更多>>

文献类型

  • 14篇专利
  • 8篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 8篇机械工程
  • 7篇理学
  • 6篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 17篇光栅
  • 13篇光栅刻划
  • 6篇刻划
  • 5篇刀架
  • 5篇光栅刻划机
  • 4篇激光
  • 3篇衍射
  • 3篇衍射效率
  • 3篇指纹
  • 3篇指纹采集
  • 3篇金刚石
  • 3篇分度机构
  • 3篇刚石
  • 2篇刀架系统
  • 2篇刀具
  • 2篇调节装置
  • 2篇顶针
  • 2篇顶柱
  • 2篇对称型
  • 2篇中阶梯光栅

机构

  • 23篇中国科学院长...
  • 1篇清华大学
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 23篇高键翔
  • 10篇巴音贺希格
  • 10篇齐向东
  • 6篇于宏柱
  • 6篇李文昊
  • 5篇糜小涛
  • 5篇李英海
  • 4篇李春启
  • 4篇张成山
  • 4篇周敬萱
  • 3篇吉日嘎兰图
  • 3篇姚雪峰
  • 3篇张善文
  • 3篇张博
  • 3篇刘凯
  • 2篇于海利
  • 2篇郝德阜
  • 1篇谭鑫
  • 1篇冯树龙
  • 1篇曾瑾

传媒

  • 3篇光学精密工程
  • 1篇光机电信息
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报

年份

  • 5篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 3篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
  • 2篇2002
  • 1篇1997
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
10.6μm激光器一级输出高衍射效率闪耀光栅的研制被引量:21
2004年
建立了实际刻划光栅的物理模型,给出了相应的衍射效率表达式,并研制出了在Littrow安装下一级衍射效率达到97.2%的大功率10.6μm红外激光器用反射式闪耀光栅。实际刻划光栅通常都存在零级面,采用傅里叶分析方法可以推导出计算带有零级面的闪耀光栅衍射效率的一般表达式,由理论分析可知,零级面是造成闪耀光栅衍射效率下降的原因之一。在工艺过程中,通过加大刻划负载使零级面减小,加大侧向压力强化对闪耀面的抛光等,是提高光栅刻槽质量和衍射效率的有效途径。
巴音贺希格高键翔齐向东李春启
关键词:衍射效率刻划闪耀光栅傅里叶分析红外激光器大功率
双向光栅刻划装置及工作方法
本发明涉及机械光栅刻划技术领域,尤其涉及一种双向光栅刻划装置,包括刻划机构、分度机构、刀架机构、以及控制机构;在控制机构输入光栅刻划的参数,控制机构对参数进行计算并根据计算结果向刻划机构、分度机构和刀架机构发送控制信号,...
张博于宏柱李文昊王锐博于硕姚雪峰刘凯高键翔吉日嘎兰图李泽霖
大型光栅刻划机工件台同步减重装置设计被引量:1
1997年
1.引言随着激光核聚变技术,天文学和同步辐射技术等高科技的迅速发展,大面积、高分辨率光栅在这些领域得到了越来越广泛的应用。为此长春光机所光栅研究室研制出了一台大型光栅刻划机。本文讨论了刻划机工件台及光栅毛坯减重系统的设计和安装,该系统不仅可以减少工件台对导轨的压力,还可减轻重量较大的光栅毛坯对工件台的压力,确保了光栅机的刻划精度。
高键翔
关键词:光栅刻划机刻划精度
一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法
本发明涉及光栅刻划领域,具体涉及一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法,刻划深度调节装置包括第一安装架、微调组件、第二安装架以及调距组件,刀架系统包括刀架底座、刀架、刻划刀以及刻划深度调节装置,通过设置第一磁铁以及第二...
糜小涛遆云赞江思博周敬萱高键翔
基于单压电执行器的光栅刻线摆角修正被引量:3
2014年
考虑机械刻划光栅刻线摆角对平面光栅衍射波前质量的影响,本文根据光栅机械刻划过程的特点,提出了一种单压电执行器调节方法。该方法可通过不断调节微定位工作台位移,实时修正工作台摆角导致的光栅刻线摆角误差。首先,推导出了微定位工作台位移实时修正公式。接着,采用三路干涉仪实现了微定位工作台摆角测量及其主要成分分析。最后,进行了光栅刻线摆角放大和校正实验。结果显示,摆角放大和摆角校正实验已基本达到了预期的效果,对光栅宽度为10.4mm且刻线密度为600line/mm的光栅进行修正后,光栅刻线摆角比校正前降低了64%以上。这些结果表明:采用单压电执行器方法对光栅刻线摆角进行实时修正可有效降低光栅刻线摆角,提高光栅质量;该方法可应用于大面积机械刻划光栅刻线摆角的修正。
李晓天齐向东于海利高键翔冯树龙巴音贺希格
关键词:平面光栅
一种指纹采集光栅的刻制方法及分度机构
本发明属于一种刻划光栅,特别是宽间距三角槽形光栅的刻划方法,以及与此相关的光栅刻划机的分度机构。本发明采用实体被刻材料,一次分度、多次刻划同一槽的去屑刻划方法,实现了刻划指纹采集光栅的目标。分度是采用拨盘上的拨杆拨动分度...
郝德阜齐向东高键翔李英海李春启
文献传递
应用互易定理优化法设计光通信光栅被引量:1
2013年
光栅作为光通信系统中的色散型波分复用器,系统通常要求其在近掠入射条件下具有高衍射效率,传统设计方法给出的光栅闪耀角大,工艺上不易实现。基于光栅电磁场理论,提出用光栅互易定理计算光栅槽形初始值,结合衍射效率等高线法优化光栅槽形的设计方法—互易定理优化法。结果表明,C波段TM波-1级峰值衍射效率理论值为94.9%,测量值为92.1%。较传统光栅设计方法,互易定理优化法的应用降低了光通信光栅的制作难度,提高了衍射效率,为掠入射光栅的研制提供了更好的途径。
张善文营建新高键翔
关键词:光栅衍射互易定理波分复用衍射效率C波段
大型衍射光栅刻划机微定位系统控制器设计被引量:5
2015年
针对衍射光栅刻划机开环控制的定位精度不能满足指标要求的问题,在刻划机已有的状态和结构下,设计了微定位系统的控制器。首先,介绍了衍射光栅刻划机,分析了微定位系统及其定位精度指标。然后,运用系统辨识的方法,设计了微定位系统的扫频实验,建立其数学模型。接着,提出了在已有数学模型的基础上,运用实际测量数据和MATLAB/Simulink软件仿真试凑来设计控制器的方法,并设计了满足精度指标要求的控制器。最后,将设计的控制器应用于微定位系统并进行模拟刻划实验,实验结果可知:所设计的微定位系统控制器定位精度基本满足指标要求,其中峰-峰值小于40 nm,RSM值总体略大于2.8 nm。
糜小涛于宏柱高键翔于海利张善文齐向东
关键词:微定位系统控制器设计数学模型
一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥
一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥,属于光谱技术领域中涉及的一种光栅刻划机刀桥,本发明要解决的技术问题是;提供一种带有导向封闭力机构的大面积光栅刻划机刀桥。解决的技术方案是:包括刀桥、导轨、刀桥承重触点、导向力...
高键翔巴音贺希格张成山
文献传递
基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制
2009年
给出了采用光栅刻划和镀膜技术相结合研制光盘分束光栅的方法。采用光栅刻划机在金属膜上刻制占宽比为0.5的黑白光栅,并由黑白光栅翻制出制作光盘分束光栅的掩模版。通过掩模版对涂覆在K9玻璃基底上的光刻胶实施曝光和显影形成光刻胶矩形浮雕光栅,在理论设计的误差允许范围内,对此浮雕光栅沉积SiO2薄膜,去除残余光刻胶后得到SiO2矩形光栅母版,再经复制工艺制作了环氧树脂光盘分束光栅。测试结果表明,利用光盘分束光栅的纵向和横向加工误差的互补性,可以将光栅辅助光束与读写主光束强度之比的误差控制在±0.03之内。
吴娜张善文宋可平巴音贺希格齐向东高键翔
关键词:光学头精密刻划镀膜技术
共3页<123>
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