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文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

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主题

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机构

  • 9篇西安工业学院
  • 1篇河北大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 9篇方勇
  • 6篇朱昌
  • 4篇潘永强
  • 2篇杨利红
  • 1篇朱保文
  • 1篇弥谦
  • 1篇卢进军
  • 1篇宋俊杰
  • 1篇弥歉
  • 1篇施浣芳
  • 1篇秦君君
  • 1篇刘文军
  • 1篇陈智利

传媒

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  • 2篇西安工业学院...
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇激光与红外
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 5篇2005
  • 4篇2004
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
心电图信号采集与存储系统的设计被引量:3
2004年
 采用低功耗AVR单片机、点阵液晶、存储记录卡以及实时时钟芯片等器件设计了心电图信号采集与存储系统,对心电图信号采集与存储系统从重量、体积、功耗以及功能等方面进行改善,方便使用.对心电图信号采集与存储系统的工作原理、工作流程以及抗干扰等问题进行了分析.
方勇朱昌
关键词:单片机点阵液晶显示器CF卡心电图信号采集
基于CCD采集的Mach-Zehnder干涉条纹图的处理算法被引量:10
2005年
 Mach-Zehnder干涉仪适用于研究气体密度迅速变化的状态。由于气体折射率的变化与其密度的变化成正比,而折射率的变化将使通过气体的光线有不同的光程,因此可通过干涉臂变化对干涉条纹图像效果的影响得到气体密度。实测中,采用图像采集卡和CCD来接收Mach-Zehnder干涉仪产生的条纹图像,再通过计算机对条纹图像的条纹间距进行处理,从而得到气体密度的变化状态。从光干涉理论出发,对Mach-Zehnder干涉条纹图像特征进行了分析,建立了Mach-Zehnder干涉条纹的数学模型,并根据此模型设计了处理Mach-Zehnder干涉条纹图像的算法。算法包括图像的预处理(即图像的噪声提取)、图像的二值化及图像的细化。
杨利红施浣芳陈智利方勇
关键词:图像采集卡CCD折射率二值化计算机
宽束冷阴极和端部霍尔离子源对薄膜透过率和应力的影响被引量:1
2005年
 在宽束冷阴极离子源和端部霍尔离子源辅助沉积情况下,利用南光ZZS700-1/G箱式镀膜机,通过实验分别验证了这两种离子束辅助沉积对光学膜层透过率和应力的影响。通过对大量实验数据进行分析,得出利用低能量和大电流离子束辅助沉积光学薄膜时,膜层性能优于高能量离子束辅助沉积膜层。分析了膜层特性改变的原因,并提出了合理的工艺参数。实验结果表明,低能量、大电流的离子束辅助沉积使光学薄膜的性能更佳。
刘文军弥谦秦君君方勇杨利红
关键词:离子束辅助沉积光学薄膜
电焊护目诱导透射滤光片的研究被引量:1
2005年
利用金属膜和介质膜组合的诱导透射滤光片具有高峰值透过率与宽截止区的特点,设计了在紫外区和红外区截止,在可见光区有指定要求透过率的电焊护目镜。并通过工艺研究,成功地研制出了无需胶合保护的电焊护目镜滤光片,且成功消除了长波旁通带和短波漏带的影响,各种物理性能稳定。并对制备工艺和实验结果进行了分析及讨论。
潘永强卢进军宋俊杰方勇
光学测试固体微粒直径的新方法
2004年
 为满足实时性和精度的要求,对固体微粒直径进行快速、准确测量.文中测试方法利用光学中Mie散射原理和Fraunhofer衍射原理设计了光学测试系统.根据散射光强分布与固体微粒直径的关系,用数学迭代法结合计算机技术对数据进行处理,快速获得固体微粒直径大小.其测量精度可心达到10μm以下.从实验结果表明,实测值与标准值基本符合.与传统测量方法相比较,提高了测量精度,缩短了测量时间,操作更加简例.
方勇朱昌
关键词:数据处理
心电图的采集与存储被引量:1
2004年
介绍了采用AVR单片机ATMEGA128L,点阵液晶显示器MotorolaMC141803AT,CompactFlash记录卡,DS1302时钟芯片等器件设计了心电图采集与存储系统,并对系统的工作原理,系统功能及其设计方法进行了讨论。
朱昌方勇朱保文
关键词:AVR单片机液晶显示器CF卡
用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较被引量:6
2004年
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔离子源的工作原理,并论述了端部霍尔离子源的离子能量、离子分布特性的测试方法;详细论述了电磁场和永久磁场两种模式下,端部霍尔离子源的工作稳定性、离子能量大小以及离子束分布特性的比较。
潘永强朱昌方勇斯瓦德科夫斯基达斯坦科
关键词:离子束辅助镀膜电磁场
端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究被引量:2
2005年
本文通过对端部霍尔离子源特性的研究 ,采用自行研制的用于离子束辅助沉积的端部霍尔离子源成功镀制了类金刚石膜 ,并对采用该离子源制备类金刚石膜的工艺进行了研究和分析。实验结果表明 ,采用端部霍尔离子源镀制类金刚石膜不仅操作简单、可实现大面积沉积 ,而且类金刚石膜的沉积速率较大 ,最大可达 0 .8nm s,其折射率依不同工艺在 1.8~ 2 .2之间可调。并对不同工艺条件下制备的类金刚石膜的硬度进行了测试和分析。
潘永强朱昌弥歉方勇
关键词:类金刚石膜红外光谱
端部中空离子源的磁路研究
2005年
研究了端部中空离子源的磁路设计。在简要叙述端部中空离子源的基本原理及其对磁场要求的基础上,考虑了在设计离子源磁路时的关键问题和解决方法,并给出了实验结果和分析结论。
朱昌潘永强方勇
关键词:离子源
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