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高秀英

作品数:5 被引量:5H指数:1
供职机构:电子科技大学物理电子学院更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇学位论文
  • 2篇期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇电子顺磁共振
  • 3篇顺磁共振
  • 3篇自旋
  • 3篇自旋哈密顿参...
  • 3篇哈密顿
  • 3篇BR
  • 3篇参量
  • 3篇V
  • 2篇CL
  • 2篇X
  • 2篇I
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能级
  • 1篇能级
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体场
  • 1篇晶体场理论
  • 1篇SUB
  • 1篇C1
  • 1篇CU

机构

  • 5篇电子科技大学

作者

  • 5篇高秀英
  • 2篇邬劭轶
  • 2篇魏望和
  • 2篇颜微子

传媒

  • 2篇电子科技大学...

年份

  • 1篇2007
  • 4篇2006
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
CsMgX<,3>(X=C1,Br,I)中掺V<'2+>的自旋哈密顿参量的理论研究
电子顺磁共振(EPR)谱是研究掺过渡和稀土金属离子晶体及络合物局部结构、光学和磁学性质等的有力工具。EPR谱常用自旋哈密顿参量(零场分裂,g因子和超精细结构常数A因子等)描述。 对晶体中3d3离子(如V2+,C...
高秀英
关键词:电子顺磁共振自旋哈密顿参量电子能级
文献传递
LiF和AgCl中四角的V^(2+)中心的缺陷结构研究被引量:1
2006年
基于离子簇近似下四角场中3d3离子EPR参量的微扰公式,通过配位场方法对LiF和AgCl中四角V2+中心的缺陷结构和EPR参量进行了理论研究,提出V2+在LiF和AgCl中的缺陷结构模型,即处于杂质离子与C4轴方向上VC间的配体将由于VC的静电排斥作用而朝靠近杂质离子的方向上位移一段距离?Z。根据上述缺陷结构模型得到的EPR参量理论值与实验值吻合较好。
高秀英邬劭轶魏望和颜微子
关键词:电子顺磁共振
LaSrAlO_4中Cu^(2+)的自旋哈密顿参量的理论分析被引量:4
2007年
根据晶体场理论,利用3d^9离子在四角对称(伸长八面体)中自旋哈密顿参量g因子的四阶微扰公式以及超精细结构常数A因子的三阶微扰公式,对掺Cu^(2+)的LaSrAlO_4晶体的自旋哈密顿参量作出了理论分析。其中的四角晶场参量D_s、D_t由重叠模型和杂质中心的局部结构计算,A因子公式中的芯区极化常数κ≈0.286。所得到的计算值与实验符合较好,并从理论上确定了A//为负值。
魏望和邬劭轶高秀英颜微子
关键词:晶体场理论电子顺磁共振
CsMgX<sub>3</sub>(X=Cl,Br,I)中掺V~(2+)的自旋哈密顿参量的理论研究
电子顺磁共振(EPR)谱是研究掺过渡和稀土金属离子晶体及络合物局部结构、光学和磁学性质等的有力工具。EPR谱常用自旋哈密顿参量(零场分裂,g因子和超精细结构常数A因子等)描述。对晶体中3d<sup>3</sup>离子(如...
高秀英
CsMgX3(X=Cl,Br,I)中掺V~(2+)的自旋哈密顿参量的理论研究
电子顺磁共振(EPR)谱是研究掺过渡和稀土金属离子晶体及络合物局部结构、光学和磁学性质等的有力工具。EPR谱常用自旋哈密顿参量(零场分裂,g因子和超精细结构常数A因子等)描述。 对晶体中3d离子(如V,Cr等)的EPR实...
高秀英
关键词:KBR
文献传递
共1页<1>
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