罗明学
- 作品数：2 被引量：0H指数：0
- 供职机构：郑州大学信息工程学院更多>>
- 发文基金：教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>
- 沉积氧气压力对纳米晶硅光致发光的影响
- 2007年
- 用脉冲激光(Nd:YAG激光)沉积技术在硅基上沉积富硅SiO2薄膜(SiO_x,x<2),沉积时氧气压力分别为1.33,2.66,3.99,5.32,6.65,7.98Pa,膜的厚度约为300nm。随后,在氩(Ar)气中1000℃的温度下对沉积的SiOx薄膜进行热退火处理30min,使在SiO2薄膜中生长出硅纳米晶。用光谱分析仪分析其在室温下的光致发光(PL)光谱时发现,随着沉积氧气压力的增强,峰值波长在减小(即蓝移),表明纳米晶硅颗粒在减小;同时,在本研究中的制作条件下,PL强度与沉积氧气压力有较强的依存关系,在2.66-3.99Pa的氧气压力条件下沉积制作的试样,得到最大的PL强度。
- 罗明学李常青杨柳
- 关键词：光致发光脉冲激光沉积
- 纳米晶硅及掺饵纳米晶硅发光特性的研究
- 硅是微电子器件的主要材料，但是硅是间接带隙材料，发光效率很低，人们一直希望将光电子器件与硅基微电子技术联系起来。虽然Ⅲ-Ⅴ族半导体材料，如GaAs等更适于光电子器件，但是由于现存的非常成熟的硅基材料，所以人们很希望能以硅...
- 罗明学
- 关键词：光致发光脉冲激光沉积
- 文献传递
