冯国英
- 作品数：489 被引量：900H指数：13
- 供职机构：四川大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金固体激光技术国家级重点实验室基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 多光束合成场远场特征的傅里叶分析被引量：10
- 2007年
- 由傅里叶光学原理给出了多光束合成场的远场表达式,在此基础上求出了分布在园环上的相干光源合束后的远场解析式。对光源按角度均匀分布在环上的情况,重点讨论了光源数目为2,3,4情况下远场光强暗环(线)。研究表明,在光源数目为2的情况下,远场图上只有暗线没有暗环;在光源数目为3,4的情况下,远场图上的暗环并非圆形环。由于傅里叶方法运算简单,而且还可用于激光器输出并非严格高斯光束(如光纤激光器、半导体激光器)等情况,因而对分析相干合束有其独特优势和实际意义。
- 石秀梅窦汝海王从刚陈建国孙年春冯国英周寿桓
- 关键词：傅里叶光学相干光源远场分布
- 基于二氧化硅光纤的双微球温度传感器
- 本实用新型涉及一种基于二氧化硅光纤的双微球温度传感器，属于光纤传感技术领域。该双微球温度传感器包括光源、二氧化硅光纤模块和光谱探测器；在所述二氧化硅光纤模块中还进一步包括第一耦合光纤，双微球和第二耦合光纤，所述双微球为一...
- 冯国英鲜佩周寿桓
- 文献传递
- 基于光纤信道的Gbits/s双向光混沌通信研究
- 利用公共信号注入下的1550 nm半导体激光器之间的光混沌同步,本文发展了一种信息双向、长距离保密传输的光混沌通信系统.首先理论分析了该系统的信息加载,信息解调以及系统性能随光纤信道距离的变化.结果表明：两个1550 n...
- 吴加贵冯国英
- 关键词：光通信半导体激光器混沌
- 基于干涉条纹图处理测量透明介质折射率分布的方法
- 本发明涉及一种基于干涉条纹图的处理来测量透明介质折射率分布的方法，属于物质折射率测量技术领域。该方法是利用立体分光棱镜分光面干涉产生干涉条纹图，再通过计算改变输入光透过待测样品与参考介质的光程差所产生的干涉条纹移动数来进...
- 冯国英兰斌张涛周寿桓
- 基于热-流-固耦合分析的薄片激光器温度分布研究
- 基于热-流-固多物理场耦合分析方法，对高平均功率薄片激光器在不同泵浦功率及不同冷却液流速下的温度分布进行了理论分析。仿真结果表明：冷却液的流动会引起增益介质的温度在液体流动方向上逐渐增高，端面高斯泵浦分布的增益介质的最高...
- 杨火木冯国英母健王树同
- 关键词：薄片激光器温度分布
- Br掺杂对石墨烯带隙影响的实验研究（英文）被引量：1
- 2017年
- 石墨烯独特的结构和性能使其在纳米电子、半导体器件等领域成为研究的热点,但其零带隙的特性严重限制了其应用。采用化学气化沉积法制备了多层石墨烯,并使用溴蒸汽对制备的多层石墨烯进行掺杂,分析研究了溴蒸汽化学掺杂对石墨烯带隙的影响。为了对比溴蒸汽掺杂对石墨烯带隙的影响,使用633nm He-Ne光分别测量了石墨烯掺杂前和掺杂后的拉曼光谱,根据拉曼光谱计算了石墨烯费米能级移动与掺杂溴蒸汽之间的关系。实验结果表明:溴蒸汽掺杂对石墨烯拉曼光谱G带产生影响;随着掺杂溴蒸汽体积的增加,拉曼光谱G带向高频移动并逐渐趋于稳定;G带和2D带强度比也迅速增加,并最终趋于稳定。费米能级的移动与G峰位置成线性关系,利用G峰峰值位置与费米能级实验关系式计算了溴掺杂后石墨烯的费米能级,分析了化学掺杂对石墨烯带隙的影响。
- 张秋慧周成虎武兴会黄全振冯国英卢晓翔
- 关键词：石墨烯费米能级拉曼光谱
- 基于多芯光子晶体光纤的平坦超连续谱产生
- 超连续谱光源被广泛应用于精密测量、光谱测量、高速光通信和高清晰高饱和高亮度显示领域，其中，超连续谱在生物医学精密测量和密集波分复用光通信等的应用对其平坦响应度有一定的要求。文中定量给出了描述光谱平坦性的参数;基于非线性薛...
- 李玮冯国英周寿桓
- 关键词：超连续谱平坦性光子晶体光纤色散
- 多路光纤扫描式高功率激光光斑测量仪
- 针对大口径的高功率脉冲激光器系统，传统的光强测量方法具有一定的局限性。根据实际需求设计开发并优化了光纤扫描式的高功率激光光强精密测量系统。该系统采用多路多模光纤作为探头，对高功率激光光斑逐行逐点扫描，光电探测器实现光信号...
- 王树同冯国英杨火木
- 关键词：高功率激光器
- 调制被控激光光束相位的方法及其装置
- 本发明涉及一种调制被控激光光束相位的方法及其装置，属于光通信技术领域。该方法是利用飞秒激光脉冲与KTP晶体相互作用时，KTP晶体的非线性效应引起的灰迹现象使飞秒激光辐照区的折射率发生变化，通过控制折射率变化来调制被控激光...
- 冯国英张秋慧杜永兆
- 文献传递
- 影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟被引量：10
- 2004年
- 利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著。实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布。这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制。
- 曹冲冯国英杨李茗王岚高耀辉朱海波陈建国
- 关键词：偏心距
