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徐国强

作品数：10 被引量：3H指数：1
供职机构：山东大学更多>>
发文基金：国家电网公司科技项目更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电气工程理学文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 7篇专利
  • 3篇学位论文

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 5篇射流
  • 4篇清洗工艺
  • 4篇晶体
  • 4篇冲蚀
  • 4篇冲蚀作用
  • 3篇电机
  • 3篇抛光
  • 3篇抛光液
  • 3篇晶体表面
  • 2篇电机检测
  • 2篇电机矢量控制
  • 2篇永磁
  • 2篇永磁无刷电机
  • 2篇失磁
  • 2篇矢量控制
  • 2篇矢量控制算法
  • 2篇无刷电机
  • 2篇化学溶剂
  • 2篇方波
  • 2篇方波电机

机构

  • 10篇山东大学

作者

  • 10篇徐国强
  • 4篇黄传真
  • 4篇朱洪涛
  • 4篇刘增文
  • 4篇王军
  • 4篇刘含莲
  • 2篇李晓坤
  • 2篇郭荣生
  • 2篇王松
  • 2篇考永贵
  • 1篇李博
  • 1篇李铮

年份

  • 1篇2022
  • 2篇2021
  • 1篇2020
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2010
共 10 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
乒乓球旋球装置
本发明提供一种乒乓球旋球装置，包括箱体，竖直撑，限位转动连接机构和电机，所述电机设置在竖直撑上，电机轴沿远离电机本体的方向伸出，所述限位转动连接机构设置在竖直撑和箱体上，竖直撑一端与箱体之间通过限位转动连接机构转动连接，...
李博孙绍轩李铮徐国强褚冯键
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大尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺
本发明涉及一种大尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后，注入磁性清洗装置，导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体表面的运动转化为平行KDP晶体表面的运动，避免了垂直于KDP晶体表面的冲...
刘增文黄传真王军朱洪涛刘含莲徐国强
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大尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺
本发明涉及一种大尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后，注入磁性清洗装置，导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体表面的运动转化为平行KDP晶体表面的运动，避免了垂直于KDP晶体表面的冲...
刘增文徐国强黄传真王军朱洪涛刘含莲
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方波电机矢量控制算法
一种方波电机矢量控制算法，包括输出电流为方波的电机，电机检测定子侧电流波部分，坐标变换算法部分，电机转速控制算法部分、励磁电流控制算法部分，转矩电流控制算法部分和PWM算法部分，所述电机检测定子侧电流波部分和坐标变换算法...
王松郑宇赛李晓坤郭荣生考永贵邢燕斌刘昌峰南献茹李启鹏何芮宁吴立业杜俊毅徐国强邓观贞
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铁、钴、镍的钳式配合物的制备及其在碳碳偶联催化反应中的应用
通过碳-氢键的活化直接将有机化合物中的一个/(类/)碳-氢键转化为需要的结构,一直是化学家关注的目标。过渡金属有机化合物在实现非活性的碳-氢键的选择性活化方面,具有不可比拟的优势。sp2型碳-氢键在有机化合物中普遍存在,...
徐国强
关键词：交叉偶联反应铁钴镍
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小尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺
本发明涉及一种小尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后，注入磁性清洗装置，导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体表面的运动转化为平行KDP晶体表面的运动，避免了垂直于KDP晶体表面的冲...
刘增文黄传真王军朱洪涛刘含莲徐国强
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蒙东电网新能源消纳能力评估与消纳措施研究
随着我国能源转型的加速推进,大力发展新能源已成为顺应我国能源生产和消费革命的发展方向。然而在我国新能源快速发展的同时局部地区的新能源消纳矛盾也日益凸显,产生严重的新能源弃电现象造成资源浪费。因此开展新能源消纳能力评估与消...
徐国强
关键词：功率预测
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方波电机矢量控制算法
一种方波电机矢量控制算法，包括输出电流为方波的电机，电机检测定子侧电流波部分，坐标变换算法部分，电机转速控制算法部分、励磁电流控制算法部分，转矩电流控制算法部分和PWM算法部分，所述电机检测定子侧电流波部分和坐标变换算法...
王松郑宇赛李晓坤郭荣生考永贵邢燕斌刘昌峰南献茹李启鹏何芮宁吴立业杜俊毅徐国强邓观贞
小尺寸KDP晶体表面磁-射流清洗装置及清洗工艺
本发明涉及一种小尺寸KDP晶体表面磁‑射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后，注入磁性清洗装置，导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体表面的运动转化为平行KDP晶体表面的运动，避免了垂直于KDP晶体表面的冲...
刘增文徐国强黄传真王军朱洪涛刘含莲
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KDP晶体抛光表面的磁场辅助液体射流清洗技术研究
磁流变抛光后的KDP晶体表面的残留物影响晶体的使用性能，晶体软脆、易潮解、易开裂的特点使其表面残留物难以去除。本文研究了抛光液和KDP晶体表面之间的吸附机理，将化学去除方法和磁场辅助液体射流去除方法结合起来用于KDP晶体...
徐国强
关键词：抛光液
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