赵金余
- 作品数：3 被引量：1H指数：1
- 供职机构：浙江大学航空航天学院流体传动及控制国家重点实验室更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金国际科技合作与交流专项项目更多>>
- 相关领域：机械工程石油与天然气工程更多>>
- 光刻机浸没单元的流场检测与结构优化
- 浸没式光刻机是超大规模集成电路制造的核心设备,从传统光刻到浸没式光刻,浸没液体的传送及控制是其实现过程的一项关键技术。浸没单元是浸没液体传送及控制系统的核心部件,它直接用于最后一片投影物镜和硅片之间,并提供和回收浸没液体...
- 赵金余
- 关键词：浸没式光刻FLUENTPIV
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- 光刻机浸没单元结构参数对流动状态的影响
- 2011年
- 不同的浸没单元结构会影响缝隙流场的流动状态,为了研究浸没单元结构参数对缝隙流场流动的影响规律,通过计算流体动力学(CFD)仿真,对浸没流场的流动进行了数值模拟,开展了不同的浸没单元的注液口形状和流场高度所形成的缝隙流场的流动状态分析。研究结果表明:90°～150°的注液口和0.7 mm～1 mm的缝隙高度为理想的结构参数。
- 赵金余陈晖傅新
- 关键词：浸没式光刻计算流体动力学
- 浸没式光刻机浸没流场的仿真与试验被引量：1
- 2011年
- 浸没式光刻是当前45 nm以下集成电路(Integrated circuit,IC)生产线上唯一实际应用的技术。它通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的浸没液体来提高光刻的分辨率。作为光刻系统中光路的一部分,浸没液体需要保持良好的均一性。然而,曝光过程中光刻胶泄漏污染和曝光温升的问题,会破坏流场的均一性,并最终影响到成像质量。目前主要采用浸没液体的更新带走光刻中产生的污染物和热量,液体的更新效率成为了浸没式光刻机设计中必须考虑的关键问题之一。建立浸没流场的数值模型,并研究结构参数对流场更新效率的影响。运用高速摄像机、数据采集仪等组成的可视化流场检测试验系统开展浸没流场可视化研究,并与仿真结果进行对比,得到一组优化的注液与回收口参数。
- 傅新赵金余陈晖陈文昱
- 关键词：浸没式光刻流场可视化
