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文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信

主题

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机构

  • 3篇电子科技大学

作者

  • 3篇向旺
  • 2篇张庆中
  • 2篇赵翔
  • 1篇张华斌
  • 1篇陈庆华

传媒

  • 1篇传感器世界
  • 1篇现代电子技术

年份

  • 2篇2007
  • 1篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
SiGe HBT及其单片集成电路:低噪声放大器(LNA)的研究
随着无线通信、蓝牙技术、雷达及空间技术的发展,对其射频电路部分的技术指标要求和成本要求越来越苛刻,低噪声放大器(LNA)是整个射频电路部分不可或缺的,它的性能指标直接影响到整个电路、系统的性能指标。全球对新型异质结器件的...
向旺
关键词:单片集成电路低噪声放大器版图设计
三级微波宽带低噪声放大器的设计
2007年
介绍了SiGe异质结晶体管的特点和微波宽带低噪声放大器的设计理论;设计了一个采用SiGe异质结晶体管2sc5761的两级微波宽带低噪声放大器电路,并对电路的各项指标进行了优化设计;运用candence软件对电路进行了DRC,LVS验证。在0.5~6GHz得到12dB以上的增益和不足2.5dB的噪声系数,及优良的线性度。
赵翔张庆中向旺
关键词:异质结晶体管微波宽带低噪声放大器
SiGe HBT及其在射频LNA中的应用被引量:2
2006年
随着无线通信、蓝牙技术、雷达及航天技术的发展,对其射频部分的技术指标要求和成本要求越来越苛刻。新型异质结器件异军突起,不断满足其要求,SiGeHBTLNA就是其中之一。基于Si的制造工艺,SiGeHBT本身就具有很好的成本优势,能有效的将CMOS电路集成到一起,并且经过不断地研究,SiGeHBT已经在技术指标上得到了突飞猛进的发展,达到了未成预料到的结果,使其对GaAs、InP等器件提出了巨大挑战,这些优点都使得它成为主流工艺,为射频不可或缺的一部分。在本文中详细地讨论了SiGeHBTLNA的基本工作原理,以及其直流特性、交流特性、噪声特性等。并讨论了SOI衬底上的SiGeHBTLNA的应用和BiCMOS工艺上SiGeHBTLNA的应用。
向旺张庆中张华斌陈庆华赵翔
关键词:HBTSOI工艺BICMOS工艺
共1页<1>
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